包括玻璃板的电子装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112384877B

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN201980046461.3

    申请日:2019-06-24

    Abstract: 根据某些实施例的电子装置包括壳体、第一玻璃板、装饰层和保护层,其中,第一玻璃板联接到壳体并限定内部空间,第一玻璃板包括周边部分,周边部分包括形成玻璃板的边缘的第一、第二、第三、第四和第五表面,第一和第五表面基本上平行,并且第三表面基本上垂直于第一和第五表面;装饰层由第一材料形成,设置在第五表面的第一区域上,使得设置在第四表面和第一区域之间的第二区域未被装饰层覆盖;保护层由第二材料形成并且覆盖第二表面、第三表面、第四表面、第五表面的第二区域和装饰层的一部分。

    滤色器和包括该滤色器的显示装置

    公开(公告)号:CN114624803A

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202111497450.2

    申请日:2021-12-09

    Abstract: 提供了一种包括被构造为发射第一光的第一像素(或颜色转换区域)的滤色器和包括该滤色器的显示装置。第一像素包括(第一)量子点复合物(或包括量子点复合物的颜色转换层),其中,量子点复合物可以包括基质和(例如,任意地)分散在基质中的多个量子点,其中,多个量子点在尺寸分析中表现出包括第一峰值颗粒尺寸和第二峰值颗粒尺寸的多模式分布(例如,双模式分布),其中,第二峰值颗粒尺寸大于第一峰值颗粒尺寸,并且第一峰值颗粒尺寸与第二峰值颗粒尺寸之间的差小于或等于大约5纳米(nm)(例如,小于或等于大约4.5nm)。

    量子点复合物及包括该量子点复合物的滤色器和显示装置

    公开(公告)号:CN113736446A

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN202110586871.6

    申请日:2021-05-27

    Abstract: 提供了一种量子点复合物、包括该量子点复合物的滤色器和显示装置以及量子点组合物,所述量子点复合物包括:基质;以及多个量子点,分散在基质中,其中,多个量子点包括包含铟和磷的半导体纳米晶体核以及设置在半导体纳米晶体核上的半导体纳米晶体壳,并且半导体纳米晶体壳包括锌、硒和硫。多个量子点的算术尺寸大于或等于约8nm,其中,量子点复合物被构造为发射红光,并且其中,当量子点复合物用约450nm至约470nm的波长的光照射小于或等于约500小时的时间段时,量子点复合物的亮度增加小于或等于量子点复合物的初始亮度的约1.2%。

    半导体装置
    6.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN109411532A

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201810403205.2

    申请日:2018-04-28

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置,包括:衬底,包括定义有源区的场区;源区/漏区,位于有源区中;沟道区,位于源区/漏区之间;轻掺杂漏(LDD)区,位于源区/漏区中的一个与沟道区之间;以及栅极结构,位于沟道区上。有源区的上部部分可包括外延生长层,所述外延生长层的晶格常数大于硅(Si)的晶格常数,且源区/漏区以及LDD区可掺杂有镓(Ga)。

    制造半导体装置的方法以及半导体装置

    公开(公告)号:CN108695256A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201810288543.6

    申请日:2018-04-03

    Abstract: 本申请提供了一种制造半导体装置的方法以及半导体装置。该制造半导体装置的方法包括:将衬底的上部图案化,以形成第一有源图案,所述衬底包括具有第一晶格常数的半导体元素;在第一有源图案的上部上执行选择性外延生长工艺,以形成第一源极/漏极区;为第一源极/漏极区掺杂镓;在掺有镓的第一源极/漏极区上执行退火工艺;以及形成连接至第一源极/漏极区的第一接触图案。第一源极/漏极区包括具有大于第一晶格常数的第二晶格常数的半导体元素。

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