公开(公告)号：CN102175064A

公开(公告)日：2011-09-07

申请号：CN201010594263.1

申请日：2010-12-17

Applicant: 清华大学

Inventor： 路新春 ,  潘燕 ,  沈攀 ,  何永勇

IPC: F24H7/02 ,  F24H9/20 ,  B65D25/38 ,  B65D81/18

Abstract: 本发明公开了一种抛光液加热装置，所述抛光液加热装置包括加热容器，所述加热容器内限定有容纳腔，所述容纳腔内盛装有热交换液体；发热元件，所述发热元件设置在所述容纳腔内用于对所述热交换液体加热；和抛光液换热管，所述抛光液换热管具有入口端和出口端，所述抛光液换热管盘绕在所述容纳腔内且所述抛光液换热管的入口端和出口端分别从所述加热容器内伸出。本发明还公开了包括所述抛光液加热装置的抛光液温度控制设备和抛光液输送系统。通过利用包括本发明的抛光液加热装置的抛光液温度控制设备和抛光液输送系统，可以向化学机械抛光工序提供所需温度的抛光液，从而提高抛光效果。

公开(公告)号：CN102430979A

公开(公告)日：2012-05-02

申请号：CN201110310658.9

申请日：2011-10-13

Applicant: 清华大学

Inventor： 路新春 ,  潘燕 ,  沈攀 ,  何永勇

IPC: B24B51/00 ,  B24B57/02

Abstract: 本发明公开了一种抛光液温度控制装置和抛光液输送设备。所述抛光液温度控制装置包括：第一和第二加热容器、第一和第二发热元件、抛光液换热管、第一和第二温度检测器，第一温度检测器邻近第一加热容器的出口，第二温度检测器设在抛光液换热管上且邻近抛光液换热管的出口端；第一温控器，第一温控器分别与第一发热元件和第一温度检测器相连以便根据第一温度检测器的温度检测值控制第一发热元件的发热量；和第二温控器，第二温控器分别与第二发热元件和第二温度检测器相连以便根据第二温度检测器的温度检测值控制第二发热元件的发热量。根据本发明实施例的抛光液温度控制装置可以精确地控制抛光液的温度。

公开(公告)号：CN102240976A

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：CN201110131936.4

申请日：2011-05-20

Applicant: 清华大学

Inventor： 路新春 ,  潘燕 ,  王同庆 ,  沈攀 ,  何永勇

IPC: B24B57/02 ,  B24B37/02 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明公开一种化学机械抛光研磨液输送系统及化学机械抛光研磨设备，化学机械抛光研磨液输送系统包括：第一至第五容器、磨粒搅拌装置、混合装置、第一至第四输送泵、流量和压力调节装置、研磨液输送泵和溢流阀，第一至第五容器分别用于提供氧化剂、络合剂、缓蚀剂、磨粒和去离子水；流量和压力调节装置与混合装置相连，用于混合装置内的研磨液输送给化学机械研磨台；研磨液输送泵串联在混合装置与流量和压力调节装置之间；溢流阀连接在混合装置与流量和压力调节装置之间且与研磨液输送泵并联。根据本发明的化学机械抛光研磨液输送系统在整个输送过程中，磨粒一直被搅拌，可以有效防止颗粒沉淀、絮凝造成的表面划伤。

公开(公告)号：CN102129959A

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN201110001269.8

申请日：2011-01-05

Applicant: 清华大学

Inventor： 路新春 ,  潘燕 ,  沈攀 ,  梅赫赓 ,  赵德文 ,  王同庆 ,  何永勇

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/08

Abstract: 本发明公开了一种晶圆清洗装置及利用所述晶圆清洗装置清洗晶圆的方法，晶圆清洗装置设置在抛光设备的抛光工位与缓冲工位之间，晶圆清洗装置包括：多个扇形喷头，扇形喷头的喷口朝向上以将清洗液以扇形形状向上喷射到由抛光头带动从抛光工位朝向缓冲工位移动的晶圆上；和清洗液输送管，清洗液输送管与多个扇形喷头相连用于将清洗液输送到多个扇形喷头，且清洗液输送管为环形以使多个扇形喷头成环形分布。根据本发明实施例的晶圆清洗装置能够从晶圆表面的下方将清洗液喷射到晶圆的表面，从而对晶圆的表面进行全面的清洗。而且，扇形喷头可以喷射出扇形形状的清洗液，从而使清洗液均匀地分布到晶圆的表面，避免因清洗液对晶圆的表面产生冲击。

公开(公告)号：CN102335877A

公开(公告)日：2012-02-01

申请号：CN201110306986.1

申请日：2011-10-11

Applicant: 清华大学

Inventor： 路新春 ,  潘燕 ,  许振杰 ,  何永勇

IPC: B24B57/02

Abstract: 本发明公开了一种抛光液输送装置，所述抛光液输送装置包括：抛光液储存容器；抛光液输送管，抛光液输送管的进液端与抛光液储存容器相连；开关阀，开关阀设在抛光液输送管上用于接通和断开抛光液输送管；输送泵，输送泵设在抛光液输送管上以将抛光液储存容器内的抛光液从抛光液输送管的出液端排出，其中输送泵位于抛光液储存容器和开关阀之间；和减压阀，减压阀设在抛光液输送管上且位于输送泵和开关阀之间用于稳定抛光液的压力。通过利用抛光液输送装置输送抛光液，可以使输出的抛光液的压力和流量非常稳定，即可以使输出的抛光液均匀地分布在抛光垫上，从而大大地提高抛光效果。