公开(公告)号：CN116685712A

公开(公告)日：2023-09-01

申请号：CN202280007839.0

申请日：2022-11-17

Applicant: 韩松化学株式会社 ,  延世大学校产学协力团

Inventor： 吴正道 ,  李炫炅 ,  朴美椤 ,  昔壮炫 ,  朴正佑 ,  金亨俊 ,  郑丞珉 ,  朴宣泳 ,  罗承奎

IPC: C23C16/455

Abstract: 本发明涉及通过蒸镀有机金属化合物(特别是包含稀土类金属的有机金属化合物)来制造优异特性的薄膜的方法以及所制造的薄膜。

公开(公告)号：CN116075603A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202180061563.X

申请日：2021-09-06

Applicant: 韩松化学株式会社

Inventor： 金贤基 ,  朴哲完 ,  文基宁 ,  申艺瑟 ,  曺银晶 ,  昔壮炫 ,  朴正佑

IPC: C23C16/40

Abstract: 本发明涉及热稳定性优异的新型的含第4族金属元素的化合物、包含上述化合物的前体组合物和利用上述前体组合物的薄膜的制造方法。本发明的新型的含第4族金属元素的化合物和包含上述化合物的气相蒸镀前体组合物的热稳定性优异，能够在宽温度范围内进行薄膜蒸镀，热损失导致的残留物少而能够防止工序上的副反应。另外，本发明的气相蒸镀前体组合物能够进行均匀的薄膜蒸镀，由此能够确保优异的薄膜物性。

公开(公告)号：CN111132987B

公开(公告)日：2023-02-24

申请号：CN201880062172.8

申请日：2018-04-27

Applicant: 韩松化学株式会社

Inventor： 朴正佑 ,  昔壮衒 ,  金孝淑 ,  朴珉星

IPC: C07F15/04 ,  C23C16/455 ,  C23C16/18 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及能够通过气相沉积的薄膜沉积的气相沉积化合物，尤其涉及能够应用于原子层沉积(ALD)或化学气相沉积(CVD)并且具有优越的热稳定性和反应性的镍和钴前驱物，以及涉及制备其的方法。

公开(公告)号：CN113242861A

公开(公告)日：2021-08-10

申请号：CN201880100332.3

申请日：2018-12-27

Applicant: 韩松化学株式会社

Inventor： 金孝淑 ,  朴玟星 ,  昔壮衒 ,  朴正佑

IPC: C07F15/06 ,  C23C16/18 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明涉及一种通过气相沉积能够进行薄膜沉积的气相沉积化合物，并且更具体地涉及一种新型钴前体，其可应用于原子层沉积(ALD)或化学气相沉积(CVD)，并显示出优异的反应性、挥发性和热稳定性；一种制备其的方法；以及使用其制造薄膜的方法。

公开(公告)号：CN120019504A

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN202380072163.8

申请日：2023-10-13

Applicant: 韩松化学株式会社

Inventor： 朴昭泫 ,  朴志惠 ,  权贤智 ,  朴攒水 ,  金均泰 ,  赵珉基 ,  金彰凡 ,  权世晚

IPC: H01M4/62 ,  C08L39/02 ,  C08L29/04 ,  C08L31/04 ,  C08L33/02 ,  C08L33/04 ,  C08L33/26 ,  H01M4/139 ,  H01M4/02

Abstract: 本发明涉及一种共聚物组合物，其包含：第一共聚物，所述第一共聚物包含乙烯醇(vinylalcohol)单体单元和乙烯胺(vinylamine)类单体单元；第二共聚物，所述第二共聚物包含乙烯醇单体单元和丙烯酸(acrylicacid)盐类单体单元；以及交联剂。本发明还涉及包含所述共聚物组合物的负极浆料、负极以及二次电池。

公开(公告)号：CN119875429A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202411473831.0

申请日：2024-10-22

Applicant: 三星显示有限公司 ,  韩松化学株式会社

Inventor： 尹熙敞 ,  权承旭 ,  权晓贞 ,  成铉俊 ,  禹柱瀚 ,  尹海心 ,  李光德 ,  河成旻 ,  成宇镛 ,  宋昇勇 ,  蔡胜渊

IPC: C09D11/30 ,  G02B1/04 ,  G02B1/14 ,  G09F9/30

Abstract: 本申请涉及光固化组合物和制造显示装置的方法。光固化组合物包括：光固化低聚物；包括单官能(甲基)丙烯酸酯单体和多官能(甲基)丙烯酸酯单体的光固化单体；包括抗氧化剂和表面添加剂的功能性原料；以及光引发剂。光固化低聚物可包括(甲基)丙烯酸酯、聚酯类(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯和氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯中的至少一种。基于光固化组合物的总重，可以以约15wt％至约25wt％的量包括光固化低聚物，并且光固化低聚物具有约500g/mol至约10000g/mol的重均分子量。

公开(公告)号：CN119530763A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411159227.0

申请日：2024-08-22

Applicant: 韩松化学株式会社

Inventor： 廉圭玄 ,  文基宁 ,  柳大元 ,  昔壮炫

IPC: C23C16/455 ,  H10D62/60 ,  H01L21/02 ,  C23C16/34

Abstract: 本发明涉及新型组合物、包含其的前体组合物、薄膜及其制造方法，具体地，涉及能够应用于原子层蒸镀法或化学气相蒸镀法且反应性、挥发性和热稳定性优异的新型组合物、包含上述新型组合物的前体组合物、利用上述前体组合物的薄膜的制造方法。所述组合物包含化学式1所表示的第一化合物和化学式2所表示的第二化合物。#imgabs0#

公开(公告)号：CN115003769B

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN201980102722.9

申请日：2019-12-05

Applicant: 韩松化学株式会社

Inventor： 申燦浩 ,  禹柱瀚 ,  李哲宇 ,  河成旻 ,  南春来

IPC: C09J4/06 ,  C09J133/04 ,  C09J11/00 ,  C08K5/37

Abstract: 本发明涉及包含至少一种光固化性化合物、光引发剂、热引发剂及含硫醇基化合物的双固化型粘合剂组合物，更详细地，提供如下粘合剂组合物：以规定比例包含光引发剂、热引发剂及含硫醇基化合物，通过紫外线固化过程中产生的热量同时进行热固化，从而可以连紫外线无法透过的遮光部也能够充分固化。

公开(公告)号：CN115380362A

公开(公告)日：2022-11-22

申请号：CN202180027702.7

申请日：2021-04-14

Applicant: 韩松化学株式会社

Inventor： 李炫炅 ,  昔壮衒 ,  朴正佑 ,  朴镇成 ,  洪泰贤 ,  盛佳祯 ,  金旼贞

IPC: H01L21/02 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/56 ,  H01L29/786 ,  H01L29/66

Abstract: 提供了一种用于制造半导体层的方法。该用于制造半导体层的方法可以包括以下步骤：准备衬底，和通过进行使第一反应源与包括In的第一前驱体反应的第一单元工艺和使第二反应源与包括Ga的第二前驱体反应的第二单元工艺以在所述衬底上形成包括铟(In)和镓(Ga)的半导体层。

公开(公告)号：CN113195504A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201880100343.1

申请日：2018-12-27

Applicant: 韩松化学株式会社

Inventor： 金孝淑 ,  昔壮衒 ,  朴正佑 ,  曹银晶

IPC: C07F5/00 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明涉及一种能够使用气相沉积用于薄膜沉积的化合物。特别地，本发明涉及一种能够应用于原子层沉积(ALD)或化学气相沉积(CVD)并且具有优异的热稳定性和反应性的稀土化合物、包括其的稀土前体、制造其的方法及使用其形成薄膜的方法。