公开(公告)号：CN116607105A

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202310607158.4

申请日：2023-05-26

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 张程程 ,  赵栋才 ,  陆俊杰 ,  郑军 ,  刘兴光 ,  丁继成

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/20 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明涉及表面工程技术领域，具体涉及一种复合材料表面磁控溅射镀铜前等离子体表面改性方法，包括如下步骤：步骤一：材料准备：复合材料；步骤二：样品化学清洗；步骤三：射频等离子体表面活化或高压条形离子源表面活化；步骤五：直流磁控溅射技术铜膜的制备，得到处理后的复合材料，经本发明方法处理后的复合材料不仅对表面进行了清洗、刻蚀，同时增加复合材料表面的粗糙度，提高了复合材料的表面能，改善其表面性能，进而提高了基底与铜膜的结合强度。

公开(公告)号：CN117966100A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202410131358.1

申请日：2024-01-31

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 赵栋才 ,  陆俊杰 ,  郭冬龙 ,  冯锦贤 ,  郑军 ,  丁继成

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/56

Abstract: 本发明涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种内腔蒸发镀膜装置，包括蒸发舟、待镀膜直管、阳极组件、阴极组件、固定架支柱、固定架导轨、蒸发电源和离子清洗电源，蒸发舟设于待镀膜直管的内腔内，阳极组件一端与所述蒸发舟连接，另一端与蒸发电源正极以及离子清洗电源负极连接，阴极组件一端与所述蒸发舟连接，另一端与蒸发电源负极以及离子清洗电源正极连接，固定架支柱用于支撑阳极组件和阴极组件，固定架支柱沿设于固定架支柱下方的固定架导轨往复运动，蒸发舟在固定架支柱的带动下沿着待镀膜直管的内腔轴线往复运动。解决了现有的电弧离子镀膜、磁控溅射技术和电镀技术中，对比较长的管状零件，内部仍然无法完成膜层均匀沉积，甚至无法完成沉积的问题。