发光二极管器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN100527452C

    公开(公告)日:2009-08-12

    申请号:CN200480006244.5

    申请日:2004-02-09

    Abstract: 一种双异质结构发光二极管器件,包括有源层(6)、正电极侧覆层、负电极侧覆层(4)、窗口层(9)和未掺杂AlInP层。正电极侧覆层包括生长到0.5μm厚度的未掺杂AlInP层(7),和掺杂呈现p型导电性并具有落入未掺杂AlInP层的能带隙值和窗口层的能带隙值之间的中间能带隙值的中间层(8)。中间层上的窗口层是在730℃或更高温度下并以7.8μm/小时或更快的生长速率在存在作为掺杂剂的Zn时生长的GaP层。负电极侧覆层具有0.1μm或更大厚度的未掺杂AlInP层(5)。利用这种结构,提供了一种发光二极管器件,能够提高窗口层的结晶度,防止由高温处理引起的缺陷的产生,并在落入黄绿带的波长下获得高亮度。

    发光二极管器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1759490A

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:CN200480006244.5

    申请日:2004-02-09

    Abstract: 一种双异质结构发光二极管器件,包括有源层(6)、正电极侧覆层、负电极侧覆层(4)、窗口层(9)和未掺杂AlInP层。正电极侧覆层包括生长到0.5μm厚度的未掺杂AlInP层(7),和掺杂呈现p型导电性并具有落入未掺杂AlInP层的能带隙值和窗口层的能带隙值之间的中间能带隙值的中间层(8)。中间层上的窗口层是在730℃或更高温度下并以7.8μm/小时或更快的生长速率在存在作为掺杂剂的Zn时生长的GaP层。负电极侧覆层具有0.1μm或更大厚度的未掺杂AlInP层(5)。利用这种结构,提供了一种发光二极管器件,能够提高窗口层的结晶度,防止由高温处理引起的缺陷的产生,并在落入黄绿带的波长下获得高亮度。

    发光二极管及其制造方法以及发光二极管灯

    公开(公告)号:CN102822999B

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201180017382.3

    申请日:2011-02-02

    Abstract: 本发明提供一种发光二极管,其在光取出面上具有两个电极,光取出效率高,为高辉度。本发明涉及的发光二极管(1),是具有含有发光层(10)的发光部(7)的化合物半导体层(2)和透明基板(3)相接合了的发光二极管,其特征在于,在化合物半导体层(2)的主要的光取出面(2a)侧设置有第1电极(4)和第2电极(5),透明基板(3)具有:与化合物半导体层(2)接合的上表面(3A);面积比上表面(3A)的面积小的底面(3B);和至少含有从上表面侧朝向底面侧倾斜的倾斜面(3b)的侧面,第1和第2电极(4)、(5)在俯视该发光二极管时配置在将底面(3B)投影了的区域内。

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