公开(公告)号：CN103797149B

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201280044893.9

申请日：2012-09-14

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 杉本重人 ,  梶山康一 ,  水村通伸 ,  工藤修二 ,  木村江梨子 ,  哈尼·马赫·阿齐兹 ,  梶山佳敬

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: B05B12/20 ,  B23K26/342 ,  B23K26/359 ,  B23K26/382 ,  C23C14/042 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C14/48 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/5012 ,  Y10T156/10

Abstract: 本发明是用于在基板上蒸镀形成一定形状的薄膜图案的蒸镀掩膜，该蒸镀掩膜构成为具备透射可见光的树脂制的膜，该树脂制的膜对应于预先在所述基板上确定的所述薄膜图案的形成区域，形成了与该薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的开口图案。

公开(公告)号：CN104206016B

公开(公告)日：2018-08-24

申请号：CN201380016813.3

申请日：2013-03-25

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 工藤修二 ,  水村通伸 ,  梶山康一 ,  哈尼·马赫·阿齐兹 ,  梶山佳敬

IPC: H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  C23C14/14 ,  H01L51/50 ,  H05B33/26

CPC classification number: H01M4/00 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/0016

Abstract: 本发明是薄膜图案形成方法，在基板(1)的表面形成具有规定形状的薄膜图案(14)，基板(1)在薄膜图案形成区域预先形成有电极，上述薄膜图案形成方法构成为包含：使透射可见光的树脂制成的膜(2)紧贴在上述基板(1)上的步骤；对上述基板(1)上的薄膜图案形成区域(11)照射激光(L)，在上述膜(2)中形成与薄膜图案(14)相同形状的开口图案(21)的步骤；通过上述膜(2)的开口图案(21)，在上述基板(1)上的上述薄膜图案形成区域(11)形成薄膜图案(14)的步骤；以及剥离上述膜(2)的步骤。由此，能在电极预先形成于薄膜图案形成区域的基板的表面容易形成高精细的薄膜图案。

公开(公告)号：CN103797149A

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201280044893.9

申请日：2012-09-14

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 杉本重人 ,  梶山康一 ,  水村通伸 ,  工藤修二 ,  木村江梨子 ,  哈尼·马赫·阿齐兹 ,  梶山佳敬

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: B05B12/20 ,  B23K26/342 ,  B23K26/359 ,  B23K26/382 ,  C23C14/042 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C14/48 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/5012 ,  Y10T156/10

Abstract: 本发明是用于在基板上蒸镀形成一定形状的薄膜图案的蒸镀掩膜，该蒸镀掩膜构成为具备透射可见光的树脂制的膜，该树脂制的膜对应于预先在所述基板上确定的所述薄膜图案的形成区域，形成了与该薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的开口图案。

公开(公告)号：CN104206016A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201380016813.3

申请日：2013-03-25

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 工藤修二 ,  水村通伸 ,  梶山康一 ,  哈尼·马赫·阿齐兹 ,  梶山佳敬

IPC: H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  C23C14/14 ,  H01L51/50 ,  H05B33/26

CPC classification number: H01M4/00 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/0016

Abstract: 本发明是薄膜图案形成方法，在基板(1)的表面形成具有规定形状的薄膜图案(14)，基板(1)在薄膜图案形成区域预先形成有电极，上述薄膜图案形成方法构成为包含：使透射可见光的树脂制成的膜(2)紧贴在上述基板(1)上的步骤；对上述基板(1)上的薄膜图案形成区域(11)照射激光(L)，在上述膜(2)中形成与薄膜图案(14)相同形状的开口图案(21)的步骤；通过上述膜(2)的开口图案(21)，在上述基板(1)上的上述薄膜图案形成区域(11)形成薄膜图案(14)的步骤；以及剥离上述膜(2)的步骤。由此，能在电极预先形成于薄膜图案形成区域的基板的表面容易形成高精细的薄膜图案。