公开(公告)号：CN1104419C

公开(公告)日：2003-04-02

申请号：CN96199950.0

申请日：1996-12-13

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 小川英则 ,  近藤一见 ,  篠原友一 ,  菅庆三 ,  棚田喜久 ,  栗村宗明 ,  森田清司 ,  内多稔 ,  森丰树 ,  富永道明 ,  薮内洋一

IPC: C07D223/16 ,  A61K31/55 ,  C07D403/06

CPC classification number: C07D223/16 ,  C07D231/12 ,  C07D233/56 ,  C07D249/08 ,  C07D401/12 ,  C07D403/12 ,  C07D417/12

Abstract: 新的式[1]的苯并吖庚因衍生物或其盐：其中，R1为H或卤原子，A为低级亚烷基基团，R2和R3为相同或不同并各自为氢原子、低级烷氧基、具有任选低级烷氧基的取代基的低级烷基等，或者R2和R3可以与它们所连接的氮原子结合在一起形成5-7元饱和杂环基，其中所述杂环基可任选被低级烷基等取代，它显示优秀的抗加压素活性、催产素拮抗活性和加压素激动活性并可以用作加压素拮抗剂、加压素激动剂和催产素拮抗剂。

公开(公告)号：CN1209121A

公开(公告)日：1999-02-24

申请号：CN96199950.0

申请日：1996-12-13

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 小川英则 ,  近藤一见 ,  篠原友一 ,  菅庆三 ,  棚田喜久 ,  栗村宗明 ,  森田清司 ,  内多稔 ,  森丰树 ,  富永道明 ,  薮内洋一

IPC: C07D223/16 ,  A61K31/55 ,  C07D403/06

CPC classification number: C07D223/16 ,  C07D231/12 ,  C07D233/56 ,  C07D249/08 ,  C07D401/12 ,  C07D403/12 ,  C07D417/12

Abstract: 新的式[1]的苯并吖庚因衍生物或其盐:其中,R1为H或卤原子,A为低级亚烷基基团,R2和R3为相同或不同并各自为氢原子、低级烷氧基、具有任选低级烷氧基的取代基的低级烷基等,或者R2和R3可以与它们所连接的氮原子结合在一起形成5—7元饱和杂环基,其中所述杂环基可任选被低级烷基等取代,它显示优秀的抗加压素活性、催产素拮抗活性和加压素激动活性并可以用作加压素拮抗剂、加压素激动剂和催产素拮抗剂。

公开(公告)号：CN103180312B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201180044090.9

申请日：2011-09-12

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 伊藤展明 ,  佐佐木博文 ,  田井国宪 ,  篠原友一

IPC: C07D403/04 ,  C07D409/04 ,  C07D241/38 ,  C07D243/10 ,  C07D401/04 ,  C07D403/10 ,  C07D405/04 ,  C07D405/10 ,  C07D409/10 ,  C07D413/10 ,  C07D417/04 ,  C07D417/10 ,  C07D471/04 ,  C07D491/04 ,  C07D495/04

CPC classification number: A61K31/695 ,  A61K31/498 ,  A61K31/499 ,  A61K31/501 ,  A61K31/502 ,  A61K31/506 ,  A61K31/517 ,  A61K31/5377 ,  A61K31/538 ,  A61K31/551 ,  A61K31/5513 ,  C07D241/38 ,  C07D241/42 ,  C07D243/10 ,  C07D243/12 ,  C07D401/04 ,  C07D401/10 ,  C07D403/04 ,  C07D403/10 ,  C07D405/04 ,  C07D405/10 ,  C07D409/04 ,  C07D409/10 ,  C07D413/10 ,  C07D417/04 ,  C07D417/10 ,  C07D471/04 ,  C07D491/04 ,  C07D495/04 ,  C07D498/04 ,  C07F7/10 ,  C07F7/1804 ,  Y02P20/55

Abstract: 一种由通式(1)表示的杂环化合物或其盐：其中，m、l和n分别代表1或2的整数；X表示-O-或-CH2-;R1代表氢、低级烷基、羟基-低级烷基、保护基团或三-低级烷基甲硅烷氧基-低级烷基；R2和R3是相同的或不同的，且各自独立地表示氢或低级烷基；或者R2和R3结合形成环C3-C8烷基；以及R4表示芳香族基团或杂环基团，其中，所述芳香族或杂环基团可以具有一个或多个任意的取代基。

公开(公告)号：CN103180312A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201180044090.9

申请日：2011-09-12

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 伊藤展明 ,  佐佐木博文 ,  田井国宪 ,  篠原友一

IPC: C07D403/04 ,  C07D409/04 ,  C07D241/38 ,  C07D243/10 ,  C07D401/04 ,  C07D403/10 ,  C07D405/04 ,  C07D405/10 ,  C07D409/10 ,  C07D413/10 ,  C07D417/04 ,  C07D417/10 ,  C07D471/04 ,  C07D491/04 ,  C07D495/04

CPC classification number: A61K31/695 ,  A61K31/498 ,  A61K31/499 ,  A61K31/501 ,  A61K31/502 ,  A61K31/506 ,  A61K31/517 ,  A61K31/5377 ,  A61K31/538 ,  A61K31/551 ,  A61K31/5513 ,  C07D241/38 ,  C07D241/42 ,  C07D243/10 ,  C07D243/12 ,  C07D401/04 ,  C07D401/10 ,  C07D403/04 ,  C07D403/10 ,  C07D405/04 ,  C07D405/10 ,  C07D409/04 ,  C07D409/10 ,  C07D413/10 ,  C07D417/04 ,  C07D417/10 ,  C07D471/04 ,  C07D491/04 ,  C07D495/04 ,  C07D498/04 ,  C07F7/10 ,  C07F7/1804 ,  Y02P20/55

Abstract: 一种由通式(1)表示的杂环化合物或其盐：其中，m、l和n分别代表1或2的整数；X表示-O-或-CH2-;R1代表氢、低级烷基、羟基-低级烷基、保护基团或三-低级烷基甲硅烷氧基-低级烷基；R2和R3是相同的或不同的，且各自独立地表示氢或低级烷基；或者R2和R3结合形成环C3-C8烷基；以及R4表示芳香族基团或杂环基团，其中，所述芳香族或杂环基团可以具有一个或多个任意的取代基。