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公开(公告)号:CN119224371A
公开(公告)日:2024-12-31
申请号:CN202411310146.6
申请日:2024-09-19
Applicant: 华东光电集成器件研究所
IPC: G01P15/12
Abstract: 本发明涉及一种压阻式三轴加速度计制备方法,包括以下步骤,1.在双抛硅片(1)制作空腔(4)和Z轴方向止挡(5);3.将双抛硅片(2)与双抛硅片(1)键合在一起并制作XYZ轴敏感结构(7、8、9)、XYZ轴止挡(10、11);4.在双抛硅片(2)上制作压阻结构(12)和引线(13);5.在双抛硅片(3)制作空腔(14)和Z轴止挡(15)以及通孔(16),通孔填充poly硅(18);6.将双抛硅片(3、2、1)键合,形成本发明的一种压阻式三轴加速度计。本发明的优点,采用全硅结构避免了不同材料之间的应力失配,止挡结构提升了加速度计抗过载能力,不同方向的加速度敏感结构相互独立,避免了不同方向加速度检测存在的干扰。
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公开(公告)号:CN115630569A
公开(公告)日:2023-01-20
申请号:CN202211227758.X
申请日:2022-10-09
Applicant: 华东光电集成器件研究所
IPC: G06F30/27 , G06F18/2411 , G06N3/0442 , G06N3/047 , G06N3/09
Abstract: 本发明涉及毫米波雷达传感器技术领域,且公开了一种应用于自动驾驶的毫米波雷达传感器建模方法,包括以下步骤,通过利用毫米波雷达传感器对周围环境的交通目标进行数据采集,然后对采集的数据目标进行数据处理,其数据处理包括对数据进行噪声数据清洗处理。本发明通过不需要大量的历史数据用于模型训练,满足了目标识别实时性的要求,所提出的模型的实用性较强,预测花费时间短,较为充分地理解了不同目标之间参数的差异,通过设计目标识别模型,进一步提高了算法的识别精度,同时构建多目标检测可进行多目标对比,降低误差概率,使识别的精度得到进一步提高,避免了目标关联的精度低影响目标识别的现象。
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公开(公告)号:CN119263200A
公开(公告)日:2025-01-07
申请号:CN202411318886.4
申请日:2024-09-21
Applicant: 华东光电集成器件研究所
Abstract: 本发明提供一种MEMS器件的焊盘的制备方法,它包括在双抛硅片上依次制备有第一介质层、第一过渡金属层、第一金属层、第二过渡金属层、第二介质层、第三过渡金属层、第二金属层(10)和过渡介质层(11)。本发明通过在焊盘内增加合适的过渡金属层和过渡介质层结构,降低了金属层之间、金属层与介质层之间的应力失配而导致焊盘失效的风险,增加了焊盘可靠性。
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公开(公告)号:CN118929560A
公开(公告)日:2024-11-12
申请号:CN202410812768.2
申请日:2024-06-22
Applicant: 华东光电集成器件研究所
Abstract: 本发明涉及一种具有低电阻纵向布线的MEMS谐振芯片结构,属于MEMS技术领域。它包括由下到上依次设置的衬底层、具有谐振结构的结构层和盖帽层,衬底层和结构层之间通过衬底氧化层形成绝缘键合;盖帽层与结构层通过盖帽键合介质层键合连接;衬底层的内侧设有面向谐振结构的衬底空腔;盖帽层表面设有钝化层,盖帽层的内侧设有面向谐振结构的盖帽浅腔,盖帽层中设有用于信号传导的纵向布线,纵向布线周面设有用于和周侧体硅隔离的纵向绝缘环,纵向布线的外端与外露于钝化层表面的焊盘电性连接、内端通过金硅共晶反应所形成的共晶金属连接在谐振结构上。本发明可有效减小MEMS谐振芯片信号传输的寄生电阻和RC延迟,提高器件性能和稳定性。
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