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公开(公告)号：CN109655475A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201910064259.5
申请日：2019-01-23
Applicant: 同济大学
IPC: G01N23/20091 , G01N23/20008
Abstract: 本发明涉及一种能谱仪探测深度的标定方法，包括以下步骤：1)在熔石英基板上镀制厚度为d0的金属膜层，标记为I类样品；2)在金属膜层上分别镀制不同厚度的SiO2膜层，标记为II类样品；3)利用能谱仪分别测量I类样品和II类样品的金属元素M占比，利用I类样品的测量结果对II类样品的金属元素M占比进行修正；4)绘制SiO2膜层厚度和修正后的金属元素占比曲线，通过拟合方式获得金属元素M占比为0时的SiO2膜层厚度，并以此厚度作为能谱仪的探测深度，完成标定。与现有技术相比，本发明具有判定简单准确等优点。
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公开(公告)号：CN105424712B
公开(公告)日：2018-07-03
申请号：CN201510906667.2
申请日：2015-12-09
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/88
Abstract: 本发明涉及一种激光损伤初期材料喷射行为的诊断方法，该方法用于透射型光学基板在发生激光损伤后粒子喷射行为的诊断和捕获，该方法包括以下步骤：①基于泵浦探测技术，建立包含一台纳秒脉冲激光器的微米空间分辨和纳秒时间分辨的双探测光单相机成像系统；②根据所述双探测光单相机成像系统获取喷射粒子在同一位置、设定时间间隔的图像；③比较图像上喷射粒子的差异，根据图像处理技术获得粒子的长度和位置信息，获取喷射粒子行为，包括喷射粒子的喷射方向、喷射速度和等效尺寸。与现有技术相比，本发明具有可靠性高、精确度高等优点。
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公开(公告)号：CN107015028B
公开(公告)日：2020-01-31
申请号：CN201710107113.5
申请日：2017-02-27
Applicant: 同济大学
IPC: G01Q60/24
Abstract: 本发明涉及一种基于原位探测技术的纳米尺度初始激光损伤检测方法及系统，所述方法包括以下步骤：在样品的待测区域设置多个标记点，并设置为定位点；在原子力显微镜下找到定位点，以定位点为基准，移动一定的相对坐标获得一测试区域，测试形貌；选定一损伤测试点，对样品进行激光损伤阈值测试；在损伤测试装置下用低于激光损伤阈值的激光光斑辐照测试区域；再次在原子力显微镜下找到测试区域，测试形貌；将两次获得的形貌进行对比，根据对比结果进行修正，判断是否发生纳米尺度的变化，若否，则在低于激光损伤阈值的情况下增加激光光斑的激光能量，直到发生纳米尺度的变化。与现有技术相比，本发明具有精确度高、可重复性好、结构简单等优点。
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公开(公告)号：CN107015028A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710107113.5
申请日：2017-02-27
Applicant: 同济大学
IPC: G01Q60/24
Abstract: 本发明涉及一种基于原位探测技术的纳米尺度初始激光损伤检测方法及系统，所述方法包括以下步骤：在样品的待测区域设置多个标记点，并设置为定位点；在原子力显微镜下找到定位点，以定位点为基准，移动一定的相对坐标获得一测试区域，测试形貌；选定一损伤测试点，对样品进行激光损伤阈值测试；在损伤测试装置下用低于激光损伤阈值的激光光斑辐照测试区域；再次在原子力显微镜下找到测试区域，测试形貌；将两次获得的形貌进行对比，根据对比结果进行修正，判断是否发生纳米尺度的变化，若否，则在低于激光损伤阈值的情况下增加激光光斑的激光能量，直到发生纳米尺度的变化。与现有技术相比，本发明具有精确度高、可重复性好、结构简单等优点。
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公开(公告)号：CN105021631B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201510344597.6
申请日：2015-06-19
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/896
Abstract: 本发明涉及一种透射型光学基板中结构性缺陷初始损伤特征判定方法，包括：基于泵浦探测技术，建立亚微米空间分辨和纳秒时间分辨的双光束成像系统；制备出具有不同尺寸结构性缺陷的透射型光学基板；获得透射型光学基板同一位置在不同时间的两张图像，比较两张图像上初始损伤的尺寸和轮廓特征的差异，建立不同尺寸结构性缺陷的初始损伤特征；对实际光学基板进行缺陷检测，采用所述双光束成像系统拍摄其损伤行为，并与建立的不同尺寸结构性缺陷初始损伤特征进行比对，实现对透射型光学基板损伤的结构性缺陷的诊断和判定。与现有技术相比，本发明具有对结构性缺陷初始损伤尺寸、生长速率、扩展方向和损伤阈值等信息进行分析的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109655475B
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201910064259.5
申请日：2019-01-23
Applicant: 同济大学
IPC: G01N23/20091 , G01N23/20008
Abstract: 本发明涉及一种能谱仪探测深度的标定方法，包括以下步骤：1)在熔石英基板上镀制厚度为d0的金属膜层，标记为I类样品；2)在金属膜层上分别镀制不同厚度的SiO2膜层，标记为II类样品；3)利用能谱仪分别测量I类样品和II类样品的金属元素M占比，利用I类样品的测量结果对II类样品的金属元素M占比进行修正；4)绘制SiO2膜层厚度和修正后的金属元素占比曲线，通过拟合方式获得金属元素M占比为0时的SiO2膜层厚度，并以此厚度作为能谱仪的探测深度，完成标定。与现有技术相比，本发明具有判定简单准确等优点。
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公开(公告)号：CN119611080A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202510048617.9
申请日：2025-01-13
Applicant: 同济大学 , 中国国家铁路集团有限公司 , 中国铁道科学研究院集团有限公司 , 北京纵横机电科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基于涡流制动器的黏着制动力增强方法及系统，包括以下步骤：当高速列车实施紧急制动，线性涡流制动器通入励磁电流进入工作状态；在配合线性涡流制动器产生的纵向非黏着制动力的基础上，通过计算最大轴重与实际轴重的盈余控制励磁电流使垂向吸力处于安全范围，同时利用产生的垂向吸力，结合黏着系数计算得出增大的高速列车黏着力可用域；将可用附加黏着力反馈回黏着制动系统提高黏着制动力，提升高速列车的制动效果；配合线性涡流制动器产生的纵向非黏着制动力，进而实现多工况下的制动力和黏着力高效匹配利用。本发明可应用于任意种类的线性涡流制动器，在原有高速列车制动系统的基础上，进一步提升了总制动力，提高了制动效率。
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公开(公告)号：CN104977303B
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201510344616.5
申请日：2015-06-19
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/88
Abstract: 本发明涉及一种面向透射型光学基板中吸收性缺陷深度位置的检测方法，包括：建立微米空间分辨和纳秒时间分辨的成像系统；将金属颗粒旋涂在光学基板表面，再镀制与光学基板质地类似的不同厚度的薄膜，等效将吸收性缺陷植入在光学基板的不同深度位置；利用所述成像系统拍摄相同深度位置缺陷在不同时间阶段、不同深度位置缺陷在同一时间阶段的损伤行为，建立不同深度位置缺陷的损伤行为判定标准；对实际光学基板进行缺陷深度检测，并与建立的不同深度位置缺陷损伤行为判定标准进行比对，实现吸收性缺陷的深度位置检测。与现有技术相比，本发明能对缺陷损伤特征、所在深度位置和损伤阈值等信息进行分析，具有识别精度高、实现简单的优点。
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公开(公告)号：CN106944884A
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201710070812.7
申请日：2017-02-09
Applicant: 同济大学 , 上海天粹自动化设备有限公司
Abstract: 本发明涉及一种氟化钙晶体表面清洗方法，包括以下步骤：利用CeO2抛光颗粒在沥青盘上对氟化钙晶体进行低速低压力抛光，氟化钙晶体表面粗糙度
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