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公开(公告)号：CN1083938A
公开(公告)日：1994-03-16
申请号：CN93117375.2
申请日：1993-09-09
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/00 , H01L21/312
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/0045
Abstract: 本发明涉及含有结构A的酚醛清漆基树脂和结构B的聚乙烯基酚基树脂的光抗蚀剂组合物，和使用该光抗蚀剂组合物产生图形的方法，由此获得具有很好轮廓和尺寸为0.25μm的图形和满意地保持图形尺寸间的线性。
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公开(公告)号：CN101614381B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200910149964.1
申请日：2009-06-24
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H05K1/0295 , H01L25/0753 , H01L2224/16225 , H05K2201/09227 , H05K2201/09254 , H05K2201/09318 , H05K2201/0949 , H05K2201/09663 , H05K2201/09954 , H05K2201/10106 , H05K2203/173
Abstract: 本发明提供一种副底座、包括副底座的发光器件以及制造方法。该副底座适于安装在其上的器件的AC和DC运行，其包括：基础基板，包括第一表面和第二表面，第一表面与第二表面不同；在第一表面上的导电图案；在第二表面上的第一对第一和第二电极和第二对第一和第二电极；以及延伸穿过第一表面与第二表面之间的基础基板的多个通路，其中导电图案包括沿第一对第一和第二电极的第一电极和第二电极之间的第一电路路径的第一组安装部和两个通路部，以及沿第二对第一和第二电极的第一电极和第二电极之间的第二电路路径的第二组安装部和两个通路部，并且通路部通过通路将导电图案的相应部分连接到第一对第一和第二电极及第二对第一和第二电极中的相应电极。
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公开(公告)号：CN103022314A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210396187.2
申请日：2009-06-24
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H05K1/0295 , H01L25/0753 , H01L2224/16225 , H05K2201/09227 , H05K2201/09254 , H05K2201/09318 , H05K2201/0949 , H05K2201/09663 , H05K2201/09954 , H05K2201/10106 , H05K2203/173
Abstract: 本发明提供一种发光器件，包括：副底座，其包括基础基板、安装部和第一电极及第二电极，所述基础基板包括金属物质，所述金属物质可装满通路或涂上通路的内壁层，所述安装部形成在所述基础基板的一面，且可安装发光元件，所述第一电极及第二电极形成在所述基础基板的另一面，且和所述安装部电连接；磷光体层，为了所述发光元件及所述安装部上产生白色而至少包含黄磷光体或/及红磷光体中之一形成；及透明树脂层，形成在所述磷光体层上。
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公开(公告)号：CN1488995A
公开(公告)日：2004-04-14
申请号：CN03146640.0
申请日：2003-07-10
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/00 , G03F7/038 , G03F7/26 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , Y10S430/143
Abstract: 在微电子衬底上形成抗蚀剂图形，抗蚀剂图形包括抗蚀剂材料。包括水溶性树脂的涂层形成在抗蚀剂图形上，其中水溶性树脂和抗蚀剂材料彼此容易混合，并将它们混合以便在抗蚀剂图形和非混合的涂层之间提供含有抗蚀剂材料和水溶性树脂的混合层。可以硬化混合层，并且可以从硬化的混合层上去掉非混合的涂层。
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公开(公告)号：CN1088525C
公开(公告)日：2002-07-31
申请号：CN95101151.0
申请日：1995-01-10
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F7/70441 , G03F1/36 , G03F7/2061
Abstract: 一种光掩膜及其制造方法通过改善掩膜图形的邻近效应而增加电容器的电容。该光掩膜包括一个透明衬底、一个用于在衬底上限定透光区的遮光掩膜图形，和一个用于抑制透光区内的邻近效应的光透射控制薄膜图形。通过在遮光掩膜图形的各个独立部分之间的透光区内形成一光透射控制薄膜图形抑制了邻近效应，结果可将掩膜图形精确地转移到衬底上去。因此，增加了电容器的表面面积从而提高了所制造的半导体器件的可靠性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1159602A
公开(公告)日：1997-09-17
申请号：CN96105524.3
申请日：1996-03-01
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03B9/02
CPC classification number: G03F7/70091 , G02B5/005
Abstract: 一种控制相干度的新型自动光阑装置，它包括：一可变光阑；和自动控制可变光阑的驱动马达。驱动马达分X轴和Y轴马达，分别用来沿X轴和Y轴精细地移动可变光阑的中心；和一控制可变光阑半径的马达。通过自动控制光阑，光阑的半径可连续改变，光阑中心可沿X和Y轴精细地移动。因此，能够与任何分步机的光轴精确对准。
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公开(公告)号：CN103022314B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201210396187.2
申请日：2009-06-24
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H05K1/0295 , H01L25/0753 , H01L2224/16225 , H05K2201/09227 , H05K2201/09254 , H05K2201/09318 , H05K2201/0949 , H05K2201/09663 , H05K2201/09954 , H05K2201/10106 , H05K2203/173
Abstract: 本发明提供一种发光器件，包括：副底座，其包括基础基板、安装部、第一电极及第二电极、以及穿过所述基础基板延伸的多个通路，所述通路包括金属，所述安装部形成在所述基础基板的一面，且可安装发光元件，所述第一电极及第二电极形成在所述基础基板的另一面，且和所述安装部电连接；透明树脂层，形成在所述发光元件和所述安装部上；以及磷光体层，形成在所述透明树脂层上，包含吸收由所述发光元件产生的光并转换光的波长的磷光体。
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公开(公告)号：CN1066829C
公开(公告)日：2001-06-06
申请号：CN93120819.X
申请日：1993-12-10
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/703 , G03F1/70 , G03F7/2022
Abstract: 一种形成图形的方法改善了光刻胶图形的轮廓。本方法包括下列各步骤：在有台阶的衬底上形成光刻胶层、用第一掩模将光刻胶层作第一次曝光，用第二掩模将由于台阶使光刻胶层很厚的部位作第二次曝光，所述的第二掩膜有一栅图形或一方格盘型图形，以及将曝过光的光刻胶层显影。尤其是，在台阶处的厚光刻胶要进行充足的曝光，从而避免形成桥接或残胶，而获得改善了轮廓的图形。
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