一种实验用线圈结构磁控溅射源
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117966114A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410131329.5

    申请日:2024-01-31

    Abstract: 本发明涉及真空镀膜技术领域,具体涉及一种实验用线圈结构磁控溅射源,包括磁控阴极靶、线圈、磁轭、水冷通道、软磁背板,所述线圈、磁轭以及水冷通道均设于所述磁控阴极靶与所述软磁背板之间,所述水冷通道设于所述线圈与所述磁控阴极靶之间,所述线圈激发的磁场能作用于磁控阴极靶的表面,所述磁轭至少设有两个,所述线圈设于相邻两个磁轭之间。这种实验用线圈结构磁控溅射源,解决了目前磁控溅射源通过前后移动永磁结构改变磁场强弱同时会改变磁场方向的问题。

    一种内腔蒸发镀膜装置
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117966100A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410131358.1

    申请日:2024-01-31

    Abstract: 本发明涉及真空镀膜技术领域,具体涉及一种内腔蒸发镀膜装置,包括蒸发舟、待镀膜直管、阳极组件、阴极组件、固定架支柱、固定架导轨、蒸发电源和离子清洗电源,蒸发舟设于待镀膜直管的内腔内,阳极组件一端与所述蒸发舟连接,另一端与蒸发电源正极以及离子清洗电源负极连接,阴极组件一端与所述蒸发舟连接,另一端与蒸发电源负极以及离子清洗电源正极连接,固定架支柱用于支撑阳极组件和阴极组件,固定架支柱沿设于固定架支柱下方的固定架导轨往复运动,蒸发舟在固定架支柱的带动下沿着待镀膜直管的内腔轴线往复运动。解决了现有的电弧离子镀膜、磁控溅射技术和电镀技术中,对比较长的管状零件,内部仍然无法完成膜层均匀沉积,甚至无法完成沉积的问题。

    一种金刚石增强复合材料的电弧离子镀方法

    公开(公告)号:CN115233164A

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202210867294.2

    申请日:2022-07-22

    Abstract: 本发明涉及电弧离子镀技术领域,具体涉及一种金刚石增强复合材料的电弧离子镀方法,包括下列步骤:(1)衬底准备:衬底是作为复合材料依附其上,完成生长的支撑;(2)金刚石颗粒的准备;(3)抽真空;(4)加热;(5)通入工艺气体;(6)膜层沉积;(7)衬底表面布置金刚石颗粒;(8)重复步骤(6)至(7);(9)热处理,本发明利用电弧离子镀技术制备金刚石增强复合材料的基体,使基体材料种类从金属扩展至氮化物、碳化物等陶瓷材料,提高了金刚石增强复合材料的性能。

    一种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN113265641B

    公开(公告)日:2022-07-22

    申请号:CN202110322329.X

    申请日:2021-03-25

    Abstract: 本发明涉及碳膜制备技术领域,具体涉及一种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法,对材料进行抛光处理,将材料置于等离子体渗氮炉中,抽真空至10~50Pa,接通电压,电压保持在600~800V,占空比30%~80%;通入碳源气体和氢气/氩气,调节炉内温度和气压,开始制备疏水减摩自润滑的碳膜,保持稳定的温度和气压等参数一段时间,接着试样随炉冷却至室温,取出试样;这种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法,解决了如何在低温下采用低成本制备兼具疏水和减摩自润滑特性的碳膜的问题。

    一种真空镀膜无遮挡样品翻转装置

    公开(公告)号:CN113463056B

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN202110746018.6

    申请日:2021-07-01

    Abstract: 本发明公开了一种真空镀膜无遮挡样品翻转装置,属于真空镀膜技术领域,包括上下对称的上部与下部,所述上部与下部均包括样品置物台、样品固定底座、伸缩杆组件、伸缩杆限位筒、伸缩杆驱动组件、旋转座、底座驱动组件、支撑限位组件,所述样品置物台设置在所述样品固定底座上,由所述样品固定底座对其卡紧或放松,所述样品固定底座与所述伸缩杆组件的一端连接,另一端设置在所述伸缩杆限位筒内部,所述伸缩杆限位筒与所述旋转座连接,所述伸缩杆驱动组件驱动所述伸缩杆组件实现伸缩。本发明在样品翻转过程中,并未采用任何夹具的形式,而是通过装置上下两部分互相压紧,然后再完成样品的翻转,不会对样品表面造成任何遮挡。

    一种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN113265641A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110322329.X

    申请日:2021-03-25

    Abstract: 本发明涉及碳膜制备技术领域,具体涉及一种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法,对材料进行抛光处理,将材料置于等离子体渗氮炉中,抽真空至10~50Pa,接通电压,电压保持在600~800V,占空比30%~80%;通入碳源气体和氢气/氩气,调节炉内温度和气压,开始制备疏水减摩自润滑的碳膜,保持稳定的温度和气压等参数一段时间,接着试样随炉冷却至室温,取出试样;这种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法,解决了如何在低温下采用低成本制备兼具疏水和减摩自润滑特性的碳膜的问题。

    一种真空镀膜中样品翻转装置

    公开(公告)号:CN112877667A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN202110031442.2

    申请日:2021-01-11

    Abstract: 本发明公开一种真空镀膜中样品翻转装置,包括旋转轴、固定架、转盘、翻转栅条、被动齿轮、主动齿轮和固定转动部,所述旋转轴通过所述固定架与所述转盘固定连接,所述旋转轴的轴线穿过所述转盘中心,所述旋转轴带动所述转盘绕自身轴线旋转,所述翻转栅条设置在所述转盘上,且所述翻转栅条可绕自身轴线转动,一所述翻转栅条的一端固定设置有所述主动齿轮,其余所述翻转栅条的一端固定设置有所述固定齿轮,所述固定转动部可与所述主动齿轮传动连接,所述主动齿轮和相邻的所述固定齿轮啮合连接,相邻所述固定齿轮之间啮合连接;本发明的有益效果是样品在翻转时不需要额外的真空室空间,也不会对有效镀膜面积造成浪费。

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