清洁片和基板处理装置的清洁方法

    公开(公告)号:CN1717285A

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200380104054.2

    申请日:2003-11-10

    Abstract: 本发明公开了一种清洁元件,所述清洁元件在通过将清洁元件输送至装置内,清除装置内部的外来物质的过程中,不通过离子杂质污染基板处理装置。本发明还公开了一种清洁元件,所述清洁元件在通过将清洁元件输送至装置内,清除装置内部的外来物质的过程中,不通过金属杂质污染基板处理装置。具体地,公开了一种清洁片,所述清洁片的特征在于在支持体的一个表面上提供F-、Cl-、Br-、NO2-、NO3-、PO43-、SO42-、Na+、NH4+和K+的纯水提取量都为20ppm或更少(于120℃沸腾下提取1小时),而在支持体的另一个表面上具有粘合剂层。本发明还公开了一种清洁片,其特征在于在支持体的一个表面上提供Na、K、Ca、Mg、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu和Zn或其化合物的量以各自的金属元素计时各自为5ppm(μg/g)的清洁层,以及提供在另一侧上的粘合剂层。

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