公开(公告)号：CN1612287A

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：CN200410079131.X

申请日：2004-09-08

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 田中幸一郎 ,  森若智昭 ,  山本良明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/324 ,  H01L21/20 ,  H01L21/477 ,  B23K26/00 ,  G02F1/35

CPC classification number: B23K26/0622 ,  B23K2101/40

Abstract: 本发明的目的是提供一种激光辐射装置、一种激光辐射方法和用能抑制激光束的能量分布的激光辐射方法制造半导体器件的方法。本发明提供包含振荡激光束的激光振荡器的激光辐射装置、具有多个光学系统的透镜组、用于控制透镜组的位置，以便于从与脉冲激光束的多个第一脉冲的振荡相同步的多个光学系统中选择至少两个光学系统的位置控制装置，其中所选择的多个光学系统形成了具有相互倒置或旋转的空间能量分布的多个脉冲。

公开(公告)号：CN103779359B

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：CN201410039983.X

申请日：2005-11-22

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 山本良明 ,  田中幸一郎 ,  矶部敦生 ,  大柄根大辅 ,  山崎舜平

IPC: H01L27/12 ,  H01L29/786 ,  H01L21/84 ,  H01L21/02 ,  H01L23/544 ,  H01L21/683 ,  H01L23/488

CPC classification number: H01L21/6835 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02683 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/84 ,  H01L23/544 ,  H01L24/29 ,  H01L24/48 ,  H01L24/73 ,  H01L24/83 ,  H01L24/85 ,  H01L27/12 ,  H01L29/78603 ,  H01L29/78648 ,  H01L2221/6835 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/6677 ,  H01L2224/16 ,  H01L2224/2919 ,  H01L2224/2929 ,  H01L2224/293 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48464 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2224/83191 ,  H01L2224/838 ,  H01L2224/85 ,  H01L2924/00013 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/01018 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01027 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/0103 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/0104 ,  H01L2924/01041 ,  H01L2924/01042 ,  H01L2924/01044 ,  H01L2924/01045 ,  H01L2924/0106 ,  H01L2924/01072 ,  H01L2924/01073 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01076 ,  H01L2924/01077 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/0132 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/04953 ,  H01L2924/0665 ,  H01L2924/0781 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15788 ,  H01L2924/19043 ,  H01L2924/30105 ,  H01Q1/38 ,  H01Q9/285 ,  H01Q23/00 ,  Y10S438/982 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/29099 ,  H01L2224/29199 ,  H01L2224/29299 ,  H01L2224/45099 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2924/207

Abstract: 本发明的目的在于提供一种通过不同于专利文献1中公开的方法从衬底分离薄膜晶体管和包括该薄膜晶体管的电路或半导体器件，并将该薄膜晶体管和电路或半导体器件移位到具有柔性的衬底上的方法。根据本发明，在绝缘膜处形成了大开口或多个开口，在开口处形成了连接薄膜晶体管的导电膜，以及移除了剥离层，然后，将具有薄膜晶体管的层移位到提供有导电膜等的衬底上。根据本发明的薄膜晶体管具有通过激光照射结晶化的半导体膜，并且防止不必用激光照射的剥离层暴露在激光照射下。

公开(公告)号：CN1700417B

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN200510069742.0

申请日：2005-03-03

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 城口裕子 ,  山本良明

IPC: H01L21/77 ,  H01L21/84 ,  H01L27/12

CPC classification number: H01L27/1292 ,  H01L51/524 ,  H01L51/5246 ,  H01L51/5281

Abstract: 半导体器件及其制造方法、液晶电视、和EL电视本发明的目的是提供一种制造具有能够降低成本和提高产量并具有微结构的半导体元件的半导体器件的方法，进而，提供制造液晶电视和EL电视的方法。根据本发明的一个特征，制造半导体器件的方法包括如下步骤：在衬底上方形成光吸收层，通过使用溶液在光吸收层上方形成第一区域，通过用激光照射光吸收层来产生热量，以及通过用热量加热第一区域形成第一膜图案。

公开(公告)号：CN101599427B

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN200910150561.9

申请日：2005-06-15

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 田中幸一郎 ,  山本良明

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/02691 ,  H01L21/02675 ,  H01L21/2026 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1285

Abstract: 本发明的目的是提供一种激光照射设备，它能通过改变向前和向后方向照射中照射光束的能量强度来制造均匀结晶的薄膜。本发明的激光照射设备包括激光振荡器和改变光束强度的装置，其中激光束斜着入射到半导体层的表面，相对于半导体层的表面扫描激光束，且光束强度根据扫描方向变化。而且，激光振荡器是连续波固体激光器、气体激光器或金属激光器。也可使用重复频率大于或等于10MHz的脉冲激光器。

公开(公告)号：CN101677061A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200910160531.6

申请日：2005-03-24

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 田中幸一郎 ,  山本良明

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20 ,  H01L21/336 ,  B23K26/00 ,  B23K26/073

CPC classification number: B23K26/066 ,  B23K26/0738 ,  H01L27/1285

Abstract: 本发明的目的是提供一种激光辐照方法和激光辐照装置，该方法和装置通过阻挡线形光束的低强度部分，用强度更均匀的线形光束来照射某一受辐照表面，同时不会在该受辐照表面上形成因衍射而导致的条纹。在该激光辐照过程中，从激光振荡器101中发出的激光束穿过狭缝102以便阻挡该激光束的低强度部分，镜子103使该激光束的前进方向发生改变，并且凸柱面透镜104将在该狭缝处形成的像投影到受辐照表面106上。

公开(公告)号：CN101653867A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200910163549.1

申请日：2005-11-29

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 田中幸一郎 ,  山本良明 ,  小俣贵嗣

IPC: B23K26/08 ,  H01L21/00 ,  H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  H01L21/82 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L21/02683 ,  B23K26/0853 ,  B23K2101/40 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/2026 ,  H01L27/1285

Abstract: 本发明涉及一种激光处理装置以及通过使用该装置而执行的激光处理方法，其中所述激光处理装置包括：激光振荡器；提供在激光振荡器中的联锁器；按一定工作周期移动的移动台；计时器；提供在计时器中的联锁器；能够检测移动台的移动状态的传感器；以及计算机，其中，当所述传感器检测出移动台的通过时所述计时器开始测量时间，并且，在所述工作周期之后移动台还不通过传感器的情况下，提供在所述计时器中的联锁器的接点之间的电流被阻断，因此激光振荡器的联锁器开始运转，从而停止照射激光束。

公开(公告)号：CN101599427A

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200910150561.9

申请日：2005-06-15

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 田中幸一郎 ,  山本良明

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/02691 ,  H01L21/02675 ,  H01L21/2026 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1285

Abstract: 本发明的目的是提供一种激光照射设备，它能通过改变向前和向后方向照射中照射光束的能量强度来制造均匀结晶的薄膜。本发明的激光照射设备包括激光振荡器和改变光束强度的装置，其中激光束斜着入射到半导体层的表面，相对于半导体层的表面扫描激光束，且光束强度根据扫描方向变化。而且，激光振荡器是连续波固体激光器、气体激光器或金属激光器。也可使用重复频率大于或等于10MHz的脉冲激光器。

公开(公告)号：CN100541722C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200580009439.X

申请日：2005-03-24

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 田中幸一郎 ,  山本良明

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

CPC classification number: B23K26/066 ,  B23K26/0738 ,  H01L27/1285

Abstract: 本发明的目的是提供一种激光辐照方法和激光辐照装置，该方法和装置通过阻挡线形光束的低强度部分，用强度更均匀的线形光束来照射某一受辐照表面，同时不会在该受辐照表面上形成因衍射而导致的条纹。在该激光辐照过程中，从激光振荡器101中发出的激光束穿过狭缝102以便阻挡该激光束的低强度部分，镜子103使该激光束的前进方向发生改变，并且凸柱面透镜104将在该狭缝处形成的像投影到受辐照表面106上。

公开(公告)号：CN100530549C

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200580028275.5

申请日：2005-08-12

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 田中幸一郎 ,  矶部敦生 ,  山本良明

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/336 ,  H01L21/20 ,  H01L29/786

CPC classification number: H01L29/78648 ,  B23K26/0604 ,  B23K26/066 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1296 ,  H01L29/78621 ,  H01L2029/7863

Abstract: 本发明的目的是提供激光照射设备和方法，其能够减小微晶区在整个被照射区中的比例并能够用激光束均匀地照射半导体膜。通过狭缝阻挡从激光振荡器发射的激光束的低强度部分，该激光束被镜片偏转，用两个凸柱镜将激光束整形成所需的尺寸。然后，向照射表面提供激光束。

公开(公告)号：CN100524629C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200580020022.3

申请日：2005-06-15

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 田中幸一郎 ,  山本良明

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

CPC classification number: H01L21/02691 ,  H01L21/02675 ,  H01L21/2026 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1285

Abstract: 本发明的目的是提供一种激光照射设备，它能通过改变向前和向后方向照射中照射光束的能量强度来制造均匀结晶的薄膜。本发明的激光照射设备包括激光振荡器和改变光束强度的装置，其中激光束斜着入射到半导体层的表面，相对于半导体层的表面扫描激光束，且光束强度根据扫描方向变化。而且，激光振荡器是连续波固体激光器、气体激光器或金属激光器。也可使用重复频率大于或等于10MHz的脉冲激光器。