基板处理装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101047117A

    公开(公告)日:2007-10-03

    申请号:CN200710091936.X

    申请日:2007-03-30

    Inventor: 尾崎秀彦

    Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置,在该基板处理装置的浓度测量部中,通过混合样品气体和氮气而对样品气体稀释,从而对稀释后的样品气体中所包含的IPA气体的浓度进行测量。并且,将所测量的浓度值(C1)和基于样品气体以及稀释气体的流量所得到的稀释率的倒数(1/P)相乘,而将稀释前的样品气体所包含的IPA气体的浓度(C0)设为C0=C1×(1/P)而计算出。因此,即使在使用高浓度的IPA气体的情况下,也能够正确测量出IPA气体的浓度。

    基板处理装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100505157C

    公开(公告)日:2009-06-24

    申请号:CN200710091936.X

    申请日:2007-03-30

    Inventor: 尾崎秀彦

    Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置,在该基板处理装置的浓度测量部中,通过混合样品气体和氮气而对样品气体稀释,从而对稀释后的样品气体中所包含的IPA气体的浓度进行测量。并且,将所测量的浓度值(C1)和基于样品气体以及稀释气体的流量所得到的稀释率的倒数(1/P)相乘,而将稀释前的样品气体所包含的IPA气体的浓度(C0)设为C0=C1×(1/P)而计算出。因此,即使在使用高浓度的IPA气体的情况下,也能够正确测量出IPA气体的浓度。

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