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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111819497A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201980017035.7
申请日：2019-03-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 卢多维克·戈代 , 罗伯特·简·维瑟 , 拿玛·阿加曼 , 克里斯托弗·丹尼斯·本彻 , 韦恩·麦克米兰
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , G03F7/16 , H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/324
Abstract: 本文实施方式描述一种亚微米3D光学材料结构及用于形成该亚微米3D光学材料结构的方法。在第一实施方式中，提供一种在无需平坦化的情况下在基板上形成亚微米3D光学材料结构的方法。该方法包括在基板上沉积待被图案化的材料堆叠，在材料堆叠的一部分上沉积并图案化厚掩模材料，将该材料堆叠向下蚀刻一个水平，修整厚掩模材料的侧面部分，将该材料堆叠再向下蚀刻一个水平，重复修整和蚀刻步骤“n”次以上，及从材料堆叠上剥离厚掩模材料。
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公开(公告)号：CN110770614A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201880038858.3
申请日：2018-04-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 建峰·陈 , 克里斯托弗·丹尼斯·本彻 , D·马克莱
IPC: G02B5/30
Abstract: 本公开整体涉及用于使用Markle-Dyson曝光系统和双重显影(DTD)倍频制造线栅偏振器(WGP)的方法和系统。在一个实施方式中，所述方法包括：将光刻胶层沉积在涂覆铝的显示器衬底之上；使用Markle-Dyson系统通过双重显影将所述光刻胶层图案化以形成光刻胶图案；以及将所述光刻胶图案转移到所述涂覆铝的显示器衬底中以制造具有例如小于或等于约100nm的更精细的间距和增大的频率的WGP。
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公开(公告)号：CN118091808A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202410176783.2
申请日：2019-03-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 卢多维克·戈代 , 罗伯特·简·维瑟 , 拿玛·阿加曼 , 克里斯托弗·丹尼斯·本彻 , 韦恩·麦克米兰
IPC: G02B5/18 , H01L21/027 , H01L21/324 , H01L21/02 , G03F7/00 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03H1/02 , G02B26/08 , G02B30/26
Abstract: 本文实施方式描述一种亚微米3D光学材料结构及用于形成该亚微米3D光学材料结构的方法。在第一实施方式中，提供一种在无需平坦化的情况下在基板上形成亚微米3D光学材料结构的方法。该方法包括在基板上沉积待被图案化的材料堆叠，在材料堆叠的一部分上沉积并图案化厚掩模材料，将该材料堆叠向下蚀刻一个水平，修整厚掩模材料的侧面部分，将该材料堆叠再向下蚀刻一个水平，重复修整和蚀刻步骤“n”次以上，及从材料堆叠上剥离厚掩模材料。
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公开(公告)号：CN111819497B
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN201980017035.7
申请日：2019-03-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 卢多维克·戈代 , 罗伯特·简·维瑟 , 拿玛·阿加曼 , 克里斯托弗·丹尼斯·本彻 , 韦恩·麦克米兰
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , G03F7/16 , H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/324
Abstract: 本文实施方式描述一种亚微米3D光学材料结构及用于形成该亚微米3D光学材料结构的方法。在第一实施方式中，提供一种在无需平坦化的情况下在基板上形成亚微米3D光学材料结构的方法。该方法包括在基板上沉积待被图案化的材料堆叠，在材料堆叠的一部分上沉积并图案化厚掩模材料，将该材料堆叠向下蚀刻一个水平，修整厚掩模材料的侧面部分，将该材料堆叠再向下蚀刻一个水平，重复修整和蚀刻步骤“n”次以
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