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公开(公告)号:CN112997058B
公开(公告)日:2024-07-30
申请号:CN201980073431.1
申请日:2019-10-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 傅晋欣 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代
Abstract: 本文描述的实施方式涉及用于测量和表征利用玻璃基板的增强现实和虚拟现实波导结构的性能的设备。波导性能测量系统通常包括:光源,被配置为将光导向波导上的输入耦合光栅区域;以及一个或多个光探测器,被配置为从波导的第二侧上的输出耦合光栅区域收集光。光源和一个或多个光探测器设置在围绕波导定位的一个或多个可调节工作台上。在某些实施方式中,一个或多个可调节工作台被配置为以线性方式移动或以轨道运动围绕波导绕转和/或旋转。
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公开(公告)号:CN113227859B
公开(公告)日:2023-10-24
申请号:CN201980083890.8
申请日:2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中,利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中,利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
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公开(公告)号:CN116184568A
公开(公告)日:2023-05-30
申请号:CN202310137557.9
申请日:2019-10-23
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代
Abstract: 披露一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括:使用灰阶抗蚀剂和光刻在光栅层中形成楔形结构。多个通道形成于所述光栅层中,以在所述光栅层中界定倾斜光栅结构。所述楔形结构和所述倾斜光栅结构是通过使用选择性蚀刻工艺形成的。
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公开(公告)号:CN116157708A
公开(公告)日:2023-05-23
申请号:CN202180061014.2
申请日:2021-06-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 赛捷·托克·加勒特·多莎 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B1/00
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及具有一个或更多个计量特征的光学装置和光学装置计量的方法以提供计量工具位置识别,而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。光学装置包括一个或更多个目标特征。本文描述的目标特征提供计量工具位置识别,而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。在计量工艺中,目标特征允许计量工具确定具有宏观尺度的表面面积的光学装置的一个或更多个位置。目标特征对应于合并在一起的一个或更多个结构、被已移除的一个或更多个结构环绕的合并在一起的一个或更多个结构、或具有一个或更多个轮廓的已移除的一个或更多个结构,由与目标特征相邻的结构来限定所述一个或更多个轮廓。
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公开(公告)号:CN115663442A
公开(公告)日:2023-01-31
申请号:CN202211223884.8
申请日:2018-11-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 迈克尔·于-泰克·扬 , 韦恩·麦克米兰 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 罗伯特·简·维瑟
Abstract: 本文所描述的实施方式涉及用于制造波导组合器的方法。所述方法提供波导组合器,所述波导组合器具有限定精细光栅的由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域。在一个实施方式中,由压印印模形成波导结构,所述压印印模在设置在基板的表面上的抗蚀剂上具有正波导图案以形成负波导结构。将所述无机或混合材料沉积在所述基板上并然后移除所述抗蚀剂以形成具有与由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域中的至少一个相对应的区域的波导结构。
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公开(公告)号:CN115152001A
公开(公告)日:2022-10-04
申请号:CN202180016019.3
申请日:2021-01-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 莫里斯·爱默生·佩普洛斯基 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 托马斯·詹姆斯·索尔迪
IPC: H01J37/305 , H01J37/08 , G02B5/18
Abstract: 提供了一种方法。该方法包含:将设置在第一基板上的第一平面上的第一材料暴露至离子束,以在第一材料中形成第一多个结构,离子束以相对于第一基板的表面法线的离子束角θ引导至第一材料。第一基板被定位于离子束与第一多个结构的第一向量之间的第一旋转角φ1处,第一材料沿着第一方向递增地暴露至离子束,且第一材料对离子束的暴露沿着第一方向变化,以在第一方向中在第一多个结构之间产生深度变化。
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公开(公告)号:CN113874983A
公开(公告)日:2021-12-31
申请号:CN202080037381.4
申请日:2020-05-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 安德烈·P·拉邦特 , 卢多维克·戈代 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: H01L21/027 , H01L21/308 , G03F7/00
Abstract: 本案公开了一种用于形成装置结构的方法。形成装置结构的方法包括使用循环蚀刻处理技术在装置材料层中形成变深度结构。在变深度结构中形成多个装置结构以在其中限定垂直或倾斜的装置结构。使用蚀刻处理形成所述变深度结构以及垂直或倾斜的装置结构。
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公开(公告)号:CN113728250A
公开(公告)日:2021-11-30
申请号:CN202080031521.7
申请日:2020-02-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 塔帕什里·罗伊 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B1/00
Abstract: 本公开内容的实施方式大体上涉及形成光学器件的方法,光学器件包含设置在透明基板上的纳米结构。提供基板作为用于形成光学器件的底座。透明层设置在基板的第一表面上,以及结构层设置在透明表面上。氧化物层设置在基板的与第一表面相反的第二表面上,以及在氧化物层中形成窗口或开口,以暴露出基板的第二表面的一部分。接着,在结构层中形成多个纳米结构,以及移除基板的从窗口延伸至透明层的部分。然后,使透明层的一部分与基板分离以形成光学器件,透明层的该部分具有设置在其上的纳米结构。
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公开(公告)号:CN113242989A
公开(公告)日:2021-08-10
申请号:CN201980083897.X
申请日:2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中,利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中,利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
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