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公开(公告)号：CN103619527B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201280022484.9
申请日：2012-05-09
Applicant: 株式会社V技术
IPC: B23K26/38 , B23K26/064 , C03B33/09 , G02B3/06
CPC classification number: G02B3/06 , B23K26/0648 , B23K26/0665 , B23K26/0734 , B23K26/388 , B23K26/389 , C03B33/04 , C03B33/093 , G02B27/0927 , G02B27/0966 , G02B2003/0093
Abstract: 本发明的透镜及搭载有该透镜的激光加工装置用于对被切割材料切割由闭合曲线构成的任意形状的部件，并且以使连结凸型圆柱透镜的圆柱面的顶点的线为与由上述闭合曲线构成的任意形状相同的形状的方式，闭合形成凸型圆柱透镜而成形。
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公开(公告)号：CN102449740B
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201080022772.5
申请日：2010-05-25
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01L21/268 , H01L21/02 , H01L21/336 , H01L27/12 , B23K26/00 , B23K26/02 , B23K26/08
CPC classification number: B23K26/352 , B23K26/0006 , B23K26/083 , B23K26/354 , B23K2103/56 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02532 , H01L21/02675 , H01L21/02686 , H01L21/02691 , H01L21/268 , H01L21/67115 , H01L21/67259 , H01L27/1285 , H01L29/66765
Abstract: 本发明提供一种激光退火方法及激光退火装置。在沿着被设定成矩阵状的TFT形成区域的纵横方向的任一排列方向搬送基板的同时利用拍摄机构对基板表面进行拍摄，并基于该拍摄图像检测在基板表面预先设定的对准基准位置；将与多个TFT形成区域对应地沿着与基板的搬送方向交叉的方向配置有多个透镜的至少一列透镜阵列，沿着与基板的搬送方向交叉的方向移动，以对准基准位置为基准对透镜阵列的透镜和基板的TFT形成区域进行对位；当基板移动而使TFT形成区域到达透镜阵列的对应透镜的正下方时，向透镜阵列照射激光，从而利用多个透镜使激光聚光以对各TFT形成区域的非晶硅膜进行退火处理。由此，可以跟踪被搬送的基板的移动而使微透镜阵列移动，从而可以提高激光的照射位置精度。
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公开(公告)号：CN103797149A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201280044893.9
申请日：2012-09-14
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: B05B12/20 , B23K26/342 , B23K26/359 , B23K26/382 , C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C14/48 , H01L51/0011 , H01L51/5012 , Y10T156/10
Abstract: 本发明是用于在基板上蒸镀形成一定形状的薄膜图案的蒸镀掩膜，该蒸镀掩膜构成为具备透射可见光的树脂制的膜，该树脂制的膜对应于预先在所述基板上确定的所述薄膜图案的形成区域，形成了与该薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的开口图案。
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公开(公告)号：CN103703408A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201280017146.6
申请日：2012-04-03
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G02B27/0955 , G02B27/48 , G02F1/0311 , G02F1/0322 , G02F1/19 , G02F2202/20
Abstract: 在激光照明装置中，在从光源射出的脉冲激光的光路上配置有蝇眼透镜和聚光透镜，在光源与蝇眼透镜之间，或在蝇眼透镜与聚光透镜之间，配置有电光晶体元件，该电光晶体元件使脉冲激光相对于入射光使其偏转方向连续地变化而进行透射。该电光晶体元件例如由1对电极和配置在该电极之间的光学晶体材料构成，通过在电极之间施加电压而产生电场，从而电晶体元件的折射率变化。由此，能降低蝇眼透镜的透射光的由干涉条纹造成的照明不均匀。
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公开(公告)号：CN102365588A
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：CN201080013999.3
申请日：2010-03-17
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 梶山康一
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70283 , G03F7/70358 , G03F7/70425
Abstract: 本发明提供一种曝光方法及曝光装置。在曝光方法中，当一边向箭头A方向输送被曝光体(8)，一边使用光掩模(11)的第一掩模图案组(12)进行的对被曝光体(8)的第一曝光区域(9)的曝光结束时，与被曝光体的输送速度同步地使光掩模(11)移动而从第一掩模图案组(12)切换成第二掩模图案组(13)，其中光掩模(11)通过将与各曝光图案对应的多种掩模图案组沿着被曝光体(8)的输送方向以规定间隔排列而形成，并且，当光掩模(11)的掩模图案组的切换结束时，使该光掩模(11)的移动停止，通过第二掩模图案组(13)来执行对被曝光体(8)的第二曝光区域(10)的曝光，从而在被曝光体(8)的沿输送方向以规定间隔设定的多个曝光区域的每个区域上形成不同的曝光图案(24、25)。由此，提高对同一被曝光体的多种曝光图案的形成效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100592936C
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200580029322.8
申请日：2005-08-26
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G02F1/133516 , B05C5/02 , B05D1/26 , B05D3/067 , B05D5/005
Abstract: 本发明提供一种滴涂器，具有：将用于修正滤色器基板的缺陷部的彩色紫外线硬化树脂(4)予以收容的容器(1)；安装在该容器(1)的顶端、使所述彩色紫外线硬化树脂(4)排出到所述缺陷部上的排出针(2)；以及将正压赋予所述容器(1)内的彩色紫外线硬化树脂(4)并使该彩色紫外线硬化树脂(4)从所述排出针(2)排出的排出控制装置(3)，所述排出针(2)的结构是，将加热软化后的玻璃管拉长而将针尖形成为比针本体部细的形状。由此，可将排出材料充填在排出对象物的微小缺陷部上，从而修正该缺陷部。
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公开(公告)号：CN101258448A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200680032376.4
申请日：2006-09-25
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G03F9/7038 , G03F9/7088
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，利用拍摄装置3在同一视场内分别捕捉并拍摄形成在滤色基板6上的基板侧对准标记和形成在光掩膜7上的掩膜侧对准标记，基于该拍摄到的基板侧和掩膜侧对准标记的各图像，相对移动载物台1和掩膜载物台2，对滤色基板6与光掩膜7进行对位后进行曝光，并且具有光学距离修正装置4，该光学距离修正装置4使拍摄装置3的线阵CCD22与滤色基板6之间的光学距离和拍摄装置3的线阵CCD22与光掩膜7之间的光学距离大致一致。由此，缩短基板和光掩膜的对位的处理时间。
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公开(公告)号：CN110892470A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201880047600.X
申请日：2018-07-30
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明是一种全彩LED显示面板，具备：LED阵列基板(1)，其在配线基板(4)上以矩阵状配置有放射紫外至蓝色波段的光的多个LED(3)；以及多个荧光发光层(5)，其对应于光三原色而排列设置在多个上述LED(3)上，由从该LED(3)放射的激发光(L)激发而将该激发光分别波长转换为对应颜色的荧光(FL)，在以包围上述荧光发光层(5)的方式形成的分隔壁(7)的表面，设置有反射上述激发光(L)和上述荧光(FL)的金属膜(9)。
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公开(公告)号：CN106488995B
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201580036959.3
申请日：2015-06-26
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明具备：掩模层(1)，其与在显示面板(5)的显示面上成膜形成的透明电极对应而具有与该透明电极的形状尺寸相同的开口图案(4)；以及支撑层(2)，其具有横穿开口图案(4)而设置于掩模层(1)的一个面(1a)的多个支撑线(2a)，支撑层(2)的支撑线(2a)的排列间距设为可抑制由作为成膜的膜厚不匀而转印到透明电极上的支撑线(2a)的阴影导致的莫尔条纹或者衍射条纹的发生的尺寸。
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