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公开(公告)号：CN116381826A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310243969.0
申请日：2023-03-15
申请人： 太仓斯迪克新材料科技有限公司 , 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种减反膜光学卷材及其成膜方法，包括：基材层，此基材层的一表面具有一第一高折射率镀层，此第一高折射率镀层与基材层相背的表面具有一第一低折射率镀层，一耐指纹层溅镀于第二低折射率镀层与第二高折射率镀层相背的表面；第一高折射率镀层和第二高折射率镀层在550nm处折射率n1满足1.8≤n1≤2.6，第一低折射率镀层和第二低折射率镀层在550nm处折射率n2满足1.30≤n2≤1.7，耐指纹层在550nm处折射率n3满足1.15≤n3≤1.5。本发明在可见光波段380~780nm平均反射率≤0.9%，当环境光射向屏幕时提高了屏幕图像清晰度。
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公开(公告)号：CN117062481A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311039451.1
申请日：2023-08-17
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
IPC分类号： H10K59/80 , C23C28/04 , C23C14/10 , C23C14/08 , C23C14/06 , C23C14/35 , C23C16/40 , C23C16/34 , C23C16/30 , C23C16/455
摘要： 本发明公开了一种用作柔性显示器件的水汽阻隔膜，包括基底层和位于基底层外侧的水汽阻隔层，水汽阻隔层由多层交替层叠的磁控溅射层和原子沉积层构成，将磁控溅射层记为S、原子沉积层记为D、基底层记为P，水汽阻隔层中的磁控溅射层和原子沉积层按照以下层叠方式中的任意一种被布置：(S‑D)m‑S‑P顺序、(D‑S)m‑D‑P顺序、(S‑D)m‑P顺序或(D‑S)m‑P顺序，其中m是交替的S和D的数量。本发明将磁控溅射工艺和ALD(原子层沉积)工艺相结合，利用ALD工艺具有良好的缺陷覆盖率的特点，可以覆盖磁控溅射溅射层的缺陷，能够实现10–5g/m2·day级别水汽阻隔膜制备。
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公开(公告)号：CN116815119A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310793488.7
申请日：2023-06-30
申请人： 太仓斯迪克新材料科技有限公司 , 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种用作显示器件的透明高硬度盖窗薄膜及其制备方法，包括依次层叠设置的基材层、硬化层和减反层；所述硬化层为通过卷对卷磁控溅射形成于所述基材层表面的非晶碳氧化硅膜层；所述减反层包括交替层叠设置在硬化层上的N个高折射率层和N个低折射率层，其中N≥1。本发明通过一步卷对卷磁控溅射工艺在柔性基材上沉积碳氧硅(SiOC)即可得到透明的硬化层薄膜，避免了传统先涂布再干法镀增透膜两步法过程繁琐的弊端，并且能解决了湿法涂布存在的硬度不足和厚度偏差大的缺陷；本发明制备的透明高硬度盖窗薄膜550g铅笔硬度≥5H，420‑680nm平均透过率≥94％，兼具高透明和高硬度特性。
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公开(公告)号：CN117560918A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202311505001.7
申请日：2023-11-13
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种透明宽带电磁屏蔽薄膜及其制备方法，该电磁屏蔽薄膜包括由下至上依次堆叠设置的高分子卷材基底、第一金属氧化物层、金属种子层、金属导电层以及第二金属氧化物层；所述金属导电层的构成材料为金属铜银，所述金属种子层的构成材料为金属铜。本发明在银膜沉积前引入超薄的金属铜种子层，作为种子层的金属铜可以提高沉积银原子表面扩散的活化能垒，从而抑制银核在表面的逃逸和扩散并实现超薄连续金属银膜的构建；基于超薄铜银复合薄膜为主体，两侧夹有导电氧化物薄膜结构，能实现对8～40GHZ范围电磁波的高效屏蔽，同时实现可见光范围内较高透过率。
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公开(公告)号：CN115421225A
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202210971813.X
申请日：2022-08-12
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
IPC分类号： G02B1/111
摘要： 本发明提供一种大角度减反射膜，至少包括基底层、功能层以及非传统光学层；其中，非传统光学层为刻蚀层；功能层由若干层交替层叠的第一折射率层、第二折射率层构成,第一折射率层记为H，第二折射率层记为L；且所述第一折射率层、第二折射率层按照(H‑L)～n‑或(L‑H)～n‑顺序布置。本发明还提供了一种光学镜片、成像装置。本发明提供一种可大面积制备，重复性较好，成本低廉，尺寸可控，减反射特性较好的减反射膜。
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公开(公告)号：CN117741837A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202410112963.4
申请日：2024-01-26
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种柔性耐弯折抗反射膜及其制备方法，该抗反射膜包括基材层以及形成于所述基材层外层的抗反射层，所述抗反射层包括至少一个第一折射率有机聚合物膜层和至少一个第二折射率有机聚合物膜层，其由所述基材层表面向外以(H‑L)k或L‑(H‑L)k的顺序交替堆叠；其中，H表示第一折射率有机聚合物膜层，L表示第二折射率有机聚合物膜层，k表示交替堆叠的膜层数量。本发明的iCVD工艺构建的多层有机聚合物抗反射薄膜的光学效果与传统物理气相沉积薄膜基本一致，并且其弹性理想、应力小，可以承受2mm曲率半径200000次以上的弯折，能克服传统物理气相沉积无机薄膜应力、脆性大、耐弯折性能差的弊端。
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公开(公告)号：CN115308820A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210975662.5
申请日：2022-08-12
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
IPC分类号： G02B1/10 , G02B1/18 , G02B1/04 , C23C14/56 , C23C14/35 , C23C14/24 , C23C14/20 , C23C14/12 , C23C14/10 , C23C14/08 , C23C14/06
摘要： 本发明提供一种半透半反防水膜，至少包括基底层、半透半反层以及防水层；半透半反层由若干层交替层叠的第一折射率膜层以及第二折射率膜层构成；其中，第一折射率层记为H，第二折射率层记为L；交替层叠的顺序为(H‑L)m‑H顺序、(H‑L)m顺序、(L‑H)m顺序或L‑(H‑L)m顺序；其中，m是交替的第一折射率膜层和第二折射率膜层的数量。本发明还提供了一种光学镜片、成像装置。本发明制得的防水膜可直接贴合在镜头表面实现所需光学效果，并且具有防水效果，可以提高镜头元件在高温高湿环境中的稳定性。
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公开(公告)号：CN217616431U
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202220677213.8
申请日：2022-03-25
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
摘要： 一种柔性薄膜湿法刻蚀装置，包括放卷辊、收卷辊、刻蚀腔体、清洗腔体、薄膜基材和薄膜监控模块；刻蚀腔体中设有第一悬浮辊，第一悬浮辊上设有刻蚀液喷淋孔，该第一悬浮辊连通一刻蚀液供液机构；清洗腔体中设有第二悬浮辊，第二悬浮辊上设有清洗液喷淋孔，该第二悬浮辊连通一清洗液供液机构；所述薄膜基材通过所述放卷辊放料，依次绕经所述第一悬浮辊、所述第二悬浮辊，并收卷于所述收卷辊；薄膜监控模块包括采集单元和运算控制单元，采集单元对应第一悬浮辊设置，该采集单元工作时将采集得到的数据传输至运算控制单元处进行处理。本装置能够避免柔性薄膜的刻蚀表面受到损伤，保证湿法刻蚀的均匀性，提高产品良率。
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