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公开(公告)号:CN104178654B
公开(公告)日:2016-09-14
申请号:CN201410418024.9
申请日:2014-08-20
Applicant: 吉林大学 , 贵研铂业股份有限公司
IPC: C22C1/08
Abstract: 本发明公开一种多孔金属合金结构的制备方法,属于纳米材料领域。主要解决的技术问题是,采用冷冻干燥技术设计多孔金属合金结构的制备方法,并且合成多孔的金属合金纳米结构。其步骤包括:1.将两种或者多种金属盐,与氧化铝纳米粒子按比例混合并溶解成水溶液;2.将该水溶液混合搅拌均匀后,放入液氮中进行快速冷冻;3.将冷冻后的样品放入冷冻干燥器中进行冷冻干燥,形成固体结构;4.将冷冻干燥后的样品放入肼蒸气中进行还原;5.将还原后的固体放入碱性溶液中,去除氧化铝,然后进行清洗和干燥。优点在于可以简单有效的制备多种不同金属比例的合金多孔结构,且可以通过控制氧化铝的尺寸和含量来调控合金结构中孔的尺寸和密度。
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公开(公告)号:CN104018128B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201410231799.5
申请日:2014-05-29
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法,所述镍铂合金溅射靶中,铂的含量为0~5原子%,靶材的平均晶粒尺寸小于80微米且单个晶粒尺寸不大于150微米,靶材具有均匀分布的衍射峰强度组合,且单个方向上的衍射峰强度不大于50%,靶材的透磁率(PTF)在大于40%且在各个不同方向上测量的数值差别在5%以内。所述的镍铂合金溅射靶材,能减少溅蚀现象发生,具有较长的使用寿命,使用该靶材所制备出的薄膜具有较好的均匀性;本发明的另一个目的在于提供一种获得上述具有高透磁率(PTF)的具有低铂含量的镍铂合金靶材的制备方法。
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公开(公告)号:CN104014767A
公开(公告)日:2014-09-03
申请号:CN201410246797.3
申请日:2014-06-05
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种制备NiV合金靶材的方法,涉及使用特殊的熔铸方法制备高纯度、晶粒细小的NiV合金靶材产品。通过采用氧化硼作为覆盖剂对合金熔体实施净化以提高合金靶材的纯度,采用循环液态金属冷却的铜模进行浇铸实现合金熔体的快速凝固,从而获得纯度高、晶粒细小、无偏析、相结构单一的NiV合金靶材产品,提高了效率和成品率。
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公开(公告)号:CN102029151A
公开(公告)日:2011-04-27
申请号:CN201010520668.0
申请日:2010-10-27
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明涉及制备铂/碳催化剂的调变多元醇法,步骤为:①在通N2气保护下,Pt(acac)2在二苯醚溶剂中加热到80~120℃溶解;②加入表面活性剂油酸、油酸酰胺作为稳定剂;③将经过处理的碳黑加入溶液中,不断搅拌1~3h,使乙酰丙酮铂先负载到该碳黑上;④在连续搅拌条件下加入还原剂多元醇,加热回流0.5~1h,使乙酰丙酮铂充分还原成铂;⑤溶液过滤,用无水乙醇多次洗涤后真空干燥。本发明的催化剂用于氢氧燃料电池中具有很高的电催化活性。所制备的Pt/C催化剂具有粒径小、分散性好且粒度分布均匀的特点。按照本发明制备的Pt/C催化剂的透射电子显微效果图,平均粒径为2.3nm。
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公开(公告)号:CN101984105A
公开(公告)日:2011-03-09
申请号:CN201010520680.1
申请日:2010-10-27
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明涉及用真空热压法制备层状复合材料领域,具体为一种用真空热压法制备叠层弥散强化铂基复合材料的方法,以得到高致密度,叠层界面缺陷少的弥散强化铂基复合材料。该法通过真空熔炼,轧制,内氧化,剪片制备复合锭坯,然后将该锭坯在真空度为10-2~10-3Pa下,升温加热到1000~1500℃,加压10~50MPa,保压10~90min,然后随炉冷到室温。在上述真空环境下对复合锭坯加压成型,可以得到相对密度大于95%产品,同时减少了界面的气泡形成的几率,提高了界面的结合强度,从而提高了弥散强化铂基复合材料的高温抗蠕变性能。本发明解决了普通热压法叠层界面结合强度低,叠层界面缺陷多以及工艺流程长,成本高的问题,可用于制备高致密度,界面缺陷少的弥散强化铂基复合材料。
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公开(公告)号:CN100496971C
公开(公告)日:2009-06-10
申请号:CN200610010699.5
申请日:2006-02-21
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
IPC: B32B33/00 , B32B15/00 , C22F1/08 , C21D8/00 , C21D11/00 , B21B1/38 , B21B37/58 , B21B37/74 , H01H49/00 , H01H50/76
Abstract: 本发明公开了一种铜基合金复合材料及其制备方法,其化学成分重量百分比为:Ni:6~22%,Be:1.17~1.88%,余量为Cu。由下列步骤构成:将BeCu合金、Ni带材裁成长度和宽度分别相等的片材;用真空炉在600℃~800℃温度下对Ni片材退火0.5~1小时,然后真空冷却至室温;将BeCu合金片材和Ni片材进行表面处理后,对BeCu/Ni进行叠层,叠层的厚度为10mm~30mm;用纯Cu将叠层完全包覆,将包覆的叠层在木炭保护下,并在600℃~800℃下进行退火1~3小时,然后进行热轧和冷轧制得复合片材。
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公开(公告)号:CN101024321A
公开(公告)日:2007-08-29
申请号:CN200610010691.9
申请日:2006-02-17
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
IPC: B32B33/00 , B32B15/00 , C22F1/08 , C21D8/00 , C21D11/00 , B21B1/38 , B21B37/58 , B21B37/74 , H01H49/00 , H01H50/76
Abstract: 本发明公开了一种铜基合金复合材料,其化学成分重量百分比为:Co:0.36~2.2%,Ce:0.03~0.33%,Be:1.17~1.88%,余量为Cu。其铜基合金复合材料的制备方法是由真空熔炼制得Cu合金。将BeCu合金带材,Cu合金带材真空进行退火,然后将片材和Cu合金片材进行表面处理后,对BeCu/Cu合金进行叠层,用纯Cu将叠层完全包覆,将包覆的叠层在木炭保护下,进行退火,然后进行热轧和冷轧,制得复合成片材。得到最佳性能的复合材料,其显微硬度HV达200~226;抗拉强度达872~903MPa;屈服强度达722~754MPa;电阻率达7.69μΩ·cm。
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公开(公告)号:CN114318255B
公开(公告)日:2022-09-16
申请号:CN202111500588.3
申请日:2021-12-09
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种由易氧化金属镀膜保护制备的高致密NiV合金溅射靶材及其制备方法,所述溅射靶材之基材原料由纯度≥99.99wt%的Ni和V金属组成,其中V:5~8wt%,Ni:92~95wt%;所述基材表面有易氧化金属保护镀膜,其膜层厚度≤5μm;溅射靶材致密度≥99.5%,且表面无肉眼可见的缺陷,氧含量低于30ppm,靶材的晶粒尺寸均匀,其平均晶粒尺寸为10~30μm;所述溅射靶材之表层机加工处理的去除深度≤0.5mm。其制备方法由基材铸锭与清洗处理、基材镀膜、坯材轧制、再结晶处理和机加工处理工艺实现。本发明基于“控氧+优先保护”原理,降低基材氧含量,基材表面优先溅射易氧化金属保护镀层,抑制“夹生”脆性氧化物,提高了靶材优材率,降低了表层去除深度,减少靶材浪费,节约成本。
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公开(公告)号:CN111304608A
公开(公告)日:2020-06-19
申请号:CN202010186265.0
申请日:2020-03-17
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
IPC: C23C14/35 , B22D7/00 , C21D9/00 , C22C1/02 , C22C5/04 , C22C19/03 , C22F1/02 , C22F1/10 , C22F1/14 , B30B15/34
Abstract: 本发明公开了一种晶粒高定向取向的镍铂合金溅射靶材及其制备方法,靶材含镍1~99 wt%,余量为铂;靶材呈(111)或(200)晶面高定向取向,含镍为1~24 wt%的靶材其(111)与(200)晶面积分强度比不低于3,含镍为25~99 wt%的靶材其(200)与(111)晶面积分强度比不低于1.2;致密度不低于99.5%;晶粒尺寸5~50 。所述制备方法包括以下步骤:熔炼与浇铸、缺陷检测、真空热压、低温压制、低温退火和产品加工。本发明的镍铂合金溅射靶材呈(111)或(200)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的薄膜,制备工艺简便,易操控,大大提高生产效率并节约制备成本。
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公开(公告)号:CN111254398A
公开(公告)日:2020-06-09
申请号:CN202010186276.9
申请日:2020-03-17
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法,铂溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸为5~20 ;所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于3。制备方法包括:选择4N及以上纯度的铂原料,熔炼获得铸锭;随后进行超声波探伤测定铸锭内部缺陷分布并对其进行真空热压,消除缺陷;再将锭坯浸泡在液氮容器中单向压制;再进行低温退火;最后机加工获得靶材。本发明采用浇铸速度和熔炼炉功率组合,较低压制及退火温度组合,获得性能优异的铂溅射靶材。靶材的高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的铂薄膜,其制备方法工艺简便,条件温和易操控,大大提高生产效率,极大地节约制备成本。
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