公开(公告)号：CN117966114A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202410131329.5

申请日：2024-01-31

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 赵栋才 ,  张泽 ,  冯锦贤 ,  郑军 ,  杨英

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种实验用线圈结构磁控溅射源，包括磁控阴极靶、线圈、磁轭、水冷通道、软磁背板，所述线圈、磁轭以及水冷通道均设于所述磁控阴极靶与所述软磁背板之间，所述水冷通道设于所述线圈与所述磁控阴极靶之间，所述线圈激发的磁场能作用于磁控阴极靶的表面，所述磁轭至少设有两个，所述线圈设于相邻两个磁轭之间。这种实验用线圈结构磁控溅射源，解决了目前磁控溅射源通过前后移动永磁结构改变磁场强弱同时会改变磁场方向的问题。

公开(公告)号：CN117966100A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202410131358.1

申请日：2024-01-31

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 赵栋才 ,  陆俊杰 ,  郭冬龙 ,  冯锦贤 ,  郑军 ,  丁继成

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/56

Abstract: 本发明涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种内腔蒸发镀膜装置，包括蒸发舟、待镀膜直管、阳极组件、阴极组件、固定架支柱、固定架导轨、蒸发电源和离子清洗电源，蒸发舟设于待镀膜直管的内腔内，阳极组件一端与所述蒸发舟连接，另一端与蒸发电源正极以及离子清洗电源负极连接，阴极组件一端与所述蒸发舟连接，另一端与蒸发电源负极以及离子清洗电源正极连接，固定架支柱用于支撑阳极组件和阴极组件，固定架支柱沿设于固定架支柱下方的固定架导轨往复运动，蒸发舟在固定架支柱的带动下沿着待镀膜直管的内腔轴线往复运动。解决了现有的电弧离子镀膜、磁控溅射技术和电镀技术中，对比较长的管状零件，内部仍然无法完成膜层均匀沉积，甚至无法完成沉积的问题。