一种提高光学表面轮廓仪检测精度和最高有效分辨频率的方法

    公开(公告)号:CN106247987A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610827114.2

    申请日:2016-09-18

    Applicant: 同济大学

    CPC classification number: G01B11/2441

    Abstract: 本发明涉及一种提高光学表面轮廓仪检测精度和最高有效空间分辨频率的方法。白噪声是一种功率谱密度为常数的随机信号或随机过程,导致在功率谱密度曲线中出现拖尾现象。依据白噪声的性质和规律,本发明在空间频域对表面微观结构和白噪声进行展开,利用功率谱密度曲线评价白噪声影响的频域范围,通过特定频域的有效平均测量,降低了白噪声的影响,获得了最优测量精度和最高有效空间频率两者的选取标准。本发明原理简单,操作便捷,显著降低了光学轮廓仪校准的操作难度和成本,并可确定光学表面轮廓仪的最高有效空间分辨率。

    一种利用高纯气体混合搅拌的微米亚微米抛光液精选方法

    公开(公告)号:CN105176406A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201510644692.8

    申请日:2015-10-09

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明公开了一种利用高纯气体混合搅拌的微米亚微米抛光液精选方法,特别适用于超光滑表面古典法抛光用的微米亚微米级氧化铈、氧化铁、氧化铝抛光液的筛选,具体步骤为:将抛光粉和高纯去离子水放入洁净容器中,通入洁净气体混合5~8分钟后静置3~5分钟,抛光粉颗粒在重力、浮力和液体阻力的共同作用下出现分层现象,利用虹吸管将上层1/2~2/3体积的溶液吸出;在吸出的溶液中加入等量水后再通入气体混合5~8分钟后静置3~5分钟,利用虹吸管吸出上层1/3~1/2体积的溶液,得到微粒粒径分布均匀的抛光液。该方法筛选的溶液粒径更小,粒度分布更均匀,用于超光滑表面抛光,不容易产生划痕,是超光滑表面抛光工艺中的关键技术。

    一种光纤传输的非绝热近场光学诱导化学刻蚀方法

    公开(公告)号:CN103160830A

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN201310066796.6

    申请日:2013-03-04

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种光纤传输的非绝热近场光学诱导化学刻蚀方法,该方法属于光学器件制作领域,主要针对常规的超精密光学器件制作技术要么是加工效率不高,要么是其表面粗糙度控制的不够低,难以进一步降低表面粗糙度获得无缺陷的超光滑表面。光纤传输的非绝热近场光学诱导化学刻蚀方法是基于激光作用下的选择性化学反应,去除表面的纳米凸起、凹坑和划痕等表面微缺陷,与此同时在粗糙结构消失时光化学反应自动停止,从而获得超光滑表面。此方法不仅大大的降低了光学器件表面的粗糙度,而且具有针对性强、简单易行的特点。

    一种利用高纯气体混合搅拌的微米亚微米抛光液精选方法

    公开(公告)号:CN105176406B

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201510644692.8

    申请日:2015-10-09

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明公开了一种利用高纯气体混合搅拌的微米亚微米抛光液精选方法,特别适用于超光滑表面古典法抛光用的微米亚微米级氧化铈、氧化铁、氧化铝抛光液的筛选,具体步骤为:将抛光粉和高纯去离子水放入洁净容器中,通入洁净气体混合5~8分钟后静置3~5分钟,抛光粉颗粒在重力、浮力和液体阻力的共同作用下出现分层现象,利用虹吸管将上层1/2~2/3体积的溶液吸出;在吸出的溶液中加入等量水后再通入气体混合5~8分钟后静置3~5分钟,利用虹吸管吸出上层1/3~1/2体积的溶液,得到微粒粒径分布均匀的抛光液。该方法筛选的溶液粒径更小,粒度分布更均匀,用于超光滑表面抛光,不容易产生划痕,是超光滑表面抛光工艺中的关键技术。

    一种基于子孔径拼接的高精度平面光学元件面型检测方法

    公开(公告)号:CN103217125A

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201310098554.5

    申请日:2013-03-26

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于子孔径拼接的高精度平面光学元件面型检测方法。所述检测装置包括:二维平移台、干涉仪和标准平面透镜,具体步骤为:将所述平面光学元件固定在二维平移台上,干涉仪对准所述平面光学元件的位置;调节二维平移台到达指定目标分布区域,使干涉仪出瞳对准平面光学元件的几何中心部分,干涉仪对该几何中心部分进行采集测量计算,得到该子孔径面型信息;重复前述步骤,直到完成全部子孔径的测量,即可实现所述平面光学元件的子孔径测量。本发明针对高精度平面光学元件面形平面度较高的特点,通过一定拼接算法恢复完整被测平面元件面型,为高精度平面光学元件面型检验提供一种经济有效的检测方法。

    一种自由空间传输的近场光学诱导表面微结构平滑方法

    公开(公告)号:CN103205753A

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN201310066774.X

    申请日:2013-03-04

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种自由空间传输的近场光学诱导表面微结构平滑方法,该方法属于光学器件加工领域,主要针对常规的超精密光学器件制作技术要么是加工效率不高,要么是其表面粗糙度控制的不够低,难以有效地平滑表面微结构。自由空间传输的近场光学诱导表面微结构平滑方法是基于自由空间在激光辅助下发生的选择性化学反应,去除表面的纳米凸起、凹坑和划痕等表面微结构,与此同时在表面微结构消失时光化学反应自动停止,从而获得超光滑表面。此方法不仅大大的降低了光学器件表面的粗糙度,而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。

    一种基于稀疏孔径拼接的平面光学元件检测方法

    公开(公告)号:CN102901462A

    公开(公告)日:2013-01-30

    申请号:CN201210362668.1

    申请日:2012-09-26

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于稀疏孔径拼接的平面光学元件检测方法。子所述检测装置包括:二维平移台、干涉仪和标准平面透镜,具体步骤为:将所述平面光学元件固定在二维平移台上,干涉仪对准所述平面光学元件的位置;调节二维平移台到达指定目标分布区域,使干涉仪出瞳对准平面光学元件的几何中心部分,干涉仪对该几何中心部分进行采集测量计算,得到该子孔径面型信息;重复前述步骤,直到完成全部子孔径的测量,即可实现所述平面光学元件的稀疏子孔径测量。本发明针对环形抛光的平面光学元件面形具有较高圆对称性的特点,通过一定规则指定检测区域,可达到不覆盖全孔径,快速完成大口径光学平面的稀疏孔径检测的目的,为环形抛光的工序检验提供一种经济的检测方法。

Patent Agency Ranking