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公开(公告)号：CN117836872A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202280056820.5
申请日：2022-07-05
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供能够在低温下制作、实现小的方块电阻、高透射且轻量、挠性的太阳能电池或大面积的照明等的透明电极及其制造方法和使用了上述透明电极的电子器件。实施方式的透明电极具有银纳米线的网络。该透明电极具有曲线的最小曲率半径r为2μm以下、弯曲角度Θ为90°以上的银纳米线，以及包含沸点为160℃以下、具有炔基和羟基的化合物。
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公开(公告)号：CN114302773B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202080058863.8
申请日：2020-08-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 根据实施方式，涂敷装置包括第1管、第1泵、第1、第2喷嘴以及保持部。第1管包括第1流入口、第1流出口以及第2流出口。第1泵可朝向第1流入口供给液体。第1喷嘴包括第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。第1喷嘴流入口与第1流出口连接。第1喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。第2喷嘴包括第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。第2喷嘴流入口与第2流出口连接。第2喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。保持部保持第1、第2喷嘴。保持部可形成第1、第2状态。在第1状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度在第1管的高度以上。在第2状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度也比第1管的高度低。
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公开(公告)号：CN112074965A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201880090582.3
申请日：2018-03-16
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供电阻小、光透射性高并且能够用简便的方法制作的透明电极的制造方法以及制造装置。提供一种制造方法、利用该制造方法的透明电极的制造装置，所述制造方法的特征在于，具有：在疏水性的聚合物膜上涂敷金属纳米线分散液的工序；将所述聚合物上的金属纳米线和导电性基板直接压接的工序；以及使所述金属纳米线层剥离，而转印到所述导电性基板的工序。
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公开(公告)号：CN111183357A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201880056118.2
申请日：2018-09-13
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: G01N27/416 , H01L51/50 , H05B33/28
Abstract: [课题]提供以简便方法评价含石墨烯膜的阴离子透过性的方法和使用控制离子透过性的含石墨烯膜的光电转换元件。[解决手段]该方法包括：(i)准备具备含阴离子的水溶液、含金属银的工作电极、对电极和参比电极的测量装置，(ii)各电极与水溶液接触时边周期性改变工作电极相对对电极的电极电位边扫描，测量金属银与阴离子的反应电流I0，(iii)代替工作电极，测量与工作电极电连接的含石墨烯膜与水溶液接触时的反应电流I1,(iv)比较I0与I1，评价含石墨烯膜的阴离子透过性。提供具备含石墨烯膜的光电转换元件，当根据上述方法测量反应电流时反应电流I1的曲线在正电位侧具有峰，正电位侧累积电荷量Q1为不具含石墨烯膜的正侧累积电荷量Q0的20％以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119768899A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202380061904.2
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/368 , H01L21/208
Abstract: 根据实施方式，提供一种能够形成均匀的涂布膜的、用于通过弯月面法来形成涂布膜的涂布装置和涂布方法。该涂布装置具备：涂布棒；基材输送部件，输送所述基材；多个喷嘴，向所述涂布棒的表面供给所述涂布液；以及涂布液供给部件，向所述喷嘴供给所述涂布液，在所述喷嘴各自的上游侧具备涂布液供给量调整部件，所述涂布液供给量调整部件调整向所述喷嘴供给的涂布液的供给量。
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公开(公告)号：CN119744203A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202380061041.9
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 根据实施方式，提供涂敷头、涂敷装置以及涂敷方法，能够形成均匀的涂敷膜且用于通过狭缝涂敷来形成涂敷膜。该涂敷头具备：歧管，在内部暂时存积涂敷液；狭缝，排出存积在上述歧管内的涂敷液；以及多个涂敷液供给口，向上述歧管导入涂敷液，上述歧管具有柱状形状，与上述涂敷头的长度方向大致平行地配置在上述涂敷头的内部，在上述歧管的长度方向的两端配置有上述多个涂敷液供给口。
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公开(公告)号：CN119731773A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202380059793.1
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/368 , H01L21/208
Abstract: 根据实施方式，提供一种能够形成均匀的涂布膜的涂布装置及涂布方法。该涂布装置(100)具备涂布杆、搬送基材的基材搬送部件和向所述涂布杆供给涂布液的涂布液供给部件。并且，在所述涂布杆的涂布下游还具备均匀化杆，所述均匀化杆配置于使所述涂布液在所述均匀化杆与所述基材之间形成弯液面的位置。
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公开(公告)号：CN115997281A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202180050684.4
申请日：2021-08-19
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/768
Abstract: 本发明提供一种能够得到稳定特性的导电部件、电子装置以及导电部件的制造方法。根据实施方式，导电部件包括：包括金属纳米线的第1层、包括聚噻吩部件的第2层、以及包括含有石墨烯骨架的石墨烯部件的第3层。所述第2层设置在所述金属纳米线与所述第3层之间。
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公开(公告)号：CN114302773A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202080058863.8
申请日：2020-08-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 根据实施方式，涂敷装置包括第1管、第1泵、第1、第2喷嘴以及保持部。第1管包括第1流入口、第1流出口以及第2流出口。第1泵可朝向第1流入口供给液体。第1喷嘴包括第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。第1喷嘴流入口与第1流出口连接。第1喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。第2喷嘴包括第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。第2喷嘴流入口与第2流出口连接。第2喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。保持部保持第1、第2喷嘴。保持部可形成第1、第2状态。在第1状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度在第1管的高度以上。在第2状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度也比第1管的高度低。
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