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公开(公告)号：CN109725506B
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201711046776.7
申请日：2017-10-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提供的一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机，所述基底预对准方法包括选取基准基底，获取所述基准基底的图像；获取待预对准基底的图像；将所述待预对准基底的图像与所述基准基底的图像进行配准，得出完成配准的预对准基底的图像的偏移参数；根据所述偏移参数调整所述待预对准基底的角度，完成基底预对准；所述基底预对准装置包括定位装置，图像采集分析装置以及控制装置。使用本发明提供的一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机，无需在基底上进行特定的标记便可实现对基底的预对准操作，通用性更强，有利于提高生产效率。
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公开(公告)号：CN106933069B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201511021917.0
申请日：2015-12-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
Abstract: 本发明公开了一种硅片预对准方法，包括以下步骤：首先通过定心台、升降台和旋转台对硅片进行定心，使硅片的中心与定心台的中心重合；其次通过图像采集设备对硅片进行图像采集；再次根据图像特征通过划线槽将其由上至下划分为若干个分区；然后对图像进行处理，获取其中满足设定条件的划线槽的中轴线作为广义标记；最后根据该广义标记与指定上片角度的差值，对硅片进行旋转完成定向。本发明根据获取的图像中硅片表面的特征，通过划线槽将图像分成若干分区，并通过图像处理，获取其中最水平的划线槽的中轴线作为广义标记，无需在硅片上做额外的标记，该广义标记受外界因素的影响大大降低，稳定性好，提高了识别的准确度和硅片的预对准精度。
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公开(公告)号：CN105988305B
公开(公告)日：2018-03-02
申请号：CN201510091986.2
申请日：2015-02-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
CPC classification number: G03F9/7092 , G03F1/42 , G03F7/20 , G03F7/70733 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/68 , H01L21/682
Abstract: 本发明公开了一种硅片预对准方法，包括：步骤1：提供硅片，所述硅片周向设置有若干标记；步骤2：对硅片进行定心；步骤3：沿硅片径向移动视觉切换轴，使得硅片上的标记进入到图像采集装置的投影区域内；步骤4：转动硅片，逐个扫描、识别标记，确定标记的坐标；步骤5：根据标记的坐标旋转硅片至上片角度，完成硅片定向。本发明采用识别标记的方式，放弃了识别硅片边缘缺口的方式，避免了对一幅图像进行二值化分割，进一步提高了定向算法的通用性，抗噪声干扰性更强。此外，由于硅片的标记数目较多，采用本发明的方法仅需测量一至两个标记，即可实现硅片的对准。
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公开(公告)号：CN114578655B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202011382563.3
申请日：2020-11-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明实施例公开了一种边缘曝光装置、方法及光刻设备。装置包括预对准模块、边缘曝光模块、运动模块、控制模块及固定模块；运动模块包括X向运动机构、Y向运动机构、Z向升降机构及旋转台，旋转台用于承载硅片；固定模块包括交接台，交接台用于在预对准模块获取硅片的位置误差后承载硅片，控制模块用于根据位置误差控制运动模块调整旋转台的位置，以实现硅片的预对准；控制模块还用于在预对准后控制运动模块从交接台获取硅片，并移动至边缘曝光模块位置处进行边缘曝光。本发明实施例的技术方案，既能同时实现硅片的预对准和边缘曝光功能，又能减少控制对象，具有结构简单紧凑、成本低、易于模块集成调试等优点。
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公开(公告)号：CN111752108A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201910245703.3
申请日：2019-03-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明实施例公开了一种LED照明装置及曝光机。该LED照明装置包括：LED光源模块，光源控制模块，匀光模块，成像模块和视场调整模块；所述光源控制模块与所述LED光源模块连接，用于控制所述LED光源模块的发光状态；所述匀光模块用于对所述LED光源模块发出的光束进行匀光；所述视场调整模块用于调整所述匀光模块出射的光束的视场大小；所述成像模块用于将所述视场调整模块出射的光束投射到照明位置。本发明实施例的方案可有效解决照明装置开关延时、照度低和寿命短的问题，提高了边缘曝光的产率和良率，并节约了备件成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105632971B
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201410697547.1
申请日：2014-11-26
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
CPC classification number: H01L21/67706 , G03F7/2028 , H01L21/67712 , H01L21/68 , H01L21/681 , H01L21/6838 , H01L21/68735
Abstract: 本发明公开了一种硅片处理装置及方法，用以对硅片进行预对准和边缘曝光，该硅片处理装置包括预对准模块、边缘曝光模块、运动模块、控制模块、固定模块、旋转台和定位台；运动模块包括由上到下依次连接的旋转模组、升降模组和直线模组，旋转模组顶端与旋转台相连，旋转模组带动旋转台进行旋转，旋转台下方设有定位台，升降模组带动旋转模组沿竖直方向移动，直线模组的底面与所述固定模块滑动相连，在电机作用下带动升降模组和旋转模组沿固定模块沿水平方向移动；预对准模块和边缘曝光模块分别与硅片两侧边缘相对应。本发明减少了控制对象，简化了控制难度和系统结构设计复杂度，同时降低了预对准的操作复杂度和装置成本。
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公开(公告)号：CN117518725A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202210910499.4
申请日：2022-07-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种清洁方法、清洁系统及光刻设备，利用清洁单元对光刻设备的基板固定单元执行清洁，清洁单元包括可相互切换的清洁部件及压印部件，清洁方法包括：将一测试基板置于光刻设备的基板固定单元上，并利用清洁单元的压印部件在测试基板上产生的压印图形对清洁单元相对基板固定单元执行位置标定；以及，移除测试基板，将清洁单元的压印部件切换为清洁部件，根据位置标定，对基板固定单元执行清洁。本发明中，通过对清洁单元执行相对于基板固定单元的位置标定，提高在执行清洁时清洁单元的位置精度，以减少用于防止清洁部件与承载基板固定单元的工件台碰撞的安全距离，从而增大了清洁范围，提高了清洁效果。
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公开(公告)号：CN114721225A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202110002833.1
申请日：2021-01-04
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventor： 田翠侠
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明实施例公开了一种光刻装置及其应用。光刻装置包括LED光源，LED光源包括多个LED芯片和透镜，每个LED芯片与对应的透镜共光轴；第一类LED芯片的中心位于以中央LED芯片的中心为圆心的第一圆周上，第二类LED芯片的中心位于以中央LED芯片的中心为圆心的第二圆周上，且第一圆周的半径小于第二圆周的半径。本发明实施例的技术方案，可以实现在9.4mm×9.4mm的受光面内，平均能量达到14W/cm2以上，且数值孔径NA
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