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公开(公告)号：CN119768899A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202380061904.2
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/368 , H01L21/208
Abstract: 根据实施方式，提供一种能够形成均匀的涂布膜的、用于通过弯月面法来形成涂布膜的涂布装置和涂布方法。该涂布装置具备：涂布棒；基材输送部件，输送所述基材；多个喷嘴，向所述涂布棒的表面供给所述涂布液；以及涂布液供给部件，向所述喷嘴供给所述涂布液，在所述喷嘴各自的上游侧具备涂布液供给量调整部件，所述涂布液供给量调整部件调整向所述喷嘴供给的涂布液的供给量。
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公开(公告)号：CN119744203A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202380061041.9
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 根据实施方式，提供涂敷头、涂敷装置以及涂敷方法，能够形成均匀的涂敷膜且用于通过狭缝涂敷来形成涂敷膜。该涂敷头具备：歧管，在内部暂时存积涂敷液；狭缝，排出存积在上述歧管内的涂敷液；以及多个涂敷液供给口，向上述歧管导入涂敷液，上述歧管具有柱状形状，与上述涂敷头的长度方向大致平行地配置在上述涂敷头的内部，在上述歧管的长度方向的两端配置有上述多个涂敷液供给口。
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公开(公告)号：CN119731773A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202380059793.1
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/368 , H01L21/208
Abstract: 根据实施方式，提供一种能够形成均匀的涂布膜的涂布装置及涂布方法。该涂布装置(100)具备涂布杆、搬送基材的基材搬送部件和向所述涂布杆供给涂布液的涂布液供给部件。并且，在所述涂布杆的涂布下游还具备均匀化杆，所述均匀化杆配置于使所述涂布液在所述均匀化杆与所述基材之间形成弯液面的位置。
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公开(公告)号：CN115997281A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202180050684.4
申请日：2021-08-19
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/768
Abstract: 本发明提供一种能够得到稳定特性的导电部件、电子装置以及导电部件的制造方法。根据实施方式，导电部件包括：包括金属纳米线的第1层、包括聚噻吩部件的第2层、以及包括含有石墨烯骨架的石墨烯部件的第3层。所述第2层设置在所述金属纳米线与所述第3层之间。
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公开(公告)号：CN115569648A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211426631.0
申请日：2019-09-12
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B01J23/652 , B01J23/60 , B01J23/50 , B01J23/648 , B01J23/62 , B01J37/02 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , A01N59/16 , A01P1/00 , B01D53/86 , B01D53/72 , B01D53/58 , C02F1/30
Abstract: 本发明提供高活性且能够简便地制作且不易剥离的光催化剂复合材料、其制作方法及光催化剂装置。一种光催化剂复合材料，其包含基材和由光催化剂粒子形成的光催化剂层，与基材表面相接的光催化剂层的平均粒径小于光催化剂层表面的平均粒径。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114302773A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202080058863.8
申请日：2020-08-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 根据实施方式，涂敷装置包括第1管、第1泵、第1、第2喷嘴以及保持部。第1管包括第1流入口、第1流出口以及第2流出口。第1泵可朝向第1流入口供给液体。第1喷嘴包括第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。第1喷嘴流入口与第1流出口连接。第1喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。第2喷嘴包括第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。第2喷嘴流入口与第2流出口连接。第2喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。保持部保持第1、第2喷嘴。保持部可形成第1、第2状态。在第1状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度在第1管的高度以上。在第2状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度也比第1管的高度低。
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公开(公告)号：CN110893342A
公开(公告)日：2020-03-20
申请号：CN201910863185.1
申请日：2019-09-12
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B01J23/652 , B01J23/60 , B01J23/50 , B01J23/648 , B01J23/62 , B01J37/02 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , A01N59/16 , A01P1/00 , B01D53/86 , B01D53/72 , B01D53/58 , C02F1/30
Abstract: 本发明提供高活性且能够简便地制作且不易剥离的光催化剂复合材料、其制作方法及光催化剂装置。一种光催化剂复合材料，其包含基材和由光催化剂粒子形成的光催化剂层，与基材表面相接的光催化剂层的平均粒径小于光催化剂层表面的平均粒径。
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公开(公告)号：CN100587986C
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200810004026.8
申请日：2008-01-16
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L33/507 , H01L33/44 , H01L33/60 , H01L2224/45144 , H01L2224/48091 , Y10S362/80 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 一种发光器件，包括发射激发光的发光元件和荧光元件。所述荧光元件包括面向发光元件的透射激发光的半透明膜；包括磷光体的发光膜，用来吸收透射穿过半透明膜的激发光、并发射波长不同于所述激发光的可见光；以及布置在其上布置有半透明膜的发光膜相反一侧上的反射膜，用来将透射穿过发光膜的激发光反射向发光膜。
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公开(公告)号：CN100517782C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200610093141.8
申请日：2006-06-22
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L33/507 , H01L33/505 , H01L33/60 , H01L2224/45144 , H01L2224/48091 , H01L2924/3025 , H01S5/005 , H01S5/02248 , H01S5/0228 , H01S5/183 , H01S5/32341 , H01S5/327 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 一种半导体发光装置，包括：半导体发光元件，发射紫外范围和可见范围内的光束；以及荧光元件，吸收来自所述半导体发光元件的所述光束，并在光出射方向上输出可见光束，所述光出射方向不同于发光方向。在所述半导体发光装置内吸收由所述发光元件发射的所述光束。
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公开(公告)号：CN206768237U
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201690000258.4
申请日：2016-03-04
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 实施方式的电极是具有第1表面、与所述第1表面对置的第2表面、和从所述第1表面贯通至所述第2表面的多个贯通孔的电解用的同一基材电极，其具有在所述第1表面开口的多个第1凹部、和在所述第2表面开口并且开口面积宽于所述第1凹部的多个第2凹部，所述第1凹部的开口的除去催化剂后的基材的边缘部的曲率半径为0.01mm以上。
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