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    光学成像写入系统
    1.
    发明授权
    光学成像写入系统 有权 转让

    公开(公告)号：CN102216849B

    公开(公告)日：2013-06-19

    申请号：CN200980137458.9

    申请日：2009-09-11

    申请人： 派因布鲁克成像系统公司

    发明人： 陈正方 ,  T·莱迪格

    IPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70508

    摘要： 本发明公开了一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的系统及方法。在一实施例中，该光学成像写入系统包含：复数个空间光调制器(SLM)成像单元，其中各该SLM成像单元包含一或多个照明光源、一或多个定线光源、一或多个投影透镜及复数个微镜，该微镜用于将该一或多个照明光源的光投射至相对应的该一或多个投影透镜；及一用以控制该SLM成像单元的控制器，其中当该SLM成像单元于一光刻制程中将光掩膜数据写入基板时，该控制器可分别调整各该SLM成像单元。

    曝光装置、基板处理装置以及器件制造方法
    2.
    发明公开
    曝光装置、基板处理装置以及器件制造方法 无效

    公开(公告)号：CN102834778A

    公开(公告)日：2012-12-19

    申请号：CN201180018579.9

    申请日：2011-04-13

    申请人： 株式会社尼康

    发明人： 木内彻 ,  水谷英夫

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70275 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70791

    摘要： 本发明提供一种曝光装置、基板处理装置以及器件制造方法。曝光装置使沿规定的圆筒面设置的图案在上述圆筒面的圆周方向旋转并将上述图案转印至基板，曝光装置具备：第一投影光学系统，该第一投影光学系统将上述图案中的配置于上述圆筒面的第一区域的第一部分图案的像投影于第一投影区域；第二投影光学系统，该第二投影光学系统将上述图案中的配置于与上述第一区域不同的第二区域的第二部分图案的像投影于与上述第一投影区域不同的第二投影区域；以及引导装置，该引导装置与上述图案的在上述圆周方向的旋转同步地将上述基板向上述第一投影区域以及上述第二投影区域引导。

    曝光方法和曝光装置
    5.
    发明公开
    曝光方法和曝光装置 失效

    公开(公告)号：CN1416019A

    公开(公告)日：2003-05-07

    申请号：CN02146195.3

    申请日：2002-11-04

    申请人： 株式会社东芝

    发明人： 藤泽忠仁 ,  浅野昌史 ,  东木达彦

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/703 ,  G03F9/7034

    摘要： 在扫描曝光时，校正缝隙分量的弯曲分量，以提高成品率。本发明的曝光方法包括：测定所述曝光光不照射的计测区域中的与所述光学系统的光轴方向有关的位置分布的步骤(S103)；将测定的位置分布分离成倾斜分量和2次以上的分量的步骤(S104)；在所述曝光光照射所述计测区域时，根据分离的倾斜分量，来调整被曝光区域面的与所述光学系统的光轴方向有关的位置，同时根据分离的2次以上的分量，来校正所述光学系统的成像特性的步骤(S107)。

    曝光装置
    6.
    发明授权
    曝光装置 有权

    公开(公告)号：CN104937697B

    公开(公告)日：2018-01-16

    申请号：CN201480005571.2

    申请日：2014-08-01

    申请人： LG化学株式会社

    发明人： 朴正岵 ,  辛富建 ,  金在镇 ,  李钟炳

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F1/22

    CPC分类号： G03F7/70058 ,  G03F1/00 ,  G03F1/34 ,  G03F1/50 ,  G03F1/60 ,  G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  G03F7/703 ,  G03F7/7035

    摘要： 本发明涉及一种光掩模，一种曝光装置及一种方法。根据本申请的掩模、曝光装置和方法，可以在圆柱形模具上容易地形成具有亚微米大小的精细图案，并且有图案形成于其中的圆柱形模具可容易地应用于自动化工艺，诸如辊对辊工艺。此外，使用由挠性材料形成的光掩模，因此可以大规模形成具有各种大小的精细图案，并且这些精细图案可以分开地或独立地形成在圆柱形模具的曲面上，本发明在工艺的自由度方面表现出优异的效果。

    圆筒形掩模板系统、曝光装置和曝光方法
    7.
    发明公开
    圆筒形掩模板系统、曝光装置和曝光方法 有权

    公开(公告)号：CN104035286A

    公开(公告)日：2014-09-10

    申请号：CN201310069922.3

    申请日：2013-03-05

    申请人： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

    发明人： 伍强 ,  刘畅 ,  郝静安

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/42 ,  G03F1/44 ,  G03F9/00

    CPC分类号： G03F7/70616 ,  G03F1/42 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70725 ,  G03F9/70

    摘要： 一种圆筒形掩模板系统、曝光装置和曝光方法，其中曝光装置，包括：基台；晶圆载物台组，晶圆载物台组包括若干晶圆载物台，若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动；对准检测单元，进行晶圆的对准；圆筒形掩模板系统，装载圆筒形掩膜板，并使所述圆筒形掩膜板绕中心轴旋转；光学投影单元，将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区；当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置，然后沿扫描方向的单方向扫描时，圆筒形掩膜板绕中心轴旋转，透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆上，对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。进行曝光时，晶圆载物台不需要改变扫描方向，从而节省了曝光时间，提高了曝光效率。