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公开(公告)号：CN108779550A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780018877.5
申请日：2017-03-23
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明提供一种成膜掩模、其制造方法及成膜掩模的修复方法，所述成膜掩模具备：掩模片(1)，其在设置有多个开口图案(7)的薄膜层(4)上层叠设置有内包至少一个所述开口图案(7)的多个贯通孔(8)的金属层(5)，并且将一个面区划成包含多个所述开口图案(7)及贯通孔(8)的多个单位单元(6)；金属制的支承部件(2)，其与没有外在张力状态的所述掩模片(1)的所述金属层(5)接合而支承该所述掩模片，且与所述掩模片(1)的所述单位单元(6)相对应地具有开口部(10)。由此，对于薄膜图案的成膜能够确保较高的形状精度及位置精度。
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公开(公告)号：CN105121692A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201480020185.0
申请日：2014-03-31
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: C23C14/042 , H01L51/0011
Abstract: 本发明是成膜掩模(1)，成膜掩模(1)具有使树脂制的膜(3)与片状的磁性金属构件(2)的一面紧密接触而形成的结构，磁性金属构件(2)具有并列排列的狭缝状的多个贯通孔(5)，成膜掩模(1)设有在上述各贯通孔(5)内的上述膜(3)的部分贯通的多个开口图案(6)，上述膜(3)具有线膨胀系数在正交二轴不同的各向异性，上述膜(3)的线膨胀系数小的轴与和上述磁性金属构件(2)的上述贯通孔(5)的长轴交叉的方向一致。
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公开(公告)号：CN106488995B
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201580036959.3
申请日：2015-06-26
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明具备：掩模层(1)，其与在显示面板(5)的显示面上成膜形成的透明电极对应而具有与该透明电极的形状尺寸相同的开口图案(4)；以及支撑层(2)，其具有横穿开口图案(4)而设置于掩模层(1)的一个面(1a)的多个支撑线(2a)，支撑层(2)的支撑线(2a)的排列间距设为可抑制由作为成膜的膜厚不匀而转印到透明电极上的支撑线(2a)的阴影导致的莫尔条纹或者衍射条纹的发生的尺寸。
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公开(公告)号：CN105612271A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201480055662.7
申请日：2014-10-07
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: H05B33/10 , C23C14/042 , H01L51/0011
Abstract: 本发明涉及成膜掩膜及其制造方法。上述成膜掩膜通过具备掩膜板(1)和磁性金属构件的金属掩膜(2)而构成，其中，掩膜板(1)具备：树脂制的薄片(5)，其与被成膜在基板上的薄膜图案对应地形成多个开口图案(4)；以及磁性金属薄膜(7)，其在上述薄片(5)的一面(5a)被设置在形成了上述多个开口图案(4)的有效区域内，并在其上设置了内含上述多个开口图案(4)中的至少一个开口图案(4)的大小的贯通孔(6)，磁性金属构件的金属掩膜2在上述掩膜板(1)的上述磁性金属薄膜(7)侧与上述掩膜板1分离而独立地被设置，在其上形成了内含上述磁性金属薄膜(7)的大小的开口部(9)。
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公开(公告)号：CN104206016A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380016813.3
申请日：2013-03-25
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: H01M4/00 , H01L27/3211 , H01L51/0016
Abstract: 本发明是薄膜图案形成方法，在基板(1)的表面形成具有规定形状的薄膜图案(14)，基板(1)在薄膜图案形成区域预先形成有电极，上述薄膜图案形成方法构成为包含：使透射可见光的树脂制成的膜(2)紧贴在上述基板(1)上的步骤；对上述基板(1)上的薄膜图案形成区域(11)照射激光(L)，在上述膜(2)中形成与薄膜图案(14)相同形状的开口图案(21)的步骤；通过上述膜(2)的开口图案(21)，在上述基板(1)上的上述薄膜图案形成区域(11)形成薄膜图案(14)的步骤；以及剥离上述膜(2)的步骤。由此，能在电极预先形成于薄膜图案形成区域的基板的表面容易形成高精细的薄膜图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108350561B
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201680063845.2
申请日：2016-10-14
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明进行如下工序：在能进行激光加工的树脂制的膜(4)的表里任意一面形成树脂制的支撑层(2)的工序，其中，该支撑层(2)包括与上述膜(4)不同的树脂材料，吸收波长比可见光短的激光(L1)；从与上述膜(4)的形成有上述支撑层(2)的面相反的一侧照射激光(L1)，形成贯通该膜(4)的开口图案(3)的工序；以及针对上述膜(4)选择除去上述支撑层(2)的工序。由此，能通过简单的工艺抑制在开口图案的缘部产生毛刺。
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公开(公告)号：CN108779550B
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201780018877.5
申请日：2017-03-23
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明提供一种成膜掩模、其制造方法及成膜掩模的修复方法，所述成膜掩模具备：掩模片(1)，其在设置有多个开口图案(7)的薄膜层(4)上层叠设置有内包至少一个所述开口图案(7)的多个贯通孔(8)的金属层(5)，并且将一个面区划成包含多个所述开口图案(7)及贯通孔(8)的多个单位单元(6)；金属制的支承部件(2)，其与没有外在张力状态的所述掩模片(1)的所述金属层(5)接合而支承该所述掩模片，且与所述掩模片(1)的所述单位单元(6)相对应地具有开口部(10)。由此，对于薄膜图案的成膜能够确保较高的形状精度及位置精度。
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公开(公告)号：CN105121692B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201480020185.0
申请日：2014-03-31
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: C23C14/042 , H01L51/0011
Abstract: 本发明是成膜掩模(1)，成膜掩模(1)具有使树脂制的膜(3)与片状的磁性金属构件(2)的一面紧密接触而形成的结构，磁性金属构件(2)具有并列排列的狭缝状的多个贯通孔(5)，成膜掩模(1)设有在上述各贯通孔(5)内的上述膜(3)的部分贯通的多个开口图案(6)，上述膜(3)具有线膨胀系数在正交二轴不同的各向异性，上述膜(3)的线膨胀系数小的轴与和上述磁性金属构件(2)的上述贯通孔(5)的长轴交叉的方向一致。
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公开(公告)号：CN103797149B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201280044893.9
申请日：2012-09-14
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: B05B12/20 , B23K26/342 , B23K26/359 , B23K26/382 , C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C14/48 , H01L51/0011 , H01L51/5012 , Y10T156/10
Abstract: 本发明是用于在基板上蒸镀形成一定形状的薄膜图案的蒸镀掩膜，该蒸镀掩膜构成为具备透射可见光的树脂制的膜，该树脂制的膜对应于预先在所述基板上确定的所述薄膜图案的形成区域，形成了与该薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的开口图案。
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公开(公告)号：CN104206016B
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201380016813.3
申请日：2013-03-25
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: H01M4/00 , H01L27/3211 , H01L51/0016
Abstract: 本发明是薄膜图案形成方法，在基板(1)的表面形成具有规定形状的薄膜图案(14)，基板(1)在薄膜图案形成区域预先形成有电极，上述薄膜图案形成方法构成为包含：使透射可见光的树脂制成的膜(2)紧贴在上述基板(1)上的步骤；对上述基板(1)上的薄膜图案形成区域(11)照射激光(L)，在上述膜(2)中形成与薄膜图案(14)相同形状的开口图案(21)的步骤；通过上述膜(2)的开口图案(21)，在上述基板(1)上的上述薄膜图案形成区域(11)形成薄膜图案(14)的步骤；以及剥离上述膜(2)的步骤。由此，能在电极预先形成于薄膜图案形成区域的基板的表面容易形成高精细的薄膜图案。
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