公开(公告)号：CN118791424A

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202410438831.0

申请日：2024-04-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大

IPC: C07D211/60 ,  G03F7/004 ,  C07D211/40 ,  C07D495/08 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  C07D225/02 ,  C07D279/12 ,  C07D203/20 ,  C07D205/04 ,  C07D223/06 ,  C07D207/12 ,  C07C381/12

Abstract: 提供鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。[课题]提供在远紫外线光刻和EUV光刻中的LWR、分辨率优异且能够抑制抗蚀图案倒塌的化学增幅抗蚀剂组合物、其中使用的鎓盐和使用该抗蚀剂组合物的图案形成方法。[解决手段]一种用下述式(1)表示的鎓盐。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118732395A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410367375.5

申请日：2024-03-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  渡边聪 ,  增永惠一 ,  小竹正晃 ,  松泽雄太

IPC: G03F7/038 ,  G03F1/50 ,  G03F1/76 ,  G03F1/78 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供能够改善图案形成时的分辨性，且得到LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。本发明为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，含有：(A)光酸产生剂，由下式(A)表示的鎓盐构成；及(B)基础聚合物，包含含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118666653A

公开(公告)日：2024-09-20

申请号：CN202410293726.2

申请日：2024-03-14

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  渡边聪 ,  船津显之 ,  增永惠一 ,  小竹正晃 ,  松泽雄太

IPC: C07C43/15 ,  C08F8/00 ,  G03F7/039 ,  C08F12/24 ,  C07C43/162 ,  C07C43/166 ,  C07C43/176 ,  C07C43/168 ,  C07C43/225 ,  C07C205/34 ,  C07D493/08 ,  C07C43/188 ,  C07C43/172 ,  C07C43/17 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及缩醛修饰剂、聚合物、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明课题：提供具有极高孤立间距分辨性，LER小，矩形性优异，抑制显影负载及残渣缺陷的影响，同时蚀刻耐性、图案崩塌受抑制的化学增幅正型抗蚀剂组成物；用以制造用于该抗蚀剂组成物中的基础聚合物的缩醛修饰剂；经该缩醛修饰剂修饰的聚合物；及抗蚀剂图案形成方法。本发明解决手段：提供具有会成为脂肪族性或芳香族性羟基保护基的三键的基团的缩醛修饰剂；含有在侧链具有芳香族性羟基被下式(AL‑1)或(AL‑2)表示的酸不稳定基保护而成的结构的重复单元A1，且会因酸的作用而脱保护并成为碱可溶性聚合物；及包含该聚合物的化学增幅正型抗蚀剂组成物。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118388443A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202410103957.2

申请日：2024-01-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  渡边聪 ,  增永惠一 ,  小竹正晃 ,  松泽雄太

IPC: C07D327/08 ,  C07C309/43 ,  C07D333/76 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  G03F7/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可产生具有适当的酸强度且扩散小的酸的鎓盐、含有其的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段是一种鎓盐，以下式(A)表示。#imgabs0#

公开(公告)号：CN117865865A

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN202311310519.5

申请日：2023-10-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大

IPC: C07C381/12 ,  C07C311/21 ,  C07C311/08 ,  C07C311/09 ,  C07C311/14 ,  C07C233/81 ,  C07C233/63 ,  C07C25/18 ,  C07C211/63 ,  C07D333/54 ,  C07D333/76 ,  C07D327/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供在光刻中，为高感度且分辨度优良，可改善LWR、CDU，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的抗蚀剂组成物及其所使用的新颖鎓盐。该课题的解决手段为一种鎓盐，其特征为：是下述通式(1)表示者。#imgabs0#式中，n1为0或1的整数。n2为0～3的整数。R1a为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基。n3为0～3的整数。R1b为也可含有杂原子的碳数1～36的烃基。XA为和相邻的‑NH一起形成酰胺键的对应的羰基、或和相邻的‑NH一起形成磺酰胺键的对应的磺酰基中的任一者。n4为1或2的整数。Z+表示鎓阳离子。

公开(公告)号：CN117683173A

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN202311164217.1

申请日：2023-09-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  铃木贵大 ,  提箸正义 ,  长谷川幸士

IPC: C08F220/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18

Abstract: 本发明涉及聚合物、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供：尤其在电子束及波长13.5nm的极紫外线(EUV)中，为高感度、高分辨率、高对比度，且可形成LWR及CDU小的图案，同时蚀刻耐性优良的抗蚀剂组成物中所含有的聚合物、含有该聚合物的抗蚀剂组成物、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种聚合物，其特征在于，含有下式(A‑1)表示的重复单元、及选自下式(B‑1)、(B‑2)、(B‑3)、及(B‑4)中的任意1种以上表示的通过曝光而产生酸的重复单元、及上述式(A‑1)表示的重复单元以外的下式(a‑1)或(a‑2)表示的重复单元。#imgabs0#

公开(公告)号：CN117148675A

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202310637442.6

申请日：2023-06-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  福岛将大 ,  小竹正晃 ,  渡边聪

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  C08L25/18 ,  G03F1/56 ,  G03F1/76

Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供改善图案形成时的分辨性，且可以得到LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。解决手段是一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，包含：(A)含有选自下式(A1)表示的锍盐及下式(A2)表示的錪盐中的至少1种的酸产生剂、及(B)包含含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物的基础聚合物。

公开(公告)号：CN116736633A

公开(公告)日：2023-09-12

申请号：CN202310225750.8

申请日：2023-03-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  福岛将大

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。发明课题提供正型、负型皆是高感度且LWR、CDU有所改善的抗蚀剂材料、及使用其的图案形成方法。解决手段是一种抗蚀剂材料，包含淬灭剂，该淬灭剂含有具有经含氮原子的环族基及硝基取代的苯环的芳香族羧酸的锍盐。

公开(公告)号：CN113045465A

公开(公告)日：2021-06-29

申请号：CN202011454985.7

申请日：2020-12-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  及川健一 ,  小林知洋 ,  福岛将大

IPC: C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D335/12 ,  C07D327/08 ,  C07D339/08 ,  C07D279/20 ,  C07C25/18 ,  C07C39/367 ,  C07C69/708 ,  C07C43/225 ,  C07D347/00 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D327/06 ,  C07D295/00 ,  C07C69/76 ,  C07C69/84 ,  C07C205/58 ,  C07C233/54 ,  C07C69/92 ,  C07C69/86 ,  C07C69/94 ,  C07D307/54 ,  C07D307/33 ,  C07C59/135 ,  C07C69/753 ,  C07C69/40 ,  C07C69/732 ,  C07C69/36 ,  C07C69/96 ,  C07C59/56 ,  C07C69/07 ,  C07C69/63 ,  C07C59/64 ,  C07D307/80 ,  C07C69/78 ,  C07C69/767 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。

公开(公告)号：CN111499500A

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN202010077624.9

申请日：2020-01-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  长泽贤幸 ,  长谷川幸士 ,  提箸正义 ,  福岛将大

IPC: C07C43/23 ,  C08F220/38 ,  C08F212/14 ,  H01L51/52

Abstract: 本发明提供一种适合用作燃料电池用或导电材料用的掺杂剂的导电聚合物用高分子化合物与其制备方法，该导电聚合物用高分子化合物由共聚聚合物形成，该共聚聚合物含有具有氟磺酸、氟磺酰亚胺基、正羰基氟磺酰胺基的重复单元与具有3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基异丁醚基的苯乙烯的重复单元。使用下述通式(1)所表示的聚合性单体与选自具有由氟磺酸等的锂盐、钠盐、钾盐、氮化合物盐构成的盐结构的单体中的一种以上的单体，进行聚合反应，通过离子交换，将通过聚合反应而得到的聚合物的重复单元的盐结构变换为氟磺酸等。[化学式1]