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公开(公告)号：CN114302773B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202080058863.8
申请日：2020-08-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 根据实施方式，涂敷装置包括第1管、第1泵、第1、第2喷嘴以及保持部。第1管包括第1流入口、第1流出口以及第2流出口。第1泵可朝向第1流入口供给液体。第1喷嘴包括第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。第1喷嘴流入口与第1流出口连接。第1喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。第2喷嘴包括第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。第2喷嘴流入口与第2流出口连接。第2喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。保持部保持第1、第2喷嘴。保持部可形成第1、第2状态。在第1状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度在第1管的高度以上。在第2状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度也比第1管的高度低。
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公开(公告)号：CN111183357A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201880056118.2
申请日：2018-09-13
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: G01N27/416 , H01L51/50 , H05B33/28
Abstract: [课题]提供以简便方法评价含石墨烯膜的阴离子透过性的方法和使用控制离子透过性的含石墨烯膜的光电转换元件。[解决手段]该方法包括：(i)准备具备含阴离子的水溶液、含金属银的工作电极、对电极和参比电极的测量装置，(ii)各电极与水溶液接触时边周期性改变工作电极相对对电极的电极电位边扫描，测量金属银与阴离子的反应电流I0，(iii)代替工作电极，测量与工作电极电连接的含石墨烯膜与水溶液接触时的反应电流I1,(iv)比较I0与I1，评价含石墨烯膜的阴离子透过性。提供具备含石墨烯膜的光电转换元件，当根据上述方法测量反应电流时反应电流I1的曲线在正电位侧具有峰，正电位侧累积电荷量Q1为不具含石墨烯膜的正侧累积电荷量Q0的20％以下。
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公开(公告)号：CN115997281A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202180050684.4
申请日：2021-08-19
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/768
Abstract: 本发明提供一种能够得到稳定特性的导电部件、电子装置以及导电部件的制造方法。根据实施方式，导电部件包括：包括金属纳米线的第1层、包括聚噻吩部件的第2层、以及包括含有石墨烯骨架的石墨烯部件的第3层。所述第2层设置在所述金属纳米线与所述第3层之间。
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公开(公告)号：CN114302773A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202080058863.8
申请日：2020-08-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 根据实施方式，涂敷装置包括第1管、第1泵、第1、第2喷嘴以及保持部。第1管包括第1流入口、第1流出口以及第2流出口。第1泵可朝向第1流入口供给液体。第1喷嘴包括第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。第1喷嘴流入口与第1流出口连接。第1喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。第2喷嘴包括第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。第2喷嘴流入口与第2流出口连接。第2喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。保持部保持第1、第2喷嘴。保持部可形成第1、第2状态。在第1状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度在第1管的高度以上。在第2状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度也比第1管的高度低。
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公开(公告)号：CN115315318B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202180016238.1
申请日：2021-03-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117062675A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280016250.7
申请日：2022-02-21
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: B05C1/02
Abstract: 提供能形成均匀的涂敷膜的涂敷装置以及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包括涂敷杆、多个喷嘴、多个保持部以及检测部。上述涂敷杆能与被涂敷构件相向。上述多个喷嘴能朝上述涂敷杆供给液体。上述多个保持部中的一个保持部保持上述多个喷嘴中的一个喷嘴。上述多个保持部中的一个保持部能控制以上述涂敷杆为基准的上述多个喷嘴中的上述一个喷嘴的位置。上述检测部能检测与以上述涂敷杆为基准的上述多个喷嘴各自的位置相对应的量。
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公开(公告)号：CN115315318A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202180016238.1
申请日：2021-03-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
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公开(公告)号：CN112789744B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN201980056531.3
申请日：2019-09-10
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H10K30/81 , H10K30/82 , H10K50/805 , H10K71/60 , B32B9/00 , B32B15/02 , H01B13/00 , H01L21/288 , H01L31/0224 , H05B33/28
Abstract: [课题]本发明提供能够以使元件劣化少的、简便的方法制造电阻低且后加工容易的电极的方法、以及利用该方法的光电转换元件的制造方法。[解决手段]电极的制造方法包括如下工序：在疏水性基材的表面上直接涂布金属纳米材料分散液，以形成金属纳米材料层的工序；通过在上述金属纳米粒子层的表面上涂布碳材料分散液以形成碳材料层，从而形成包括金属纳米材料层与碳材料层的叠层体的电极层的工序；将上述碳材料层的表面与亲水性基材直接压接的工序；以及，剥离上述疏水性基材，将上述电极层转印至上述亲水性基材的表面的工序。
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公开(公告)号：CN113631277B
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202080017045.3
申请日：2020-03-09
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供一种能够形成均匀的涂布膜的涂布头、涂布装置及涂布方法。根据实施方式，涂布头包括涂布棒、多个喷嘴、第1～第3构件、弹性构件以及位置控制部。多个喷嘴朝向涂布棒供给液体。第1构件包括多个第1凹部。多个喷嘴的1个的至少一部分位于多个第1凹部的1个与多个第3构件的1个之间。多个喷嘴的1个的至少一部分和多个第3构件的1个通过多个第2构件的1个固定于第1构件。多个弹性构件的1个设置在第1～第3位置中的至少任一个。第1位置是多个第3构件的1个与多个第2构件的1个之间。第2位置是多个第1凹部的1个的至少一部分与多个喷嘴的1个之间。第3位置是多个喷嘴的1个的至少一部分与多个第3构件的1个之间。
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