公开(公告)号：CN109212903A

公开(公告)日：2019-01-15

申请号：CN201810721204.2

申请日：2018-07-04

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 铃木贵大 ,  土门大将 ,  小竹正晃 ,  增永惠一 ,  渡边聪

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，缺陷少、且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物，以及使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述抗蚀剂组合物的特征在于，包括：(A)包含阴离子及阳离子、且在所述阳离子中具有下述通式(A1)表示的局部结构的锍盐；以及(B)包含下述通式(B1)表示的重复单元的高分子化合物。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN117683173A

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN202311164217.1

申请日：2023-09-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  铃木贵大 ,  提箸正义 ,  长谷川幸士

IPC: C08F220/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18

Abstract: 本发明涉及聚合物、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供：尤其在电子束及波长13.5nm的极紫外线(EUV)中，为高感度、高分辨率、高对比度，且可形成LWR及CDU小的图案，同时蚀刻耐性优良的抗蚀剂组成物中所含有的聚合物、含有该聚合物的抗蚀剂组成物、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种聚合物，其特征在于，含有下式(A‑1)表示的重复单元、及选自下式(B‑1)、(B‑2)、(B‑3)、及(B‑4)中的任意1种以上表示的通过曝光而产生酸的重复单元、及上述式(A‑1)表示的重复单元以外的下式(a‑1)或(a‑2)表示的重复单元。#imgabs0#

公开(公告)号：CN107935899B

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201710945782.X

申请日：2017-10-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  藤原敬之 ,  谷口良辅 ,  本田和也 ,  铃木贵大

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法。本发明提供具有式(1)的锍化合物，其中R1、R2和R3是可含有杂原子的C1‑C20一价烃基，p＝0‑5，q＝0‑5，并且r＝0‑4。通过光刻处理包含该锍化合物的抗蚀剂组合物，以形成具有改进的LWR和图案塌陷性的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN107935899A

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201710945782.X

申请日：2017-10-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  藤原敬之 ,  谷口良辅 ,  本田和也 ,  铃木贵大

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法。本发明提供具有式(1)的锍化合物，其中R1、R2和R3是可含有杂原子的C1-C20一价烃基，p＝0-5，q＝0-5，并且r＝0-4。通过光刻处理包含该锍化合物的抗蚀剂组合物，以形成具有改进的LWR和图案塌陷性的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN118838116A

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN202410502699.5

申请日：2024-04-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 樋田源太郎 ,  小林知洋 ,  铃木贵大

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/38 ,  G03F7/004

Abstract: 一种化学增幅负型抗蚀剂组合物和图案形成方法。[课题]提供具有高溶解对比度、优异的CDU和LWR性能的化学增幅负型抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的图案形成方法。[解决手段]一种化学增幅负型抗蚀剂组合物，其包含(A)聚合物P和(B)交联剂X，所述聚合物P包含规定结构的通过曝光而产生酸的重复单元、规定结构的通过酸的作用发生分解而使相对于显影液的溶解性发生变化的重复单元、以及具有酚性羟基的重复单元，所述交联剂X为被选自羟甲基、烷氧基甲基和酰氧基甲基中的至少1种基团取代的、三聚氰胺化合物、甘脲化合物、脲化合物或环氧化合物。

公开(公告)号：CN109212903B

公开(公告)日：2022-03-29

申请号：CN201810721204.2

申请日：2018-07-04

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 铃木贵大 ,  土门大将 ,  小竹正晃 ,  增永惠一 ,  渡边聪

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，缺陷少、且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物，以及使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述抗蚀剂组合物的特征在于，包括：(A)包含阴离子及阳离子、且在所述阳离子中具有下述通式(A1)表示的局部结构的锍盐；以及(B)包含下述通式(B1)表示的重复单元的高分子化合物。[化学式1][化学式2]