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公开(公告)号：CN103144027A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310113402.8
申请日：2013-04-02
Applicant: 清华大学
IPC: B24B41/047
Abstract: 本发明公开了一种用于抛光头的气缸。所述气缸包括缸体，缸体内具有腔室，缸体上设有第一和第二进气通道；活塞，活塞设在腔室内以将腔室分隔为上子腔室和下子腔室，其中第一进气通道与上子腔室连通且第二进气通道与下子腔室连通；和活塞杆，活塞杆设在腔室内且活塞杆的下端伸出缸体，活塞杆与活塞相连以便在活塞的带动下上下移动，其中腔室的顶壁和活塞杆的上表面中的一个上设有凹槽，腔室的顶壁和活塞杆的上表面中的另一个上设有配合在凹槽内的凸起，凹槽的形状与凸起的形状适配以便缸体带动活塞杆旋转。根据本法明实施例的用于抛光头的气缸不仅可以带动晶圆上下移动，而且可以传递较大的扭矩。
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公开(公告)号：CN102335877A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN201110306986.1
申请日：2011-10-11
Applicant: 清华大学
IPC: B24B57/02
Abstract: 本发明公开了一种抛光液输送装置，所述抛光液输送装置包括：抛光液储存容器；抛光液输送管，抛光液输送管的进液端与抛光液储存容器相连；开关阀，开关阀设在抛光液输送管上用于接通和断开抛光液输送管；输送泵，输送泵设在抛光液输送管上以将抛光液储存容器内的抛光液从抛光液输送管的出液端排出，其中输送泵位于抛光液储存容器和开关阀之间；和减压阀，减压阀设在抛光液输送管上且位于输送泵和开关阀之间用于稳定抛光液的压力。通过利用抛光液输送装置输送抛光液，可以使输出的抛光液的压力和流量非常稳定，即可以使输出的抛光液均匀地分布在抛光垫上，从而大大地提高抛光效果。
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公开(公告)号：CN109037101B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN201810770023.9
申请日：2018-07-13
Applicant: 清华大学 , 华海清科股份有限公司
Inventor： 许振杰 , 王剑 , 王国栋 , 陈映松 , 王同庆 , 赵德文 , 沈攀 , 郭振宇 , 李昆 , 路新春 , 裴召辉 , 贾弘源 , 郑家旺 , 庞伶伶 , 刘卫国 , 王春龙 , 韩宏飞 , 甄辉 , 时亚秋
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种晶圆加工设备，晶圆加工设备包括：晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统，两个晶圆加工系统相对设置且可独立工作，每个晶圆加工系统包括：抛光单元、第一机械手、传输单元、第二机械手和清洗单元，抛光单元和清洗单元相邻设置，清洗单元邻近晶圆缓存模块，第一机械手在晶圆缓存模块和传输单元之间以及传输单元和清洗单元之间运动，传输单元在第一机械手和第二机械手之间传输，第二机械手用于为抛光单元传输晶圆。由此，通过晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统配合，两个晶圆加工系统能够独立工作，互不影响，可以提高生产效率，并且，该晶圆加工设备的工艺更灵活，生产出的晶圆适应性更强。
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公开(公告)号：CN108326748B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201810215679.4
申请日：2018-03-15
Applicant: 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC: B24B57/02
Abstract: 本发明公开了一种抛光液输送装置，抛光液输送装置包括：基座、转轴、悬臂和定位件，基座上设有基座孔；转轴设在基座孔内，转轴上设有定位槽；悬臂相对于转轴可转动地设在转轴上，其中悬臂上设有定位孔；定位件至少具有锁止和解锁两个位置，当定位件位于锁止位置时，定位件穿过定位孔和定位槽以对悬臂进行定位锁止，当定位件位于解锁位置时，定位件远离定位槽以对悬臂进行解锁。由此，通过基座、转轴、悬臂和定位件配合，能够方便地使悬臂恢复至原点位置，可以很容易地调整抛光液落点，并且，也能够准确检测出悬臂是否在原点，可以防止误操作造成事故，从而可以提升用户满意度。
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公开(公告)号：CN110993524A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201910276267.6
申请日：2019-04-08
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种基板后处理装置和方法，该装置包括：用于旋转基板的承载单元、向基板喷射流体的供给单元、流体收集单元以及环状挡板组件。挡板组件围绕承载单元设置且挡板组件内壁与基板边缘的距离设置成使得从该基板溅射至该挡板组件内壁的流体不会反溅至该基板表面。从而避免了从基板表面飞散的流体反溅而再次沾染基板造成的二次污染，改善了清洗效果。
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公开(公告)号：CN110977750A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201910414517.8
申请日：2019-05-18
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B53/017 , B24B49/00
Abstract: 本发明涉及化学机械抛光技术领域，公开了一种压力控制装置和化学机械抛光装置。压力控制装置包括压力控制模块和第一压力传感器，压力控制模块中集成有正压控制单元和负压控制单元；正压控制单元的输入端连接正压供给源，负压控制单元的输入端连接负压供给源，正压控制单元的输出端与负压控制单元的输出端共同连接终端元件；第一压力传感器连接在终端元件的气路端口处；正压控制单元、负压控制单元和第一压力传感器分别与控制器连接；控制器获取第一压力传感器采集的终端元件的端口压力，并控制正压控制单元和/或负压控制单元的开关，以使端口压力稳定在预设目标压力。化学机械抛光装置包括与承载头内的压力腔室气路连接的压力控制装置。
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公开(公告)号：CN109216250A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201811221029.7
申请日：2018-10-19
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67766 , H01L21/6715 , H01L21/67793
Abstract: 本发明公开了一种晶圆传输机构，晶圆传输机构包括：支架；至少一个晶圆传输装置，其在支架的垂直方向间隔设置；所述晶圆传输装置包括晶圆托架及平移滑轨，平移滑轨设置在支架上，晶圆托架可移动的设置在平移滑轨上，所述晶圆托架在垂直方向上间隔设置。根据本发明的晶圆传输机构，结构简单，传输效率高，稳定性好。
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公开(公告)号：CN109037101A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201810770023.9
申请日：2018-07-13
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Inventor： 许振杰 , 王剑 , 王国栋 , 陈映松 , 王同庆 , 赵德文 , 沈攀 , 郭振宇 , 李昆 , 路新春 , 裴召辉 , 贾弘源 , 郑家旺 , 庞伶伶 , 刘卫国 , 王春龙 , 韩宏飞 , 甄辉 , 时亚秋
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67092 , H01L21/67023
Abstract: 本发明公开了一种晶圆加工设备，晶圆加工设备包括：晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统，两个晶圆加工系统相对设置且可独立工作，每个晶圆加工系统包括：抛光单元、第一机械手、传输单元、第二机械手和清洗单元，抛光单元和清洗单元相邻设置，清洗单元邻近晶圆缓存模块，第一机械手在晶圆缓存模块和传输单元之间以及传输单元和清洗单元之间运动，传输单元在第一机械手和第二机械手之间传输，第二机械手用于为抛光单元传输晶圆。由此，通过晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统配合，两个晶圆加工系统能够独立工作，互不影响，可以提高生产效率，并且，该晶圆加工设备的工艺更灵活，生产出的晶圆适应性更强。
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公开(公告)号：CN106378710B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201610861615.2
申请日：2016-09-28
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: B24B53/017 , B24B49/16
Abstract: 本发明公开了一种修整器进气系统以及抛光机，修整器进气系统包括：真空源；与真空源相连的真空管路；压缩空气源；与压缩空气源相连的压缩空气管路；压缩空气控制阀，压缩空气控制阀用于调节压缩空气管路输出的压缩空气压力；修整器，修整器形成有加载腔室，加载腔室选择性地与真空管路和压缩空气管路相连；压力传感器，压力传感器用于检测加载腔室的压力；控制器，控制器根据压力传感器的检测结果通过压缩空气控制阀调节压缩空气管路输出的压缩空气压力。这样可以使得修整器压力控制精确，精确的压力控制可以使得修整器对抛光垫进行适当的修整，从而可以改善抛光效果。
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公开(公告)号：CN106737055A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611092859.5
申请日：2016-12-01
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
CPC classification number: B24B37/345 , B24B27/0076
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光机及用于其的抛光组件，所述抛光组件包括：下支架、上支架、驱动转塔和两个抛光头组件，下支架上设有工作台和抛光盘；上支架架设在下支架上；驱动转塔悬挂在上支架上且驱动转塔的至少一部分相对于下支架可枢转；两个抛光组件分别设在驱动转塔上，以在驱动转塔的枢转下在与工作台位置对应的装卸位置和与抛光盘位置对应的抛光位置之间可移动，其中，当两个抛光头组件中的其中一个位于装卸位置时，另一个位于抛光位置。根据本发明实施例的用于化学机械抛光机的抛光组件，一个抛光头组件进行抛光时，另一个抛光头组件可以执行装卸晶圆，两个抛光头组件可以交替抛光，从而可以持续不间断工作，进而可以提高工作效率。
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