公开(公告)号：CN107431032B

公开(公告)日：2021-06-08

申请号：CN201680013362.1

申请日：2016-01-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： H·S·金 ,  M·D·威尔沃斯

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 描述一种气流，用于减少基板处理夹盘的冷凝。在一示例中，该腔室中的工件支架具有定位盘、上板、冷却板、底板、以及该底板的干燥气体入口，该定位盘用于携载该工件以进行制造处理，该上板热耦接至该定位盘，该冷却板紧固至并热耦接至该上板，该冷却板具有冷却通道以携载热传递流体从而传递来自该冷却板的热，该底板与该定位盘相对地紧固至该冷却板，而该底板的干燥气体入口用以在压力下供应干燥气体至该底板与该冷却板之间的空间从而驱动来自该底板与该冷却板之间的环境空气。

公开(公告)号：CN112840445A

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201980067121.9

申请日：2019-09-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： C·李 ,  M·D·威尔沃斯 ,  V·N·托多罗 ,  H·C·李 ,  H·S·金

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

Abstract: 本公开的实施例总体上提供用于处理基板的设备和方法。更具体地，本公开的实施例提供一种处理腔室，所述处理腔室对设置在处理腔室中的基板的边缘具有增强的处理效率。在一个实施例中，处理腔室包含：腔室主体，所述腔室主体在处理腔室中界定内部处理区域；设置在处理腔室中的喷头组件，其中喷头组件具有多个区，其中在喷头组件的边缘区处的孔隙密度比在喷头组件的中心区处的孔隙密度更高；设置在处理腔室的内部处理区域中的基板支撑组件；以及设置在基板支撑组件的边缘上并且围绕基板支撑组件的集中环，其中集中环具有台阶，所述台阶具有基本上类似于底部宽度的侧壁高度。

公开(公告)号：CN105340059B

公开(公告)日：2019-03-22

申请号：CN201480034383.2

申请日：2014-05-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： V·N·托多罗 ,  G·勒雷 ,  M·D·威尔沃斯 ,  L-S·蒋

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

Abstract: 提供一种具有改良的线圈天线组件的装置的实施例，该改良的线圈天线组件可提供处理腔室中的增强的等离子体。该改良的线圈天线组件增强对等离子体处理腔室内的等离子体位置的位置控制，并且可被用于蚀刻、沉积、植入、与热处理系统，以及期望控制等离子体位置的其它应用。在一个实施例中，配置成用于半导体处理装置的电极组件包括：RF导电连接器；以及导电构件，该导电构件具有电连接至该RF导电连接器的第一端，其中该导电构件从该RF导电连接器向外并垂直地延伸。

公开(公告)号：CN105340059A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201480034383.2

申请日：2014-05-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： V·N·托多罗 ,  G·勒雷 ,  M·D·威尔沃斯 ,  L-S·蒋

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32082 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32532 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4645 ,  H05H2001/4667

Abstract: 提供一种具有改良的线圈天线组件的装置的实施例，该改良的线圈天线组件可提供处理腔室中的增强的等离子体。该改良的线圈天线组件增强对等离子体处理腔室内的等离子体位置的位置控制，并且可被用于蚀刻、沉积、植入、与热处理系统，以及期望控制等离子体位置的其它应用。在一个实施例中，配置成用于半导体处理装置的电极组件包括：RF导电连接器；以及导电构件，该导电构件具有电连接至该RF导电连接器的第一端，其中该导电构件从该RF导电连接器向外并垂直地延伸。

公开(公告)号：CN104205321A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201380016503.1

申请日：2013-03-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： D·卢博米尔斯基 ,  J·Y·孙 ,  X·林 ,  M·D·威尔沃斯 ,  K·马赫拉切夫

IPC: H01L21/683 ,  H02N13/00 ,  H05B3/20 ,  B23Q3/15

CPC classification number: H02N13/00 ,  B23B31/28 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/68792

Abstract: 本发明的实施例提供用于在升高的温度下操作的静电夹具。本发明的一个实施例提供用于静电夹具的介电夹具体。介电夹具体包括基板支撑板、电极及轴，该基板支撑板具有用于接收基板的顶表面及与顶表面相对的背表面，该电极嵌入基板支撑板中，该轴具有第一端及与该第一端相对的第二端，该第一端附接于基板支撑板的背表面。第二端经设置以接触冷却底座及提供温度控制至基板支撑板。轴为中空的，具有包围中心开口的侧壁及两个或两个以上通路，该两个或两个以上通路穿过侧壁形成且自第一端延伸至第二端。

公开(公告)号：CN206022340U

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201620734063.4

申请日：2016-07-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·D·威尔沃斯 ,  R·C·科特里尔

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68742 ,  B66F3/25 ,  H01L21/6831

Abstract: 本文中描述的实施方案提供一种升降杆致动器。所述升降杆致动器具有外壳。所述外壳具有内部容积。轨道设置在所述内部容积中并耦接到所述外壳。中心轴至少部分设置在所述外壳的所述内部容积中。导向件可移动地耦接到所述轨道。至少一个内波纹管设置在所述内部容积中，所述内波纹管在所述中心轴与所述外壳之间形成密封。弹性构件设置在所述内部容积中，并配置用于施加使所述中心轴回缩到所述外壳中的力。入口端口被配置成引导流体在所述内波纹管与所述外壳之间进入所述内部容积。所述流体产生反作用于所述弹性构件以使所述中心轴相对于所述外壳伸展的力。