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公开(公告)号：CN112571950A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202011019589.1
申请日：2020-09-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供一种液体喷射装置的控制方法以及液体喷射装置，其目的在于，即使在液体喷射装置中的喷嘴内的液体的物性发生了变化的情况下，也减少与液体的喷射特性相关的误差。所述液体喷射装置具备：压力室，其与喷射液体的喷嘴连通；驱动元件，其使所述压力室内的液体的压力发生变化；驱动电路，其向所述驱动元件供给使从所述喷嘴喷射液体的压力的变化发生的喷射脉冲，所述液体喷射装置的控制方法的特征在于，根据使所述压力室内的液体的压力发生变化时的残余振动，来确定所述喷嘴内的液体的粘度和所述喷嘴内的液体的表面张力，并且，根据所述粘度以及所述表面张力来控制所述喷射脉冲的波形。
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公开(公告)号：CN105455844B
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201510642577.7
申请日：2015-09-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: A61B8/00
Abstract: 本发明披露超声波传感器、探测器、以及电子设备。该超声波传感器具备：振动板；下电极，层叠于振动板，沿着振动板的表面在第一方向上具有长度L，并沿着振动板的表面在与第一方向正交的第二方向上具有长度L以下的宽度Wbe；压电体，层叠于下电极，在第二方向上具有宽度Wpz；以及上电极，层叠于压电体。下电极的宽度Wbe与压电体的宽度Wpz之比Wbe/Wpz为0.1以上0.8以下。
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公开(公告)号：CN101722730B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200910179424.8
申请日：2009-10-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/14233 , B41J2/04581 , B41J2/04588 , B41J2002/14241
Abstract: 本发明提供一种提高了变位特性的液体喷射头、液体喷射装置及执行元件装置。液体喷射头具有：流路形成基板，其形成有与喷射液滴的喷嘴开口连通的压力发生室；和压电元件(300)，其具有第1电极(60)、形成在该第1电极(60)上的压电体层(70)、和形成在该压电体层(70)的与上述第1电极(60)相反侧的第2电极(80)，通过使上述压力发生室产生压力，从上述喷嘴开口喷出液滴；在上述第1电极(60)和上述第2电极(80)未被施加电压的状态下，上述压电体层(70)的内部电场偏向上述第1电极(60)侧、或上述第2电极(80)侧。
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公开(公告)号：CN102205719A
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN201110060738.3
申请日：2011-03-10
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/045 , B41J2/135 , H01L41/083
CPC classification number: H01L41/183 , B41J2/045 , B41J2/055 , B41J2/14233 , B41J2/161 , B41J2/1623 , B41J2/1629 , B41J2/1634 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , B41J2002/14241 , B41J2002/14419 , B41J2202/03 , H01L41/0973 , H01L41/18 , H01L41/1878
Abstract: 本发明提供具有绝缘性高能够抑制泄漏电流的产生并且对环境负担小的压电元件的液体喷射头、液体喷射装置和压电元件以及压电材料。该液体喷射头包括：压力产生室，其与喷嘴开口连通；和压电元件，其具备压电体层和设置于所述压电体层的电极，所述压电体层是包含铋、铁以及铈的钙钛矿型复合氧化物，所述压电体层包含的铈相对于铋和铈的总量的摩尔比是0.01～0.13。
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公开(公告)号：CN102205701A
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN201110056636.4
申请日：2011-03-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/01
CPC classification number: B41J11/002
Abstract: 本发明涉及加热器单元和液体喷射装置，包括：固定装置，能够选择固定状态及解除状态，该固定状态中在打印机主体上固定加热器单元主体，该解除状态解除上述打印机主体和上述加热器单元主体之间的固定；和握持部，在上述握持部处于第1工作位置时，上述固定装置被保持为上述固定状态，在上述握持部处于第2工作位置时，上述固定装置被保持为上述解除状态，与变更上述握持部的工作位置的动作联动，上述固定装置的工作状态发生变化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101954789A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN201010231431.0
申请日：2010-07-16
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/055 , B41J2/14233 , B41J2002/14241 , B41J2002/14419 , B41J2202/03
Abstract: 本发明提供可提高绝缘性并抑制泄漏电流的发生的具有压电元件的液体喷射头及液体喷射装置以及压电元件。本发明的液体喷射头，具备：压力发生室，其与喷嘴开口连通；和压电元件，其具备第1电极、在上述第1电极上形成的压电体层和在上述压电体层的上述第1电极的相反侧形成的第2电极；其中，上述压电体层具有钙钛矿结构和绝缘性，上述钙钛矿结构的A位和氧位分别具有A位金属和氧原子脱离后的空位，并且在上述空位具有氢原子。
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公开(公告)号：CN100580932C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200510134103.8
申请日：2005-12-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L27/108 , H01L27/102 , H01L27/10 , H01L27/00 , H01L29/92 , H01L21/8242 , H01L21/8222 , H01L21/82 , H01L21/02 , H01L21/00 , H01B3/02 , H01G4/06 , C01G1/00
CPC classification number: H01G7/06 , C04B35/493 , C04B35/495 , C04B35/499 , C04B35/624 , C04B35/6264 , C04B35/6303 , C04B2235/3232 , C04B2235/3244 , C04B2235/3251 , C04B2235/3255 , C04B2235/3287 , C04B2235/3296 , C04B2235/3298 , C04B2235/3418 , C04B2235/441 , C04B2235/449 , C04B2235/765 , C04B2235/768 , C04B2235/787 , C23C18/00 , H01G4/1218 , H01G4/1236 , H01G4/1263 , H01L21/02197 , H01L21/02282 , H01L21/31691 , H01L27/11502 , H01L27/11507
Abstract: 一种铁电膜、铁电膜的制造方法、铁电电容器、以及铁电存储器，所述铁电膜101由用通式(Pb1-dBid)(B1-aXa)O3表示的铁电膜构成，其中：B由Zr和Ti中的至少一方构成，X由Nb和Ta中的至少一方构成，a的范围为0.05≤a≤0.4，d的范围为0＜d＜1。根据本发明可以提供具有良好的滞后特性的铁电电容器、以及铁电存储器，此外还可以提供适用于铁电存储器和上述铁电电容器的铁电膜。
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公开(公告)号：CN1295790C
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200410031478.7
申请日：2004-03-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H01L21/02197 , C23C18/1216 , C23C18/1254 , C23C30/00 , C30B5/00 , C30B29/30 , C30B29/32 , H01L21/02282 , H01L21/31691 , H01L27/11502 , H01L41/0805 , H01L41/1876 , H01L41/1878 , H01L41/318
Abstract: 本发明的强电介体薄膜，通过在强电介体钙钛矿材料的A位置离子中至少含有1%以上的4配位Si4+或Ge4+的强电介体Pb(Zr，Ti)O3的B位置上，包含合计为5摩尔%以上、40摩尔%以下的Nb、V、W中的至少一种元素，从而可以显著提高其可靠性。
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公开(公告)号：CN1797771A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200510134103.8
申请日：2005-12-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L27/108 , H01L27/102 , H01L27/10 , H01L27/00 , H01L29/92 , H01L21/8242 , H01L21/8222 , H01L21/82 , H01L21/02 , H01L21/00 , H01B3/02 , H01G4/06 , C01G1/00
CPC classification number: H01G7/06 , C04B35/493 , C04B35/495 , C04B35/499 , C04B35/624 , C04B35/6264 , C04B35/6303 , C04B2235/3232 , C04B2235/3244 , C04B2235/3251 , C04B2235/3255 , C04B2235/3287 , C04B2235/3296 , C04B2235/3298 , C04B2235/3418 , C04B2235/441 , C04B2235/449 , C04B2235/765 , C04B2235/768 , C04B2235/787 , C23C18/00 , H01G4/1218 , H01G4/1236 , H01G4/1263 , H01L21/02197 , H01L21/02282 , H01L21/31691 , H01L27/11502 , H01L27/11507
Abstract: 一种铁电膜、铁电膜的制造方法、铁电电容器、以及铁电存储器，所述铁电膜101由用通式(Pb1－dBid)(B1－aXa)O3表示的铁电膜构成，其中：B由Zr和Ti中的至少一方构成，X由Nb和Ta中的至少一方构成，a的范围为0.05≤a≤0.4，d的范围为0＜d＜1。根据本发明可以提供具有良好的滞后特性的铁电电容器、以及铁电存储器，此外还可以提供适用于铁电存储器和上述铁电电容器的铁电膜。
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公开(公告)号：CN1645617A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN200510002523.0
申请日：2005-01-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L27/10 , H01L21/316 , H01L41/16 , G11C11/22
CPC classification number: H01L27/11507 , C04B35/491 , C04B35/493 , C04B2235/3231 , C04B2235/3239 , C04B2235/3251 , C04B2235/3258 , C04B2235/3287 , C04B2235/3293 , C04B2235/3418 , C04B2235/3427 , C04B2235/76 , C04B2235/765 , C04B2235/768 , C04B2235/787 , C23C18/1216 , H01L21/31691 , H01L27/105 , H01L27/11502 , H01L28/55 , H01L28/65 , H01L41/0805 , H01L41/1876 , H01L41/318
Abstract: 本发明提供一种可以得到可靠性高的铁电装置的铁电体膜，其由用ABO3表示的钙钛矿结构铁电体构成，在A位上包括作为A位补偿离子的Si2+、Ge2+、以及Sn2+中的至少一种，在B位上包括作为B位补偿离子的Nb5+。
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