涂敷装置以及涂敷方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114302773B

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202080058863.8

    申请日:2020-08-04

    Abstract: 根据实施方式,涂敷装置包括第1管、第1泵、第1、第2喷嘴以及保持部。第1管包括第1流入口、第1流出口以及第2流出口。第1泵可朝向第1流入口供给液体。第1喷嘴包括第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。第1喷嘴流入口与第1流出口连接。第1喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。第2喷嘴包括第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。第2喷嘴流入口与第2流出口连接。第2喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。保持部保持第1、第2喷嘴。保持部可形成第1、第2状态。在第1状态下,第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度在第1管的高度以上。在第2状态下,第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度也比第1管的高度低。

    含石墨烯膜的阴离子透过性评价方法和光电转换元件

    公开(公告)号:CN111183357A

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201880056118.2

    申请日:2018-09-13

    Abstract: [课题]提供以简便方法评价含石墨烯膜的阴离子透过性的方法和使用控制离子透过性的含石墨烯膜的光电转换元件。[解决手段]该方法包括:(i)准备具备含阴离子的水溶液、含金属银的工作电极、对电极和参比电极的测量装置,(ii)各电极与水溶液接触时边周期性改变工作电极相对对电极的电极电位边扫描,测量金属银与阴离子的反应电流I0,(iii)代替工作电极,测量与工作电极电连接的含石墨烯膜与水溶液接触时的反应电流I1,(iv)比较I0与I1,评价含石墨烯膜的阴离子透过性。提供具备含石墨烯膜的光电转换元件,当根据上述方法测量反应电流时反应电流I1的曲线在正电位侧具有峰,正电位侧累积电荷量Q1为不具含石墨烯膜的正侧累积电荷量Q0的20%以下。

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