公开(公告)号：CN101086631A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200710108846.7

申请日：2007-06-05

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 桥诘彰夫

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/00 ,  H01L21/3105

CPC classification number: B08B3/08 ,  G03F7/422 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置，该基板处理方法用于从基板表面剥离并除去不再使用的抗蚀剂。在该基板处理方法中，向在基板保持装置上保持的基板的表面中央部供给抗蚀剂剥离液。另外，向在基板保持装置上保持的基板的表面周边部供给有机溶剂液体。

公开(公告)号：CN101083205A

公开(公告)日：2007-12-05

申请号：CN200710108704.0

申请日：2007-05-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 广江敏朗 ,  新居健一郎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67086 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67276

Abstract: 本发明涉及一种晶片薄化装置以及晶片处理系统，该晶片薄化装置使至少电路形成面被保护着的晶片浸渍到处理液中而进行处理。所述装置包括：承载台，其用于承载容置器，该容置器按照给定范围的厚度对多张晶片进行分组，并且容置同组的多张晶片；处理槽，其贮存处理液，并容置所述容置器；搬运机构，其在所述承载台与所述处理槽之间搬运容置器；控制部，其操作所述搬运机构，以将容置器按顺序搬运到所述处理槽中，并且，根据组别来改变容置器在所述处理槽中的浸渍时间。

公开(公告)号：CN100352258C

公开(公告)日：2007-11-28

申请号：CN200510106479.8

申请日：2005-09-26

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 浅井浩 ,  竹本康弘

IPC: H04N1/405

CPC classification number: H04N1/4055

Abstract: 本发明提供一种产生阈值矩阵的方法和存储阈值矩阵数据的记录介质，在矩阵区域(720)中，规则排列多个亮调侧网点中心(731)和多个暗调侧网点中心(741)，几乎均匀分布地设置多个参考点(751)。各网点中心(731，741)围绕最近参考点(751)旋转。确定矩阵区域(720)的阈值，使得在多个亮调侧网点中心(731)根据亮调侧上的灰度等级变化而旋转后，半色调网点区域围绕多个亮调侧网点中心(731)而改变；并在多个暗调侧网点中心根据暗调侧上的灰度等级变化而旋转后，半色调网点区域(即接合的网点区域)围绕多个暗调侧网点中心而改变。在利用由此产生的矩阵区域而产生的半色调网点图像中，能够抑制波纹和颗粒。

公开(公告)号：CN101064240A

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN200710101081.4

申请日：2007-04-26

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 金山幸司 ,  茂森和士 ,  金冈雅 ,  宫城聪 ,  安田周一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70991

Abstract: 一种能降低在曝光装置内的载物台等机构的污染的基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置。将仿真基板向在曝光前后进行抗蚀剂涂布处理和显影处理的基板处理装置搬送，其中仿真基板在校准处理中使用，而该校准处理是在对应于液浸曝光的曝光单元中调整图案图像的曝光位置的处理。在基板处理装置中，将接受到的仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到背面清洗处理单元中执行背面清洗处理。其后再次将仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到表面清洗处理单元而执行表面清洗处理。清洗后的仿真基板再次从基板处理装置返回到曝光单元中。由于能够在曝光单元侧使用清洁的仿真基板执行校准处理，因此能够降低基板载物台等曝光单元内的机构的污染。

公开(公告)号：CN101047117A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710091936.X

申请日：2007-03-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 尾崎秀彦

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/66 ,  H01L21/67 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，在该基板处理装置的浓度测量部中，通过混合样品气体和氮气而对样品气体稀释，从而对稀释后的样品气体中所包含的IPA气体的浓度进行测量。并且，将所测量的浓度值(C1)和基于样品气体以及稀释气体的流量所得到的稀释率的倒数(1/P)相乘，而将稀释前的样品气体所包含的IPA气体的浓度(C0)设为C0＝C1×(1/P)而计算出。因此，即使在使用高浓度的IPA气体的情况下，也能够正确测量出IPA气体的浓度。

公开(公告)号：CN101047110A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710087848.2

申请日：2007-03-21

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 宫胜彦

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67

Abstract: 一种基板处理装置以及基板处理方法，防止在使被液体浸湿的基板表面干燥时在基板表面上形成的图案发生破坏，良好地干燥基板表面。冲洗液以盛满的状态附着在通过从冲洗喷嘴(8)喷出冲洗液而经受了冲洗处理的整个基板表面(Wf)上，而形成所谓的桨叶状的冲洗层(21)。并且，邻近挡块(3)的对置面(31)相对基板表面(Wf)邻近配置，在对置面(31)与基板表面(Wf)所夹着的间隙空间(SP)中形成液封层(23)，在此状态下，邻近构件(3)向移动方向(－X)移动，同时向液封层(23)的上游侧端部供给含有能溶解在液体中而使表面张力降低的溶剂成分的溶剂气体。

公开(公告)号：CN101045230A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710091930.2

申请日：2007-03-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义

IPC: B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  G11B7/26 ,  H01L21/304

CPC classification number: B08B1/04 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/67046

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料制成，且具有清洗面，该清洗面与沿着所述基板保持机构上保持的基板的一侧表面的平行方向相交叉；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于所述基板保持机构上保持的基板进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构以使所述清洗面与所述基板保持机构上保持的基板的外周端面相抵接；按压保持机构，其将所述清洗刷对基板的外周端面在所述平行方向上的按压力保持为预先设定的按压力。

公开(公告)号：CN101030528A

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN200710085041.5

申请日：2007-02-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 高桥弘明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H05F3/02 ,  B65G49/05 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B24B37/345 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/68728 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/141

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置以及基板操控方法，该基板处理装置包括：搬运器保持部，其用于保持容纳基板的搬运器；基板保持机构，其在对基板实施规定的处理时保持基板；基板搬送机构，其在由所述搬运器保持部所保持的搬运器和所述基板保持机构之间搬送基板。所述基板保持机构，具有在保持基板时与该基板接触的第一基板接触构件，而在该第一基板接触构件的至少基板接触部包括导电性部，该导电性部接地。所述基板搬送机构，具有在搬送基板时与该基板接触的第二基板接触构件，而在该第二基板接触构件的至少基板接触部包括有导电性部，该导电性部接地。

公开(公告)号：CN101017332A

公开(公告)日：2007-08-15

申请号：CN200710006223.9

申请日：2007-02-07

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 三桥毅 ,  杉本宪司

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种显影装置以及显影方法。将喷出显影液、漂洗液以及氮气的一体喷嘴配置在俯视状态下基板的旋转中心附近。控制部通过对电磁开闭阀进行操作，而在显影过程中使基板旋转的同时持续供给显影液，并在漂洗过程中结束显影液的供给之后即刻就开始漂洗液的供给，从而缩短显影过程的期间。另外，漂洗过程刚结束之后开始供给氮气，而移到干燥过程。由此，即使基板的接触角较大，也能抑制漂洗液的液滴的生成，来防止显影缺陷。

公开(公告)号：CN101013661A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200710007901.3

申请日：2007-01-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种通过处理液对基板进行处理的基板处理装置，维持处理液的处理性能并使基板处理装置的运转率提高的同时，能够降低处理液的消耗量和排液量。基板处理装置(1)在处理液的循环路径的中途具有冷却处理液的冷却机构(25)和除去处理液中的杂质的过滤器(26、27)。由此，使溶解在处理液中的杂质析出，并除去析出的杂质。因此，能够维持处理液的处理性能并对处理液进行再利用。还有，由于降低将处理液更换为新液的频率，所以基板处理装置的运转率提高的同时，处理液的消耗量和排液量被降低。