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公开(公告)号:CN111816784B
公开(公告)日:2025-03-04
申请号:CN202010168615.0
申请日:2020-03-12
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H10K59/122 , H10K50/85 , H10K50/86 , H10K50/805
Abstract: 本公开的实施例提供了一种显示装置,所述显示装置包括:基底;薄膜晶体管,位于基底上;第一电极,电连接到薄膜晶体管;发光层和第二电极,与第一电极叠置;第一间隔壁,位于第一电极与第二电极之间;以及第二间隔壁,与第一间隔壁叠置,其中,第一间隔壁包括黑色颜料和黑色染料中的至少一种,其中,第二间隔壁包括有机绝缘材料,其中,第二间隔壁的一部分与第一电极叠置。
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公开(公告)号:CN111613643B
公开(公告)日:2025-03-04
申请号:CN202010106240.5
申请日:2020-02-21
Applicant: 三星显示有限公司
Inventor: 李德重
IPC: H10K59/122 , H10K50/11 , H10K50/805 , G09F9/33
Abstract: 提供了一种透明显示装置,所述透明显示装置包括:基体基底;多个像素,设置在基体基底上,每个像素具有发射区域和对外部光透明的透射区域;电路元件层,设置在基体基底上;第一电极,设置在电路元件层上并且与发射区域对应;像素限定层,设置在电路元件层上,像素限定层包括限定发射区域的第一侧壁和限定透射区域的第二侧壁;发射层,设置在第一电极上并且与发射区域对应;以及第二电极,设置在发射层上并且包括与透射区域对应的开口,其中,第一侧壁以第一角度倾斜,并且第二侧壁以比第一角度大的第二角度倾斜。
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公开(公告)号:CN119451429A
公开(公告)日:2025-02-14
申请号:CN202410473088.2
申请日:2024-04-19
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H10K59/121 , H10K59/80 , H10K59/122 , H10K59/131 , H10K59/12 , H10K71/00 , H10K50/805
Abstract: 公开了一种像素和制造像素的方法,所述像素包括:基底;像素电路,设置在基底上并且包括至少一个晶体管和至少一个电容器;第一接触金属,设置在基底上并且恒定电压施加到第一接触金属;无机层,覆盖第一接触金属;第一像素电极,设置在无机层上并且电连接到像素电路;像素限定膜,设置在第一像素电极上;第二接触金属,设置在像素限定膜上并且电连接到第一接触金属;分隔件,设置在第二接触金属上;有机发光部分,设置在第一像素电极上;以及第二像素电极,设置在有机发光部分上并且连接到第二接触金属。
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公开(公告)号:CN119422469A
公开(公告)日:2025-02-11
申请号:CN202380049683.7
申请日:2023-06-01
Applicant: 佳能特机株式会社
IPC: H10K71/16 , C23C14/04 , C23C16/04 , H10K50/11 , H10K50/805 , H10K50/84 , H10K71/60 , H10K102/20
Abstract: 实施方式的成膜方法具有:第一成膜工序,使用掩模在基板上形成由有机材料构成的第一膜;以及第二成膜工序,使用与所述第一成膜工序共同的所述掩模,在所述基板上形成由无机材料构成的第二膜。
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公开(公告)号:CN119306475A
公开(公告)日:2025-01-14
申请号:CN202411235843.X
申请日:2024-09-04
Applicant: 中山智隆新材料科技有限公司
IPC: C04B35/01 , H10K71/60 , H10K50/10 , H10K50/828 , H10K50/805 , C23C14/34
Abstract: 本发明属于氧化物靶材技术领域,具体公开了一种氧化铟镓钛靶材及其制备方法和应用。本发明的氧化铟镓钛靶材的制备原料按质量份数计包括氧化铟95~99份、氧化镓0.5~2份和二氧化钛0.6~3份。本发明通过在氧化铟基靶材中掺杂合适比例的氧化镓和二氧化钛,可以在保持靶材相对较低的电阻率的前提下,使该靶材制备的氧化物薄膜具备优异的透光性,并且该靶材制备的氧化物薄膜具备较好的机械柔韧性,可以更好地应用于柔性OLEDs。本发明还提供该氧化铟镓钛靶材的制备方法。
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公开(公告)号:CN119256641A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202280002077.5
申请日:2022-06-30
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC: H10K59/12 , H10K71/00 , H10K59/122 , H10K50/805 , H10K50/84
Abstract: 一种显示基板及其制作方法、以及显示装置。显示基板包括衬底基板、多个子像素,像素限定层以及平坦化层,多个子像素中的每个子像素包括发光元件;像素限定层包括主体部及多个开口;平坦化层设置在衬底基板和像素限定层之间,主体部包括第一主体子部和第二主体子部,第二主体子部相对于第一主体子部突出,以形成隔断结构,多个膜层中的至少一层在主体部的隔断结构处断开,位于开口中的第一电极的远离衬底基板一侧的发光功能层在衬底基板上的正投影与位于主体部的远离衬底基板一侧的发光功能层在衬底基板上的正投影至少部分交叠。隔断结构可将发光功能层中的至少一个膜层断开,有利于减轻相邻子像素之间发生串扰。
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公开(公告)号:CN119255676A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202411392351.1
申请日:2024-09-30
Applicant: 惠科股份有限公司
IPC: H10K59/80 , H10K59/12 , H10K50/805 , H10K50/858 , H10K50/86
Abstract: 本发明公开了一种显示面板和显示装置,涉及显示技术领域,显示面板包括基板、第一电极层、防窥层、多个发光单元、多个防窥单元和彩色光阻层,第一电极层设置在基板表面;防窥层设置在第一电极层的表面;多个发光单元间隔设置在防窥层的表面并相连接,相邻两个发光单元之间限定出容置空间;防窥单元对应设置在容置空间内;彩色光阻层设置在发光单元背向防窥层的一侧,其黑色矩阵对应防窥单元设置;防窥层在第一电极层的控制下可发出防窥光线,以使得显示面板处于防窥模式,防窥单元在防窥模式下可变为深色和膨胀变形,以使得防窥光源发出的防窥光折射并经由彩色光阻射出;本发明的技术方案在不改变显示面板厚度的前提下能实现自由控制防窥功能。
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公开(公告)号:CN110875437B
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN201910651062.1
申请日:2019-07-18
Applicant: 三国电子有限会社
Inventor: 田中荣
IPC: H10K50/805 , H10K50/16
Abstract: 本发明的有机电致发光元件具有:第1电极;第3电极,其具有和第1电极对向的区域;第1绝缘层,其在第1电极和第3电极之间;第2绝缘层,其在第1绝缘层和第3电极之间;电子传输层,其在第1绝缘层和第3电极之间;发光层,其在电子传输层和第3电极之间,包含有机电致发光材料;及第2电极,其配置在第1绝缘层和第2绝缘层之间,且和电子传输层电性连接。第2绝缘层具有开口部,在该开口部具有第3电极、发光层、电子传输层、第1绝缘层、及第1电极重叠的重叠区域,第2电极配置在重叠区域的外侧。
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公开(公告)号:CN119183318A
公开(公告)日:2024-12-24
申请号:CN202411296020.8
申请日:2024-09-14
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 云南创视界光电科技有限公司
IPC: H10K59/12 , H10K59/122 , H10K59/80 , H10K59/131 , H10K71/00 , H10K50/805 , H10K50/84
Abstract: 本公开提供一种显示基板,划分为多个像素区和填充在像素区之间的间隔区;其包括:衬底基板;包括多个第一电极的第一电极层;像素限定层,设置在第一电极层背离衬底基板的一侧,像素限定层包括位于像素区的像素开口,以及位于间隔区的像素挡墙;多层发光层,覆盖在像素限定层背离第一电极层的一侧,且多层发光层依次叠置;连接层,在相邻设置的发光层之间设置有连接层,且连接层覆盖发光层;包括各发光单元的第二电极的第二电极层;其中,显示基板还包括位于像素挡墙和多层发光层中最靠近衬底基板的一者之间的阻挡件;阻挡件具有沿其厚度方向至少部分贯穿的第一槽部;连接层位于第一槽部内的部分的导电率,小于位于像素区的部分的导电率。
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公开(公告)号:CN109841658B
公开(公告)日:2024-12-03
申请号:CN201811433105.0
申请日:2018-11-28
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H10K59/12 , H10K59/131 , H10K59/80 , H10K50/805
Abstract: 本发明公开一种导电图案、包括该图案的显示设备和制造导电图案的方法。显示设备的导电图案包括:布置在基板上的第一层,包括铝或铝合金并且与基板形成第一锥角;以及布置在第一层上并且与第一层形成第二锥角的第二层,其中第二锥角小于第一锥角。
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