静电吸附装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100490110C

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200710105051.0

    申请日:2007-05-22

    CPC classification number: H01L21/6831

    Abstract: 本发明是一种静电吸附装置,其用来吸附半导体晶圆、玻璃基板等被吸附物,其特征为:形成有一绝缘层,其覆盖形成于支持基板一面上的静电吸附用电极,且作为吸附上述被吸附物的吸附面,该绝缘层是由含有碳,且含有自硅、铝、钇以及钛选出1种或2种以上的元素,且维氏硬度在Hv50~1000的热分解氮化硼所构成。本发明之静电吸附装置,在将硅晶圆或玻璃基板等被吸附物,以静电吸附于静电吸附装置载置面上,并进行加热、冷却时,能够防止晶圆吸附面或静电吸附装置载置面产生损伤,且对氟系半导体清洗气的耐蚀性优异,使用寿命增长。

    覆碳化钽的碳材料和其制造方法、半导体单晶制造装置用构件

    公开(公告)号:CN109896515B

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN201811468226.9

    申请日:2018-12-03

    Abstract: 本发明涉及覆碳化钽的碳材料和其制造方法、半导体单晶制造装置用构件。[课题]提供制品寿命长的半导体单晶制造装置用构件和覆碳化钽的碳材料。[解决方案]本发明的覆碳化钽的碳材料的特征在于,其为用以碳化钽为主成分的碳化钽覆膜覆盖碳基材表面的至少一部分的覆碳化钽的碳材料,对于碳化钽覆膜,针对面外方向,与(200)面对应的X射线衍射线的强度大于与其他晶面对应的X射线衍射线的强度,其强度比相对于与全部晶面对应的X射线衍射线的强度之和为60%以上。

    热分解氮化硼容器的制造方法及热分解氮化硼容器

    公开(公告)号:CN106245000B

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201610405107.3

    申请日:2016-06-08

    Inventor: 狩野正树

    Abstract: 本发明提供一种热分解氮化硼容器及其制造方法,所述热分解氮化硼容器不易于产生脱膜、剥离等,且最适于培养单晶。为此,本发明提供一种热分解氮化硼容器的制造方法以及热分解氮化硼容器,所述热分解氮化硼容器的制造方法,是制造热分解氮化硼容器的方法,其由以下步骤构成:使用热化学气相沉积法,将热分解氮化硼成膜于碳制的容器模具材料上;通过将所述成膜物从所述容器模具材料卸下,来获得容器形状的成型体;通过氧化处理所述容器形状的成型体,来去除源自所述容器模具材料并附着于表面上的碳;之后,对所述容器形状的成型体,从与模具材料相接侧的面实施薄化处理,形成一容器。

    覆碳化钽的碳材料和其制造方法、半导体单晶制造装置用构件

    公开(公告)号:CN109896515A

    公开(公告)日:2019-06-18

    申请号:CN201811468226.9

    申请日:2018-12-03

    Abstract: 本发明涉及覆碳化钽的碳材料和其制造方法、半导体单晶制造装置用构件。[课题]提供制品寿命长的半导体单晶制造装置用构件和覆碳化钽的碳材料。[解决方案]本发明的覆碳化钽的碳材料的特征在于,其为用以碳化钽为主成分的碳化钽覆膜覆盖碳基材表面的至少一部分的覆碳化钽的碳材料,对于碳化钽覆膜,针对面外方向,与(200)面对应的X射线衍射线的强度大于与其他晶面对应的X射线衍射线的强度,其强度比相对于与全部晶面对应的X射线衍射线的强度之和为60%以上。

    热分解氮化硼容器的制造方法及热分解氮化硼容器

    公开(公告)号:CN106245000A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610405107.3

    申请日:2016-06-08

    Inventor: 狩野正树

    Abstract: 本发明提供一种热分解氮化硼容器及其制造方法,所述热分解氮化硼容器不易于产生脱膜、剥离等,且最适于培养单晶。为此,本发明提供一种热分解氮化硼容器的制造方法以及热分解氮化硼容器,所述热分解氮化硼容器的制造方法,是制造热分解氮化硼容器的方法,其由以下步骤构成:使用热化学气相沉积法,将热分解氮化硼成膜于碳制的容器模具材料上;通过将所述成膜物从所述容器模具材料卸下,来获得容器形状的成型体;通过氧化处理所述容器形状的成型体,来去除源自所述容器模具材料并附着于表面上的碳;之后,对所述容器形状的成型体,从与模具材料相接侧的面实施薄化处理,形成一容器。

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