内置自测试电路和包括内置自测试电路的温度测量电路

    公开(公告)号:CN113049129A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202011054017.7

    申请日:2020-09-29

    IPC分类号: G01K7/01 G01K15/00

    摘要: 一种温度测量电路,包括:带隙基准电路,被配置为生成与工作温度无关的固定的带隙基准电压;基准电压生成器电路,被配置为通过调整所述带隙基准电压生成测量基准电压;感测电路,被配置为基于偏置电流生成温变电压,其中,所述温变电压根据所述工作温度变化;模数转换器电路,被配置为基于所述测量基准电压和所述温变电压生成指示所述工作温度的第一数字代码;以及模拟内置自测试(BIST)电路,被配置为生成多个标志信号,其指示所述带隙基准电压、所述测量基准电压和与所述偏置电流相对应的偏置电压中的每一个是否包括在预定范围内。

    CMOS温度传感器
    4.
    发明公开
    CMOS温度传感器 审中-公开

    公开(公告)号:CN110243485A

    公开(公告)日:2019-09-17

    申请号:CN201811283439.4

    申请日:2018-10-31

    IPC分类号: G01K7/01

    摘要: 提供一种CMOS温度传感器。所述CMOS温度传感器,包括:带隙基准电路,使用与温度成反比的第一电压和与温度成正比的第二电压输出与温度无关的恒定的带隙基准电压,并使用第二电压产生与温度成正比的第一电流;基准电压产生器,复制第一电流并输出使用第一电压和复制的第一电流产生的基准电压;温度信息电压产生器,复制第一电流并输出与温度成正比的温度信息电压。

    半导体发光装置和显示设备
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113284882A

    公开(公告)日:2021-08-20

    申请号:CN202110149012.0

    申请日:2021-02-03

    摘要: 提供了一种半导体发光装置和显示设备。该半导体发光装置包括:棒形式的发光结构,其包括第一导电类型半导体层、有源层和第二导电类型半导体层,并且具有第一表面、与第一表面相对的第二表面和连接第一表面和第二表面的侧表面;再生长半导体层,其围绕发光结构的整个侧表面,并且具有在沿着侧表面的周边的第一位置处的第一厚度和在沿着侧表面的周边的第二位置处的与第一厚度不同的第二厚度;第一电极,其位于发光结构的第一表面上,并且连接到第一导电类型半导体层;以及第二电极,其位于发光结构的第二表面上,并且连接到第二导电类型半导体层。

    发光装置封装件
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110729321A

    公开(公告)日:2020-01-24

    申请号:CN201910231211.9

    申请日:2019-03-26

    IPC分类号: H01L27/15 H01L33/00 H01L33/54

    摘要: 本公开提供一种发光装置封装件,包括:单元阵列,其具有第一表面和与第一表面相对的第二表面,并且在第一表面的水平延伸线的一部分上包括半导体发光单元,半导体发光单元中的每一个包括第一导电类型半导体层以及顺序地位于包括第一导电类型半导体层的侧壁的层表面上的有源层和第二导电类型半导体层;波长转换单元,其分别对应于半导体发光单元,并且波长转换单元中的每一个布置成对应于第一导电类型半导体层;阻挡结构,其布置在与单元阵列对应的波长转换单元之间;以及开关单元,其布置在阻挡结构中并且电连接到半导体发光单元。

    制造半导体衬底的方法以及用于半导体生长的衬底

    公开(公告)号:CN106206863B

    公开(公告)日:2018-12-14

    申请号:CN201610364734.7

    申请日:2016-05-27

    摘要: 提供了制造半导体衬底的方法以及用于半导体生长的衬底。所述制造半导体衬底的方法可以包括:在生长衬底上形成缓冲层;在所述缓冲层中形成多个开口,所述多个开口穿过所述缓冲层并且彼此分隔开;在所述生长衬底上形成多个腔,所述多个腔排列为分别对应于所述多个开口;在所述缓冲层上生长半导体层,生长所述半导体层包括用所述半导体层填充所述多个开口;以及将所述缓冲层和所述半导体层从所述生长衬底分离,其中所述生长衬底与所述缓冲层之间的分界处的所述多个开口中的每一个的直径小于所述分界处的所述多个腔中的每一个的直径。