-
公开(公告)号：CN105021631B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201510344597.6
申请日：2015-06-19
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/896
Abstract: 本发明涉及一种透射型光学基板中结构性缺陷初始损伤特征判定方法，包括：基于泵浦探测技术，建立亚微米空间分辨和纳秒时间分辨的双光束成像系统；制备出具有不同尺寸结构性缺陷的透射型光学基板；获得透射型光学基板同一位置在不同时间的两张图像，比较两张图像上初始损伤的尺寸和轮廓特征的差异，建立不同尺寸结构性缺陷的初始损伤特征；对实际光学基板进行缺陷检测，采用所述双光束成像系统拍摄其损伤行为，并与建立的不同尺寸结构性缺陷初始损伤特征进行比对，实现对透射型光学基板损伤的结构性缺陷的诊断和判定。与现有技术相比，本发明具有对结构性缺陷初始损伤尺寸、生长速率、扩展方向和损伤阈值等信息进行分析的优点。
-
公开(公告)号：CN106435487A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610908397.3
申请日：2016-10-10
Applicant: 同济大学
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/022 , C23C14/10 , C23C28/04
Abstract: 本发明公开了一种非线性晶体三硼酸锂晶体表面高激光损伤阈值增透膜的制备方法。针对LBO晶体各向异性强及增透膜的损伤机理，该方法的步骤包括LBO晶体表面采用IAD工艺镀SiO2膜、在LBO晶体表面IAD工艺镀制的薄膜上采用溶胶-凝胶法进行镀膜。由本发明制备的LBO增透膜光学特性优异、损伤阈值高、环境稳定性好，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、易于推广等优点，在未来的高功率激光薄膜领域具有广泛应用前景。
-
公开(公告)号：CN104535984B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201410828917.0
申请日：2014-12-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种双通道复合波长近红外激光雷达发射系统光学镜头。两路光学通道的共用激光光源和前级扩束系统，两路通道输出不同口径的平行光束，通过转换镜切换进行分时工作，满足了紧凑化和低成本的要求，实现了模块化设计；共用的前级扩束系统利用两种光学材料进行消色差设计，满足复合工作波长的需求。通过改变激光光源输出波长，系统功能实现复合工作波长、双发射通道输出不同口径平行光束的多工作模态。本发明中的两路光学通道光轴平行，在调整好测试设备与待测目标后，仅仅调整系统的工作波长和移动切换镜即可对待测目标进行不同波段、不同测试模式的测量，显著提高了测量的便捷性。从工程应用角度考虑，为确保系统的切换复位精度，本发明采用了固定大口径折反射通道，对小口径通道加入反射切换机构的方式。
-
公开(公告)号：CN104158076A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201410356514.0
申请日：2014-07-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高Tm激光器腔镜用薄膜损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对2μm波段Tm激光器腔镜用薄膜的瓶颈——薄膜的水吸收。2μm波段的激光处于水和水蒸气的强吸收区，且包含1.94μm、2.09μm和2.94μm等水吸收峰，已有的研究表明造成2μm波段激光薄膜损伤阈值低的主要因素就是薄膜内的水吸收。本发明通过采用离子源辅助沉积技术，离子源电压范围为600V~900V，同时采用金属Hf和石英环SiO2两种镀膜源材料，沉积速率分别为0.15nm/s和1nm/s，可以减少薄膜中吸收水的含量，甚至使薄膜中没有水，从而提供了一种提高Tm激光器腔镜用薄膜损伤阈值的制备方法。该方法可以极大幅度提高Tm激光器腔镜用薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、效率高、简单易行的特点。
-
公开(公告)号：CN104032266A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201410050291.5
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Inventor： 程鑫彬 , 阿卜杜萨拉木·图尼亚孜 , 焦宏飞 , 鲍刚华 , 王占山
Abstract: 本发明涉及一种提高光学薄膜损伤阈值的设计方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射膜中影响损伤阈值的最主要的缺陷-节瘤缺陷。节瘤缺陷的阈值决定整个薄膜的阈值。目前提高高反膜激光损伤阈值的技术手段主要通过消除节瘤，即尽可能的降低节瘤密度和尺寸来提升薄膜的阈值。但是在目前的技术条件下，消除节瘤需要的工艺难度大，需要的成本高，而且无法完全消除。本发明提出了一种直接提高节瘤阈值从而提升薄膜阈值的方法。理论和实践已经证明，电场在节瘤损伤特性中起很重要的角色，而节瘤中的电场与节瘤的几何特性和光谱特性信息相关。通过改变膜系设计来降低节瘤中的电场强度，从而提高节瘤的损伤阈值。此方法具有针对性强，效率高，简单易行的特点。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102873048B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201210417513.3
申请日：2012-10-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜表面的清洗方法，具体步骤为：用蘸有丙酮的棉签轻拭激光薄膜表面，将擦拭后的激光薄膜置于第一清洗槽中，第一清洗槽中加入碱性溶液对该样品进行清洗，溶液温度为室温；所述碱性溶液体积比为NH4OH：H2O2：H2O=1:10:50；将所得溶液分别在120KHz～180KHz、200KHz～300KHz频率下先后超声2～4分钟；所得样品放置于第二清洗槽中，用去离子水漂洗，去离子水温度为室温；将样品放置第三清洗槽3中，第三清洗槽中加入去离子水，分别在120KHz～180KHz、200KHz～300KHz频率下先后超声3～6分钟；取出样品，重复清洗，干燥，即得所需产品。本发明的优点是在达到较高清洗效率、有效去除表面有机污染物和污染颗粒的同时，对激光薄膜不会造成物理损伤，避免了薄膜在高功率激光系统使用中因为薄膜表面吸附的颗粒而引起的薄膜烧蚀损坏，保证激光薄膜在高功率激光系统使用中具有高的损伤阈值。
-
公开(公告)号：CN102798491B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201110134521.2
申请日：2011-05-23
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种薄膜残余应力分离和测量装置，包括密封箱、干涉仪、反射镜、加热板、水平微调底座及输气管，干涉仪、反射镜、加热板、水平微调底座及输气管均设置在密封箱内，干涉仪发出光束，经反射镜反射到达待测样品的表面，光束被反射后再次经过反射镜反射回到干涉仪中，与干涉仪中的标准面的反射光发生干涉。与现有技术相比，本发明可以测量计算薄膜样品的残余应力；各成分应力(由水诱发应力、热应力和内应力)；薄膜的热膨胀系数和弹性模量；模拟薄膜样品在真空中应力的演化情况，是一种非接触、无破坏性的检测方法，测量精度高，操作方便。
-
公开(公告)号：CN103592714A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201310484791.5
申请日：2013-10-17
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种易于制备的反射式多通道滤光元件的设计方法。所设计的这种反射式多通道滤光片的基本结构为：从基板侧开始是超宽波段高反射的金属、周期性的高低折射率交替膜堆、极薄的金属膜到入射媒介。该方法利用周期性高低折射率介质材料的一倍频和三倍频之间的透射振荡波纹，结合超宽波段的高反射金属和可以令原透射处指定波长达到高反的金属铬，设计一种多通道的反射滤光元件，并且其通道位置和个数可以通过给定的中心波长和介质折射率确定。不同于传统的对制备要求很高的基于Fabry-Perot结构的窄带多峰的中间层膜系，本发明的中间结构是传统的规整膜系结构，易于制备，且可以根据实际需要调整多通道的个数和位置，制作工艺方便，制作成本低，易于集成，在实际光学薄膜设计中有着重要意义。
-
公开(公告)号：CN103235355A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201310108420.7
申请日：2013-04-01
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种抑制半波孔的倍频分束薄膜，主要针对倍频分束镜中影响半波孔的两个关键因素——薄膜厚度误差和材料非均质性，通过在高低折射率材料之间增加导纳匹配层，抑制薄膜厚度误差和材料非均质性对半波孔的影响；导纳匹配层可以用矢量法很容易的得到。常规薄膜设计软件无法设计和分析非均质性薄膜，加上厚度误差无法避免，因此当前设计倍频分束薄膜的主流方法是回避半波孔。该发明将非均质性薄膜的厚度优化计算转换成均匀薄膜的厚度优化计算，利用常规薄膜设计软件即可完成设计；该发明直接针对半波孔进行设计和优化，不再回避半波孔，具有理想的透射带宽。该发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
-
公开(公告)号：CN103217125A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310098554.5
申请日：2013-03-26
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种基于子孔径拼接的高精度平面光学元件面型检测方法。所述检测装置包括：二维平移台、干涉仪和标准平面透镜，具体步骤为：将所述平面光学元件固定在二维平移台上，干涉仪对准所述平面光学元件的位置；调节二维平移台到达指定目标分布区域，使干涉仪出瞳对准平面光学元件的几何中心部分，干涉仪对该几何中心部分进行采集测量计算，得到该子孔径面型信息；重复前述步骤，直到完成全部子孔径的测量，即可实现所述平面光学元件的子孔径测量。本发明针对高精度平面光学元件面形平面度较高的特点，通过一定拼接算法恢复完整被测平面元件面型，为高精度平面光学元件面型检验提供一种经济有效的检测方法。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
208
records
(took 0.024 seconds)
