清洁片、具有清洁能力的输送材料产品、清洁方法和清洁过的基板处理装置

    公开(公告)号:CN100544839C

    公开(公告)日:2009-09-30

    申请号:CN200380104054.2

    申请日:2003-11-10

    Abstract: 本发明公开了一种清洁元件,所述清洁元件在通过将清洁元件输送至装置内,清除装置内部的外来物质的过程中,不通过离子杂质污染基板处理装置。本发明还公开了一种清洁元件,所述清洁元件在通过将清洁元件输送至装置内,清除装置内部的外来物质的过程中,不通过金属杂质污染基板处理装置。具体地,公开了一种清洁片,所述清洁片的特征在于在支持体的一个表面上提供F-、Cl-、Br-、NO2-、NO3-、PO43-、SO42-、Na+、NH4+和K+的纯水提取量都为20ppm或更少(于120℃沸腾下提取1小时),而在支持体的另一个表面上具有粘合剂层。本发明还公开了一种清洁片,其特征在于在支持体的一个表面上提供Na、K、Ca、Mg、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu和Zn或其化合物的量以各自的金属元素计时各自为5ppm(μg/g)的清洁层,以及提供在另一侧上的粘合剂层。

    层叠体
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103725214B

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN201310464231.3

    申请日:2013-10-08

    Abstract: 本发明的课题在于,在冲压加工时防止由来自树脂片的树脂造成的加工用装置被污染。本发明的解决手段是提供一种层叠体,其具有支承体、在支承体的一部分上层叠的树脂片、和在树脂片上层叠的剥离片,支承体与树脂片之间的剥离力F1比树脂片与剥离片之间的剥离力F2大。

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