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公开(公告)号：CN113311665A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202010124752.4
申请日：2020-02-27
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种定位系统、定位方法和干涉仪的验证方法，所述定位系统包括：照明单元、遮光件、反光件、第一探测器和调焦调平单元。所述照明单元提供的光束经遮光件遮挡，在物镜的像面上形成一暗斑，所述暗斑中心位于物镜的中心光轴上，所述第一探测器检测暗斑中心的水平方向坐标以作为第一位置坐标。所述调焦调平单元的投影件发射出多个光斑，光斑投射于反光件上并经反光件反射形成反射光斑，所述第二探测器接收反射光斑并获取每一光斑的坐标以作为第二位置坐标，从而定位所述调焦调平单元。由此解决光刻机在曝光显影后的关键尺寸与垂向控制理论值存在偏差的问题，改善光刻机的垂向控制性能，提升前道光刻机的曝光成像效果，提高产品的良率。
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公开(公告)号：CN113311665B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202010124752.4
申请日：2020-02-27
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种定位系统、定位方法和干涉仪的验证方法，所述定位系统包括：照明单元、遮光件、反光件、第一探测器和调焦调平单元。所述照明单元提供的光束经遮光件遮挡，在物镜的像面上形成一暗斑，所述暗斑中心位于物镜的中心光轴上，所述第一探测器检测暗斑中心的水平方向坐标以作为第一位置坐标。所述调焦调平单元的投影件发射出多个光斑，光斑投射于反光件上并经反光件反射形成反射光斑，所述第二探测器接收反射光斑并获取每一光斑的坐标以作为第二位置坐标，从而定位所述调焦调平单元。由此解决光刻机在曝光显影后的关键尺寸与垂向控制理论值存在偏差的问题，改善光刻机的垂向控制性能，提升前道光刻机的曝光成像效果，提高产品的良率。
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公开(公告)号：CN114578655B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202011382563.3
申请日：2020-11-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明实施例公开了一种边缘曝光装置、方法及光刻设备。装置包括预对准模块、边缘曝光模块、运动模块、控制模块及固定模块；运动模块包括X向运动机构、Y向运动机构、Z向升降机构及旋转台，旋转台用于承载硅片；固定模块包括交接台，交接台用于在预对准模块获取硅片的位置误差后承载硅片，控制模块用于根据位置误差控制运动模块调整旋转台的位置，以实现硅片的预对准；控制模块还用于在预对准后控制运动模块从交接台获取硅片，并移动至边缘曝光模块位置处进行边缘曝光。本发明实施例的技术方案，既能同时实现硅片的预对准和边缘曝光功能，又能减少控制对象，具有结构简单紧凑、成本低、易于模块集成调试等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115561978A
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202110744357.0
申请日：2021-07-01
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种优化硅片面型垂向控制的测量系统、方法和光刻设备，应用于半导体领域。在本发明实施例中，调焦调平传感器提供精测光斑和至少一组外延光斑，以通过增加的外延光斑对工件台上的硅片面型进行测量，以使工件台根据外延光斑的测量结果进行垂向控制，保证精测光斑在测量时，所述硅片的上表面处于调焦调平传感器的精测范围之内，从而完成硅片面型的捕获检测。本发明的方案可适用于所有的调焦调平传感器的测量方案，提高了调焦调平传感器测量的鲁棒性，以及本发明中的外延光斑可以对当前的粗测光斑技术进行有效的复用和替代，提高了现有技术的复用率，并且去除了量产流程中的全局调平方式，提高了产率。
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公开(公告)号：CN115561969A
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202110750603.3
申请日：2021-07-02
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种多光斑零位偏差标定方法，包括：提供基板，所述基板上具有至少四个测量点；调焦调平系统将同一光束依次投影到每个所述测量点上进行第一次测量，所述光束包含至少两个测量光斑，每次投影至所述测量点上时，同一个所述测量光斑与所述测量点对准，且至少获取一个所述测量光斑测量到的所述基板上对应位置的第一位置信息；将所述基板水平旋转180°，至少获取一个所述测量光斑测量到的所述基板上对应位置的第二位置信息；利用每个所述测量点对应的所述第一位置信息和所述第二位置信息计算出每个所述测量光斑的零位偏差值；本发明提高了多光斑的零位偏差的标定精度。
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公开(公告)号：CN114578655A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202011382563.3
申请日：2020-11-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明实施例公开了一种边缘曝光装置、方法及光刻设备。装置包括预对准模块、边缘曝光模块、运动模块、控制模块及固定模块；运动模块包括X向运动机构、Y向运动机构、Z向升降机构及旋转台，旋转台用于承载硅片；固定模块包括交接台，交接台用于在预对准模块获取硅片的位置误差后承载硅片，控制模块用于根据位置误差控制运动模块调整旋转台的位置，以实现硅片的预对准；控制模块还用于在预对准后控制运动模块从交接台获取硅片，并移动至边缘曝光模块位置处进行边缘曝光。本发明实施例的技术方案，既能同时实现硅片的预对准和边缘曝光功能，又能减少控制对象，具有结构简单紧凑、成本低、易于模块集成调试等优点。
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公开(公告)号：CN112444200B
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN201910804377.5
申请日：2019-08-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种工作台设备及工作台垂向清零误差的测量方法，工作台设备包括：投影物镜、主基板、工作台、控制器和至少两个垂向测量器；每个垂向测量器包括对应设置的光线发射器和光线接收器，设置于主基板靠近工作台的一侧；在垂直于主基板的平面内，对应设置的光线发射器和光线接收器均设置于投影物镜的浸没头的同一侧；光线接收器接收对应光线发射器发射的，并经工作台上第一测量点或第二测量点反射的测量光线；控制器根据第一测量点和第二测量点的垂向高度获取工作台的垂向清零误差。本发明提供了一种工作台设备及工作台垂向清零误差的测量方法，以解决进行垂向清零误差的测量时，一套干涉仪系统无法覆盖工作台的全行程的问题。
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公开(公告)号：CN112444200A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN201910804377.5
申请日：2019-08-28
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种工作台设备及工作台垂向清零误差的测量方法，工作台设备包括：投影物镜、主基板、工作台、控制器和至少两个垂向测量器；每个垂向测量器包括对应设置的光线发射器和光线接收器，设置于主基板靠近工作台的一侧；在垂直于主基板的平面内，对应设置的光线发射器和光线接收器均设置于投影物镜的浸没头的同一侧；光线接收器接收对应光线发射器发射的，并经工作台上第一测量点或第二测量点反射的测量光线；控制器根据第一测量点和第二测量点的垂向高度获取工作台的垂向清零误差。本发明提供了一种工作台设备及工作台垂向清零误差的测量方法，以解决进行垂向清零误差的测量时，一套干涉仪系统无法覆盖工作台的全行程的问题。
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