公开(公告)号：CN102687077A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201080054347.4

申请日：2010-10-07

申请人： 派因布鲁克成像系统公司

发明人： T·莱迪格

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70475 ,  G03F7/70508

摘要： 本发明揭露一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的系统及方法。在一实施例中，该方法包含：提供一个具有复数个空间光调制器(SLM)成像单元的平行成像写入系统，其中该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；接收一个待写入基板的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于基板不同区域的分区光掩膜数据图案；辨识出相邻SLM成像单元其相邻成像区之间的重叠区域；根据一组预设的成本函数，决定一个用以合并该重叠区域内相邻成像区的接合路径；以及控制该SLM成像单元，以利用该接合路径，将该分区光掩膜数据图案平行写入基板。

公开(公告)号：CN102656514A

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN201080056687.0

申请日：2010-12-09

申请人： 派因布鲁克成像系统公司

发明人： T·莱迪格

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70291

摘要： 本发明系关于一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的系统及方法。在一实施例中，该方法包含下列步骤：提供具有复数个空间光调变器(SLM)成像单元的平行成像写入系统，其中该等SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；接收待写入基版的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于基板不同区域的分区光掩膜数据图案；辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象；以及藉由执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中，而控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入。

公开(公告)号：CN102216849B

公开(公告)日：2013-06-19

申请号：CN200980137458.9

申请日：2009-09-11

申请人： 派因布鲁克成像系统公司

发明人： 陈正方 ,  T·莱迪格

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70508

摘要： 本发明公开了一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的系统及方法。在一实施例中，该光学成像写入系统包含：复数个空间光调制器(SLM)成像单元，其中各该SLM成像单元包含一或多个照明光源、一或多个定线光源、一或多个投影透镜及复数个微镜，该微镜用于将该一或多个照明光源的光投射至相对应的该一或多个投影透镜；及一用以控制该SLM成像单元的控制器，其中当该SLM成像单元于一光刻制程中将光掩膜数据写入基板时，该控制器可分别调整各该SLM成像单元。

公开(公告)号：CN102362223B

公开(公告)日：2014-06-18

申请号：CN201080012879.1

申请日：2010-03-16

申请人： 派因布鲁克成像系统公司

发明人： 陈正方 ,  T·莱迪格

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70383 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70791

摘要： 本发明公开了一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的系统及方法。公开了一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的方法。在一种实施例中，该方法包括提供一平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一或多个平行阵列；接收一待写入该基板的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；指派一或多个所述SLM成像单元负责处理各该分区光掩膜数据图案；控制该复数个SLM成像单元，以将该复数个分区光掩膜数据图案平行写入该基板；控制该复数个SLM成像单元的移动，使其涵盖该基板的不同区域；及控制该SLM成像单元的移动，使其与该复数个分区光掩膜数据图案的连续写入作业同步。

公开(公告)号：CN102216849A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN200980137458.9

申请日：2009-09-11

申请人： 派因布鲁克成像系统公司

发明人： 陈正方 ,  T·莱迪格

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/62 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70508

摘要： 本发明公开了一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的系统及方法。在一实施例中，该光学成像写入系统包含：复数个空间光调制器(SLM)成像单元，其中各该SLM成像单元包含一或多个照明光源、一或多个定线光源、一或多个投影透镜及复数个微镜，该微镜用于将该一或多个照明光源的光投射至相对应的该一或多个投影透镜；及一用以控制该SLM成像单元的控制器，其中当该SLM成像单元于一光刻制程中将光掩膜数据写入基板时，该控制器可分别调整各该SLM成像单元。

公开(公告)号：CN103097936A

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN201180042657.9

申请日：2011-09-03

申请人： 派因布鲁克成像系统公司

发明人： 陈正方 ,  T·莱迪格

IPC分类号： G02B26/00

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70475 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/70508

摘要： 本发明公开一种制造三维集成电路之系统及方法。在一实施例中，该方法包含：提供一具有多个空间光调制器(SLM)成像单元之成像写入系统，其中该等SLM成像单元系排列成一个或多个平行阵列；接收光罩数据，其中该光罩数据系供写入一三维集成电路之一层或多层；处理该光罩数据，以形成多个对应于该三维集成电路该一层或多层之分区光罩数据图案；指派一个或多个所述SLM成像单元负责处理各该分区光罩数据图案；以及控制该等SLM成像单元，以将该等分区光罩数据图案并行写入该三维集成电路之该一层或多层。所述指派包含至少执行下列其中之一：缩放比例修正、对准状态修正、视点间距修正、转动因子修正及基板变形修正。

公开(公告)号：CN102906723A

公开(公告)日：2013-01-30

申请号：CN201180024597.8

申请日：2011-05-18

申请人： 派因布鲁克成像系统公司

发明人： B·基恩 ,  T·莱迪格

IPC分类号： G06F15/00

CPC分类号： G06T1/20 ,  G03F7/70425 ,  G06T11/40

摘要： 本发明揭露一种在微影制程中将光罩数据图案透过平行同步影像处理机制施加于基板之系统及方法。在一实施例中，该平行同步影像处理系统包括：一图形引擎，其可将一对象划分为多个梯形，并取各梯形之一边，列出一代表该多个梯形之边表；以及一分配器，其可自该图形引擎接收该边表，并将该边表分配至多个扫描线影像处理单元。该系统进一步包括：一同步调度哨符机制，其可监控处理该多个扫描线影像处理单元之多元同步化运作；以及多个缓冲储存器，其可储存来自对应扫描线影像处理单元之影像数据，并根据该同步调度哨符机制输出已储存之影像数据。

公开(公告)号：CN102656515A

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN201080056688.5

申请日：2010-12-09

申请人： 派因布鲁克成像系统公司

发明人： T·莱迪格

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70275 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508

摘要： 本发明涉及一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的系统及方法。在一个实施例中，该方法包含下列步骤：提供具有复数个空间光调制器(SLM)成像单元的平行成像写入系统，其中该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列；接收待写入基板的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于基板不同区域的分区光掩膜数据图案；辨识出基板上一个区域中待受对应SLM成像的对象；沿该对象的边缘选择评估点；配置该平行成像写入系统使其利用该评估点成像该对象；以及藉由控制该SLM将该分区光掩膜数据图案平行写入，而执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中。

公开(公告)号：CN102362223A

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN201080012879.1

申请日：2010-03-16

申请人： 派因布鲁克成像系统公司

发明人： 陈正方 ,  T·莱迪格

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70383 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70791

摘要： 本发明公开了一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的系统及方法。公开了一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的方法。在一种实施例中，该方法包括提供一平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一或多个平行阵列；接收一待写入该基板的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；指派一或多个所述SLM成像单元负责处理各该分区光掩膜数据图案；控制该复数个SLM成像单元，以将该复数个分区光掩膜数据图案平行写入该基板；控制该复数个SLM成像单元的移动，使其涵盖该基板的不同区域；及控制该SLM成像单元的移动，使其与该复数个分区光掩膜数据图案的连续写入作业同步。