一种线圈电磁挤压式磁过滤装置

    公开(公告)号:CN113463039B

    公开(公告)日:2022-08-02

    申请号:CN202110744587.7

    申请日:2021-07-01

    IPC分类号: C23C14/32

    摘要: 本发明公开了一种线圈电磁挤压式磁过滤装置,属于真空镀膜技术领域,包括电弧阴极、聚焦线圈、安装法兰、偏转室、真空室、偏转挤压组件;所述电弧阴极设置在所述安装法兰上,所述安装法兰与所述偏转室的一端连接,所述偏转室的另一端与所述真空室连通,所述偏转挤压组件设置在所述偏转室与所述真空室的连接处。本发明采用磁挤压的方式,能完成从电源阴极至真空室的等离子体的偏转,完成大颗粒的过滤,使传统磁过滤等离子体非常集中的特点会有所改善,有利于大面积和均匀沉积;并且在完成膜层沉积时,工件转架具有很大的自由设计空间,不被磁控过滤弯管的位置所限制,值得被推广使用。

    一种线圈电磁挤压式磁过滤装置

    公开(公告)号:CN113463039A

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202110744587.7

    申请日:2021-07-01

    IPC分类号: C23C14/32

    摘要: 本发明公开了一种线圈电磁挤压式磁过滤装置,属于真空镀膜技术领域,包括电弧阴极、聚焦线圈、安装法兰、偏转室、真空室、偏转挤压组件;所述电弧阴极设置在所述安装法兰上,所述安装法兰与所述偏转室的一端连接,所述偏转室的另一端与所述真空室连通,所述偏转挤压组件设置在所述偏转室与所述真空室的连接处。本发明采用磁挤压的方式,能完成从电源阴极至真空室的等离子体的偏转,完成大颗粒的过滤,使传统磁过滤等离子体非常集中的特点会有所改善,有利于大面积和均匀沉积;并且在完成膜层沉积时,工件转架具有很大的自由设计空间,不被磁控过滤弯管的位置所限制,值得被推广使用。

    一种并行周向连续式等离子体镀膜装置

    公开(公告)号:CN117926232A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202410272342.2

    申请日:2024-03-11

    摘要: 本发明提供了一种并行周向连续式等离子体镀膜装置,包括机体组件和周向送料结构,所述机体组件包括基座、密封架和加工台;其中,所述密封架安装于所述基座的顶部,所述加工台固定连接于所述基座的内侧壁顶部,所述周向送料结构安装于所述加工台和基座之间;本发明通过利用上下料机构在真空环境下将基材推送至周向送料结构内,然后通过周向送料结构对基材限位,并带动基材周向运动,然后利用镀膜固化机构对基材表面进行镀膜,并利用加热的方式对镀层进行固化处理,然后通过推送机构配合翻转机构对基材进行顶升翻转,然后再利用镀膜固化机构进行镀膜和固化,从而保证了镀膜效果,且可以对基材进行双面镀膜处理,提高了镀膜装置的适用范围。

    一种高温耐磨自润滑复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN115029662A

    公开(公告)日:2022-09-09

    申请号:CN202210719986.2

    申请日:2022-06-23

    摘要: 本发明属于表面工程技术领域,特别涉及一种高温耐磨自润滑复合涂层及其制备方法,其包括基体膜层及喷涂在其表面的耐磨涂层,基体膜层由下至上分别为Ti打底层、Ti2AlN过渡层及通过双靶磁控溅射依次交替溅射沉积的TiB2/Ti2AlN功能层;其中,Ti打底层厚度为200nm,Ti2AlN过渡层厚度为500~1000nm,TiB2/Ti2AlN功能层中的单层TiB2厚度为30~50nm,Ti2AlN单层厚度为20~40nm,基体膜层总厚度为2~5μm;本发明中所制备的纳米多层涂层不仅具有高温热稳定性同时兼具高温自润滑性能,解决了现行PVD硬质涂层刀具高速切削航空钛合金材料易粘结和易磨损问题,具有更广阔的市场前景,更适宜推广。

    一种电子束辅助碳基超润滑固体薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN112680700B

    公开(公告)日:2022-07-26

    申请号:CN202011420118.1

    申请日:2020-12-04

    IPC分类号: C23C14/30 C23C14/54 C23C14/06

    摘要: 本发明公开一种电子束辅助碳基超润滑固体薄膜制备装置及方法,包括镀膜腔室、PVD靶材、样品台、待镀膜工件和电子束辅助沉积组件,所述待镀膜工件设置在所述样品台上,所述PVD靶材、所述样品台均设置于所述镀膜腔室内,所述PVD靶材和所述待镀膜工件对应设置,所述电子束辅助沉积组件提供的可控电子束设置在所述PVD靶材和所述待镀膜工件之间;本发明在镀膜工件表面附近添加一个辅助电子束源,用于控制镀膜样件表面的电子浓度和离子浓度,从而有效的抑制或控制不导电的碳基薄膜表面的电荷积累,获得微观结构与成分可控、性能显著提升的碳基超润滑固体薄膜。

    一种电子束辅助碳基超润滑固体薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN112680700A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202011420118.1

    申请日:2020-12-04

    IPC分类号: C23C14/30 C23C14/54 C23C14/06

    摘要: 本发明公开一种电子束辅助碳基超润滑固体薄膜制备装置及方法,包括镀膜腔室、PVD靶材、样品台、待镀膜工件和电子束辅助沉积组件,所述待镀膜工件设置在所述样品台上,所述PVD靶材、所述样品台均设置于所述镀膜腔室内,所述PVD靶材和所述待镀膜工件对应设置,所述电子束辅助沉积组件提供的可控电子束设置在所述PVD靶材和所述待镀膜工件之间;本发明在镀膜工件表面附近添加一个辅助电子束源,用于控制镀膜样件表面的电子浓度和离子浓度,从而有效的抑制或控制不导电的碳基薄膜表面的电荷积累,获得微观结构与成分可控、性能显著提升的碳基超润滑固体薄膜。

    一种纳米Cu增强碳基固体润滑薄膜转移膜强度的润滑层及其构筑方法

    公开(公告)号:CN118563257A

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202410654254.9

    申请日:2024-05-24

    摘要: 本发明涉及表面工程处理领域,具体涉及一种纳米Cu增强碳基固体润滑薄膜转移膜强度的润滑层及其构筑方法,本方法通过磁控溅射技术在碳基固体润滑薄膜表面沉积一层Cu膜,从而增强碳基固体润滑薄膜在摩擦过程中产生的转移膜强度;其中,转移膜强度的提高主要是通过“物理钉扎”和“化学键合”两种强化效应得到的双重强化,进一步极大优化了碳基润滑薄膜的摩擦学性能,显著降低碳基润滑薄膜的摩擦系数,为该类薄膜的设计和制造提供了一种有价值的方向,适用于各种需要稳定可靠固体润滑的各类应用工况,应用场景丰富。

    一种高温耐磨自润滑复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN115029662B

    公开(公告)日:2023-12-26

    申请号:CN202210719986.2

    申请日:2022-06-23

    摘要: 本发明属于表面工程技术领域,特别涉及一种高温耐磨自润滑复合涂层及其制备方法,其包括基体膜层及喷涂在其表面的耐磨涂层,基体膜层由下至上分别为Ti打底层、Ti2AlN过渡层及通过双靶磁控溅射依次交替溅射沉积的TiB2/Ti2AlN功能层;其中,Ti打底层厚度为200nm,Ti2AlN过渡层厚度为500~1000nm,TiB2/Ti2AlN功能层中的单层TiB2厚度为30~50nm,Ti2AlN单层厚度为20~40nm,基体膜层总厚度为2~5μm;本发明中所制备的纳米多层涂层不仅具有高温热稳定性同时兼具高温自润滑性能,解决了现行PVD硬质涂层刀具高速切削航空钛合金材料易粘结和易磨损问题,具有更广阔的市场前景,更适宜推广。