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公开(公告)号：CN110720072B
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN201880036397.6
申请日：2018-05-30
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文描述的实施方式涉及显示设备，例如，虚拟现实和扩增实境显示器和应用。在一个实施方式中，平面的基板具有：形成于其上的阶梯特征和形成于数个特征中的每一特征上的发射器结构。封装层设置在该基板上，并且多个均匀的介电纳米结构形成于该封装层上。由本文公开的设备产生的虚拟图像通过减小在图像平面处的色差来提供改善的图像清晰度。
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公开(公告)号：CN112088298A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201980029120.5
申请日：2019-03-29
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种用于确定光致发光(PL)层的特性的设备，包括：光源，所述光源产生激发光，所述激发光包含来自可见或近可见光谱的光；光学组件，所述光学组件被配置为将激发光引导到PL层上；检测器，所述检测器被配置为接收PL发射，并基于PL发射产生信号，所述PL发射由PL层响应于与PL层相互作用的激发光而产生；以及计算装置，所述计算装置耦接至检测器，且计算装置被配置为接收来自检测器的信号，并基于所述信号确定PL层的特性。
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公开(公告)号：CN112055822A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN201980029310.7
申请日：2019-05-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: G02B3/00
Abstract: 本文所描述的实施方式大体涉及柔性显示装置和具有柔性盖板透镜的盖板透镜组件。在一个或多个实施方式中，提供一种盖板透镜组件，所述盖板透镜组件包括第一柔性盖板透镜、第二柔性盖板透镜、和设置在所述第一柔性盖板透镜与所述第二柔性盖板透镜之间的牺牲粘合。所述第一柔性盖板透镜包括第一硬涂层和第一基板，所述第一硬涂层具有在大约4H至大约9H的范围内的硬度。所述第二柔性盖板透镜包括第二硬涂层，所述第二硬涂层具有在大约2H至大约9H的范围内的硬度。所述第一基板设置在所述第一硬涂层与所述牺牲粘合层之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111971611A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201980024539.1
申请日：2019-04-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 卢多维克·戈代 , 罗伯特·简·维瑟 , 韦恩·麦克米兰
IPC: G02B27/44
Abstract: 本文描述的实施方式涉及制造具有光栅的波导结构的方法，此光栅具有小于约45°的前角与小于约45°的后角。此方法包括将印模压印至设置在基板上的纳米压印抗蚀剂。此纳米压印抗蚀剂经受固化处理。使用脱模方法将此印模以脱模角θ从此纳米压印抗蚀剂脱模。此纳米压印抗蚀剂经受退火处理以形成包括多个光栅的波导结构，这些光栅具有相对于基板表面的第二平面的小于约45°的前角α与后角β。
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公开(公告)号：CN111670487A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201980010034.X
申请日：2019-01-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/033 , H01L21/311 , H01L21/02 , H01L21/285
Abstract: 于此提供于图案化基板的表面上选择性地沉积掩模层的方法和自对准图案化掩模。于一个实施方式中，选择性沉积掩模层的方法包括以下步骤：将图案化基板定位于处理腔室的处理容积中的基板支撑件上；将图案化基板的表面暴露于聚对二甲苯单体气体；于图案化基板上形成第一层，其中第一层包含图案化的聚对二甲苯层；和于第一层上沉积第二层。于另一实施方式中，自对准的图案化掩模包含聚对二甲苯层，聚对二甲苯层包含多个聚对二甲苯特征及多个开口，聚对二甲苯层设置于图案化基板上，图案化基板包含介电层及多个金属特征，多个金属特征包含聚对二甲苯沉积抑制剂金属，及多个聚对二甲苯特征选择性形成于介电层的介电表面上。
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公开(公告)号：CN109923653A
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201780068574.4
申请日：2017-11-07
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 用于鉴定半导体清洁溶液中的污染物的方法及设备，包括：使半导体清洁溶液接触半导体制造部件以形成含有一种或多种不溶性待测分析物的排出液；使该含有一种或多种不溶性待测分析物的排出液接触一光学设备，该光学设备经构造以感测来自该一种或多种待测分析物的荧光及可选的拉曼信号，其中该设备包括电子倍增电荷耦合器件及光栅光谱仪，以用来对该荧光进行光谱色散并将该荧光投射在该电子倍增电荷耦合器件上；及鉴定该一种或多种待测分析物。
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公开(公告)号：CN109564852A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201680088160.3
申请日：2016-08-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/027 , G03F7/00 , G03F9/00
Abstract: 描述使用压印平版印刷进行图案化的方法、用于压印平版印刷的印模、卷对卷基板处理设备的压印辊、及基板处理设备。所述方法包括：在基板上提供导电浆料的层，其中导电浆料的粘度为0.3Pa.s或更高，特别地为1.5pa.s或更高；将印模压印在导电浆料的层中，以产生导电浆料的图案化层；完全地或部分地固化图案化层；及从图案化层释放印模。
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公开(公告)号：CN109219897A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201680085729.0
申请日：2016-05-24
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种掩模组件(100)包括：掩模框(102)及掩模屏(104)，该掩模框(102)及该掩模屏(104)两者以金属材料制成；及金属涂层(105)，该金属涂层(105)安置在该掩模框(102)及该掩模屏(104)中的一或两者的暴露面上。
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