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公开(公告)号：CN1543596A
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：CN03800777.0
申请日：2003-01-20
Applicant: 株式会社富士金 , 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0664 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
Abstract: 将可以从备有流量控制装置的气体供给设备正确且迅速地按所需要的流量比Q1/Q2向腔室内分流供给规定流量Q的处理气体。具体地说，从备有流量控制装置的气体供给设备通过多个分支供给线和固定于其末端的喷淋板按规定的流量比Q1/Q2向减压的腔室(C)内分流供给规定流量Q的气体之际，在前述多个分支供给线(GL1、GL2)上加装压力式分流量控制器(FV1、FV2)，并且靠来自使流量大的一方的压力式分流量控制器的控制阀(CV)的开度全开的分流量控制盘(FRC)的初期流量设定信号，开始前述两个分流量控制器(FV1、FV2)的开度控制，通过分别调整前述控制阀(CV)的下游侧压力P3′、P3″，通过设在喷淋板(3、4)上的节流孔(3a、4a)，按由式Q1＝C1P3′和Q2＝C2P3″(式中，C1、C2是取决于节流孔的断面积或节流孔上游侧的气体温度的常数)表达的所需要的分流量Q1、Q2向前述腔室(C)内分流供给总量Q＝Q1+Q2的气体。
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公开(公告)号：CN1127004C
公开(公告)日：2003-11-05
申请号：CN99800002.7
申请日：1999-01-11
Applicant: 株式会社富士金 , 大见忠弘 , 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
Abstract: 一种供如半导体制造设备中气体供给系统用的流体供给设备，它使得有可能在开始供给流体或流体转换时高精度控制流体流速而不产生流体的瞬时过冲现象。本发明的流体供给设备包括：压力流量控制器，用来调节流体的流率；流体转换阀，用来打开和关闭压力流量控制器次级侧的流体通道；以及流体供给控制单元，用来控制压力流量控制器和流体转换阀的操作；压力流量控制器包括：注流孔5；设置在注流孔5上游侧的控制阀1；设置在控制阀1和注流孔5之间的压力检测器3；以及计算控制单元6，它把流率信号Qc和流率指定信号Qs之间的差值作为控制信号Qy输入到控制阀1的驱动器2，流率信号Qc是利用流率Qc＝KP1(K＝常数)、根据由压力检测器3检测到的压力P1计算的；其中，通过借助打开和关闭控制阀1来调节注流孔上游侧的压力P1而控制注流孔5下游侧的流率。
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公开(公告)号：CN1275218A
公开(公告)日：2000-11-29
申请号：CN99801434.6
申请日：1999-08-09
Applicant: 株式会社富士金 , 大见忠弘 , 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0635 , Y10T137/0396 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8326
Abstract: 对于使用孔板的流量控制装置,可不必拆解配管而通过检测上游压力判断孔板是否堵塞,可使流量控制装置的寿命延长、安全性得到提高。具体地说就是,在上游压力P1保持为下游压力P2的约2倍以上、以QC=KP1(K:常数)进行下游流量QC的计算、利用该计算流量QC与设定流量QS二者的差信号QY对控制阀CV的开闭进行控制的流量控制装置FCS中,其堵塞检测装置由:储存有孔板2无堵塞的条件下从高设定流量QSH切换到低设定流量QSL而测定的上游压力P1的基准压力衰减数据Y(t)的存储装置M,在孔板2的实际条件下从高设定流量QSH切换到低设定流量QSL以对上游压力P1的压力衰减数据P(t)进行测定的压力检测器14,对压力衰减数据P(t)与基准压力衰减数据Y(t)二者进行对比运算的中央运算处理装置CPU,以及当压力衰减数据P(t)偏离基准压力衰减数据Y(t)达到既定程度以上时报知堵塞的报警电路46等构成。
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公开(公告)号：CN1236449A
公开(公告)日：1999-11-24
申请号：CN98801151.4
申请日：1998-08-13
Applicant: 株式会社富士金 , 大见忠弘 , 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0647 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
Abstract: 一种在半导体制造装置的气体供给系统中使用的压力式流量控制装置,节流孔口径为可变型,可简单地改变流体的流量控制范围,同时可使压力式流量控制装置小型化和提高气体置换性,并提高防止产生尘埃的性能以及降低制造成本等。具体地说,作为一种由节流孔;设置于节流孔上游侧的控制阀;设置于控制阀与节流孔之间的压力检测器;根据压力检测器的检测压力P1以Q=KP1(其中K为常数)计算流体的流量Q并以流量指令信号Qs与上述计算出的流量信号Q二者之差作为控制信号Qy向上述控制阀的驱动部输出的控制装置所构成,并在将节流孔的上游侧压力P1与下游侧压力P2之比保持在被控制流体的临界压比以下的状态下,通过上述控制阀的开闭来调整节流孔上游侧的压力P1,对节流孔下游侧的流体流量Q进行控制的压力式流量控制装置,是以直接接触型金属隔膜阀作为上述节流孔,以阀座与膜片之间的环形间隙作为可变节流孔,并且可通过节流孔驱动装置调整上述间隙的大小。
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公开(公告)号：CN110017877A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201910001569.2
申请日：2019-01-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01F15/04
Abstract: 本发明的基板处理系统具备具有第1气体流路的气体供给部。第1气体流路上连接有流量测定系统的第2气体流路。流量测定系统还具备连接于第2气体流路的第3气体流路以及分别测定第3气体流路中的压力及温度的压力传感器及温度传感器。一实施方式的方法中，通过积层方法计算从气体供给部的流量控制器输出的气体的流量。不使用第1气体流路与第2气体流路的合计容积及第1气体流路与第2气体流路中的温度而计算气体的流量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110017877B
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN201910001569.2
申请日：2019-01-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01F15/04
Abstract: 本发明的基板处理系统具备具有第1气体流路的气体供给部。第1气体流路上连接有流量测定系统的第2气体流路。流量测定系统还具备连接于第2气体流路的第3气体流路以及分别测定第3气体流路中的压力及温度的压力传感器及温度传感器。一实施方式的方法中，通过积层方法计算从气体供给部的流量控制器输出的气体的流量。不使用第1气体流路与第2气体流路的合计容积及第1气体流路与第2气体流路中的温度而计算气体的流量。
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公开(公告)号：CN110178002B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201780080827.X
申请日：2017-12-22
Applicant: 株式会社富士金
IPC: G01F23/22 , B01J4/00 , C23C16/448 , G05D9/12 , H01L21/205 , H01L21/31
Abstract: 本发明提供一种液面计(20)，具备：测温电阻体(R11)；位于其上方的温度测定体(R12)；检测测温电阻体以及温度测定体的温度的温度检测部(27)；以测温电阻体和温度测定体成为预定的温度差的方式，确定流动于测温电阻体的电流值的电流控制部(28)；使确定的电流值的电流流动于测温电阻体的电源部(22)；以及检测液面的位置的液面检测部(29)，液面检测部通过流动于测温电阻体的电流值的预定的一定期间的变化幅度的正负、和变化幅度是否为预定的值以上，从而检测液面相对于测温电阻体的相对位置的变化。由此，能够高精度地检测液面的位置，而不会受到测温电阻体的特性偏差的影响。
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公开(公告)号：CN107850533B
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201680025146.9
申请日：2016-08-09
Applicant: 国立大学法人德岛大学 , 株式会社富士金
Abstract: 一种浓度测定装置，包括：至少一个光源；用于注入被测定流体的测定单元；用于使所述光源的光分支为入射到所述测定单元内的入射光和未入射到所述测定单元内的非入射光的分歧器；用于检测所述入射光通过了所述测定单元的透过光的透过光检测器；用于检测所述非入射光的非入射光检测器；以及利用所述非入射光检测器的检测信号对所述透过光检测器的检测信号进行校正的运算部。
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