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公开(公告)号：CN116284940A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202211096203.6
申请日：2022-09-06
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
IPC分类号： C08J7/06 , C08J7/043 , C08L67/02 , C23C14/35 , C23C14/08 , C23C14/06 , C23C14/20 , C23C14/02
摘要： 本发明提供一种电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜包括层叠设置的基材层、附着力增强层、纳米石墨烯层、金属功能层以及抗氧化层；纳米石墨烯层与金属功能层之间形成异质结构界面。本发明还涉及该电磁屏蔽膜的制备方法。通过利用磁控溅射技术，结合膜层结构设计，制备一种耐候性佳，光学性能优异，透过率可调，导电率低，热导率/电磁屏蔽效果优异的石墨烯银复合透明电磁屏蔽膜。
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公开(公告)号：CN118377071A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410663659.9
申请日：2024-05-27
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
IPC分类号： G02B1/11 , G02B1/18 , G02B1/14 , C23C14/10 , C23C14/08 , C23C14/58 , C23C14/35 , C23C14/12 , C23C14/24
摘要： 本发明公开了一种超疏水纳米多孔二氧化硅广角减反射膜及其制备方法，该减反射膜依次层叠设置的透明基材、界面过渡层、纳米多孔二氧化硅广角减反射层和防污层；其中，纳米多孔二氧化硅广角减反射层具有均匀且孔隙率可控的纳米网状孔隙结构。本发明使用不同比例的SiAl旋转靶材通过卷对卷磁控溅射调控膜层厚度以及结合湿法刻蚀、有机蒸镀技术，可制备超疏水纳米多孔二氧化硅广角AR膜。不同于传统的多层AR膜，超疏水纳米多孔二氧化硅广角AR膜可通过调节SiAl比例控制孔隙率，使其不再受限于材料折射率、镀膜精度以及多层结构膜的苛刻要求。本发明的制备工艺简单、稳定性高、适用于大面积、批量化卷对卷式生产，具有广阔的市场应用前景。
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公开(公告)号：CN118746866A
公开(公告)日：2024-10-08
申请号：CN202410761918.1
申请日：2024-06-13
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
IPC分类号： G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/18 , B05D5/08 , B05D7/04 , C23C14/35 , C23C14/08 , C23C14/06 , C23C14/56 , C23C14/10
摘要： 本发明公开了一种疏水疏油减反射膜及其制备方法，该减反射膜包括依次层叠设置的基材层、HC硬化层、附着力增强层、第一高折射率层、低折射率层、第二高折射率层、过渡层以及喷涂低折射率层。相对于传统的干法工艺，本发明生产工艺简化，生产效率明显提升，且光学反射率可达其相同水平；相比传统湿法工艺，本发明克服了湿法产品反射率低，光学精度差等缺点。本发明在HC与PVD镀层之间增加了附着力增强层，解决了HC镀层与PVD镀层之间附着力差的问题，并有效提升产品耐膜性能；本发明在PVD镀层与喷涂低折射率层之间增加过渡层，解决了PVD工艺与喷涂工艺之间附着力差的问题。
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公开(公告)号：CN117741837A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202410112963.4
申请日：2024-01-26
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种柔性耐弯折抗反射膜及其制备方法，该抗反射膜包括基材层以及形成于所述基材层外层的抗反射层，所述抗反射层包括至少一个第一折射率有机聚合物膜层和至少一个第二折射率有机聚合物膜层，其由所述基材层表面向外以(H‑L)k或L‑(H‑L)k的顺序交替堆叠；其中，H表示第一折射率有机聚合物膜层，L表示第二折射率有机聚合物膜层，k表示交替堆叠的膜层数量。本发明的iCVD工艺构建的多层有机聚合物抗反射薄膜的光学效果与传统物理气相沉积薄膜基本一致，并且其弹性理想、应力小，可以承受2mm曲率半径200000次以上的弯折，能克服传统物理气相沉积无机薄膜应力、脆性大、耐弯折性能差的弊端。
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