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发明公开
含第4族金属元素的化合物、包含其的前体组合物和利用其的薄膜的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN116075603A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202180061563.X

申请日：2021-09-06

Applicant: 韩松化学株式会社

Inventor： 金贤基 , 朴哲完 , 文基宁 , 申艺瑟 , 曺银晶 , 昔壮炫 , 朴正佑

IPC: C23C16/40

Abstract: 本发明涉及热稳定性优异的新型的含第4族金属元素的化合物、包含上述化合物的前体组合物和利用上述前体组合物的薄膜的制造方法。本发明的新型的含第4族金属元素的化合物和包含上述化合物的气相蒸镀前体组合物的热稳定性优异，能够在宽温度范围内进行薄膜蒸镀，热损失导致的残留物少而能够防止工序上的副反应。另外，本发明的气相蒸镀前体组合物能够进行均匀的薄膜蒸镀，由此能够确保优异的薄膜物性。

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