多孔金属合金结构的制备方法

    公开(公告)号:CN104178654B

    公开(公告)日:2016-09-14

    申请号:CN201410418024.9

    申请日:2014-08-20

    Abstract: 本发明公开一种多孔金属合金结构的制备方法,属于纳米材料领域。主要解决的技术问题是,采用冷冻干燥技术设计多孔金属合金结构的制备方法,并且合成多孔的金属合金纳米结构。其步骤包括:1.将两种或者多种金属盐,与氧化铝纳米粒子按比例混合并溶解成水溶液;2.将该水溶液混合搅拌均匀后,放入液氮中进行快速冷冻;3.将冷冻后的样品放入冷冻干燥器中进行冷冻干燥,形成固体结构;4.将冷冻干燥后的样品放入肼蒸气中进行还原;5.将还原后的固体放入碱性溶液中,去除氧化铝,然后进行清洗和干燥。优点在于可以简单有效的制备多种不同金属比例的合金多孔结构,且可以通过控制氧化铝的尺寸和含量来调控合金结构中孔的尺寸和密度。

    一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN104018128B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201410231799.5

    申请日:2014-05-29

    Abstract: 本发明提供了一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法,所述镍铂合金溅射靶中,铂的含量为0~5原子%,靶材的平均晶粒尺寸小于80微米且单个晶粒尺寸不大于150微米,靶材具有均匀分布的衍射峰强度组合,且单个方向上的衍射峰强度不大于50%,靶材的透磁率(PTF)在大于40%且在各个不同方向上测量的数值差别在5%以内。所述的镍铂合金溅射靶材,能减少溅蚀现象发生,具有较长的使用寿命,使用该靶材所制备出的薄膜具有较好的均匀性;本发明的另一个目的在于提供一种获得上述具有高透磁率(PTF)的具有低铂含量的镍铂合金靶材的制备方法。

    一种制备NiV合金靶材的方法

    公开(公告)号:CN104014767A

    公开(公告)日:2014-09-03

    申请号:CN201410246797.3

    申请日:2014-06-05

    Abstract: 本发明公开了一种制备NiV合金靶材的方法,涉及使用特殊的熔铸方法制备高纯度、晶粒细小的NiV合金靶材产品。通过采用氧化硼作为覆盖剂对合金熔体实施净化以提高合金靶材的纯度,采用循环液态金属冷却的铜模进行浇铸实现合金熔体的快速凝固,从而获得纯度高、晶粒细小、无偏析、相结构单一的NiV合金靶材产品,提高了效率和成品率。

    制备Pt/C催化剂的调变多元醇法

    公开(公告)号:CN102029151A

    公开(公告)日:2011-04-27

    申请号:CN201010520668.0

    申请日:2010-10-27

    Abstract: 本发明涉及制备铂/碳催化剂的调变多元醇法,步骤为:①在通N2气保护下,Pt(acac)2在二苯醚溶剂中加热到80~120℃溶解;②加入表面活性剂油酸、油酸酰胺作为稳定剂;③将经过处理的碳黑加入溶液中,不断搅拌1~3h,使乙酰丙酮铂先负载到该碳黑上;④在连续搅拌条件下加入还原剂多元醇,加热回流0.5~1h,使乙酰丙酮铂充分还原成铂;⑤溶液过滤,用无水乙醇多次洗涤后真空干燥。本发明的催化剂用于氢氧燃料电池中具有很高的电催化活性。所制备的Pt/C催化剂具有粒径小、分散性好且粒度分布均匀的特点。按照本发明制备的Pt/C催化剂的透射电子显微效果图,平均粒径为2.3nm。

    一种制备叠层弥散强化铂基复合材料的方法

    公开(公告)号:CN101984105A

    公开(公告)日:2011-03-09

    申请号:CN201010520680.1

    申请日:2010-10-27

    Abstract: 本发明涉及用真空热压法制备层状复合材料领域,具体为一种用真空热压法制备叠层弥散强化铂基复合材料的方法,以得到高致密度,叠层界面缺陷少的弥散强化铂基复合材料。该法通过真空熔炼,轧制,内氧化,剪片制备复合锭坯,然后将该锭坯在真空度为10-2~10-3Pa下,升温加热到1000~1500℃,加压10~50MPa,保压10~90min,然后随炉冷到室温。在上述真空环境下对复合锭坯加压成型,可以得到相对密度大于95%产品,同时减少了界面的气泡形成的几率,提高了界面的结合强度,从而提高了弥散强化铂基复合材料的高温抗蠕变性能。本发明解决了普通热压法叠层界面结合强度低,叠层界面缺陷多以及工艺流程长,成本高的问题,可用于制备高致密度,界面缺陷少的弥散强化铂基复合材料。

    一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111254398A

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN202010186276.9

    申请日:2020-03-17

    Abstract: 本发明公开一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法,铂溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸为5~20 ;所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于3。制备方法包括:选择4N及以上纯度的铂原料,熔炼获得铸锭;随后进行超声波探伤测定铸锭内部缺陷分布并对其进行真空热压,消除缺陷;再将锭坯浸泡在液氮容器中单向压制;再进行低温退火;最后机加工获得靶材。本发明采用浇铸速度和熔炼炉功率组合,较低压制及退火温度组合,获得性能优异的铂溅射靶材。靶材的高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的铂薄膜,其制备方法工艺简便,条件温和易操控,大大提高生产效率,极大地节约制备成本。

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