公开(公告)号：CN108779550B

公开(公告)日：2019-07-02

申请号：CN201780018877.5

申请日：2017-03-23

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 工藤修二 ,  野口良 ,  齐藤雄二 ,  韩智华

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明提供一种成膜掩模、其制造方法及成膜掩模的修复方法，所述成膜掩模具备：掩模片(1)，其在设置有多个开口图案(7)的薄膜层(4)上层叠设置有内包至少一个所述开口图案(7)的多个贯通孔(8)的金属层(5)，并且将一个面区划成包含多个所述开口图案(7)及贯通孔(8)的多个单位单元(6)；金属制的支承部件(2)，其与没有外在张力状态的所述掩模片(1)的所述金属层(5)接合而支承该所述掩模片，且与所述掩模片(1)的所述单位单元(6)相对应地具有开口部(10)。由此，对于薄膜图案的成膜能够确保较高的形状精度及位置精度。

公开(公告)号：CN108779550A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201780018877.5

申请日：2017-03-23

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 工藤修二 ,  野口良 ,  齐藤雄二 ,  韩智华

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明提供一种成膜掩模、其制造方法及成膜掩模的修复方法，所述成膜掩模具备：掩模片(1)，其在设置有多个开口图案(7)的薄膜层(4)上层叠设置有内包至少一个所述开口图案(7)的多个贯通孔(8)的金属层(5)，并且将一个面区划成包含多个所述开口图案(7)及贯通孔(8)的多个单位单元(6)；金属制的支承部件(2)，其与没有外在张力状态的所述掩模片(1)的所述金属层(5)接合而支承该所述掩模片，且与所述掩模片(1)的所述单位单元(6)相对应地具有开口部(10)。由此，对于薄膜图案的成膜能够确保较高的形状精度及位置精度。