-
公开(公告)号：CN1297836C
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN03141106.1
申请日：2003-06-06
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/7005 , G02B26/0841 , G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 本发明提供一种曝光头和曝光装置。在不出现迷光的产生以及光效率的降低的情况下可以将对曝光面进行曝光的光束点调整到所希望的光束点直径上。在曝光头中，在DMD的微反射镜的像位置上配置第1微透镜，将这些微透镜进行2维的排列配置，使其与DMD中的各微反射镜相对应。在这些第1微透镜的后方焦点位置上分别配置第2微透镜。在曝光头中，由第2微透镜成像的微小尺寸的微反射镜的实像作为光束点对曝光面进行曝光。
-
公开(公告)号：CN1827383A
公开(公告)日：2006-09-06
申请号：CN200610009464.4
申请日：2003-12-02
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B41J2/5056 , B41J2/46 , B41J2/465 , B41J25/003 , G06K15/1238
Abstract: 本发明提供一种不会导致成本提高，可以得到高分辨率并且无斑点的图像的描绘头及其调整方法、描绘方法。在曝光范围的实际的倾斜角θ’偏离理想的倾斜角的情况下，列方向的使用像素数对应实际的倾斜角θ’变更并进行图像记录，从而在将间距的偏离控制在一定范围内。
-
公开(公告)号：CN1659937A
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN03813193.5
申请日：2003-06-06
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H05K3/10
CPC classification number: H05K3/0079 , G03F7/16 , G03F7/2035 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , H05K3/0023 , H05K3/0082 , H05K3/0091 , H05K3/064 , H05K3/125 , H05K3/4664 , H05K2203/013
Abstract: 取得用简单的步骤能进行包含2维到3维的描绘，并且能形成高精度的图案的描绘装置以及使用该描绘装置的描绘方法。在描绘装置中，在同一扫描台上配置有曝光头以及导电体喷头、绝缘体喷头，在扫描台上的印刷电路板上，能在同一扫描台上形成图案，并且能缩短图案化间的时间，能实现图案形成的高速化。另外，不产生曝光头以及喷头对印刷电路板的位置偏移，所以图案的高精度化是容易的，能形成高精度的图案。
-
公开(公告)号：CN1550876A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410043377.1
申请日：2004-05-08
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/7005 , G03F7/70283 , G03F7/70291
Abstract: 在像侧远心的第一成像光学系统(51)和第二成像光学系统(52)的任意一个中，准备在其间夹着入射光瞳位置而相邻的两个光瞳相邻透镜中的至少一方透镜的透镜面中的至少一方做成非球面的成像光学系统(50)，将从光源部件(60)发出的光束用DMD(80)进行空间光调制，由该DMD(80)进行空间光调制的2维图案通过所述成像光学系统(50)，成像在感光材料(150)上。在投影曝光装置中，当将调制的光的2维图案投影时，抑制失真，提高MFT性能，并且提高从光源发出的光的利用效率。
-
公开(公告)号：CN1550874A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410042263.5
申请日：2004-05-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 石川弘美
CPC classification number: G03F7/70291 , B41J2/451 , G02B26/0833 , G03F7/70258 , G03F7/70275
Abstract: 通过倍率调节光学系统(53)调节通过像一侧远心的第一成像光学系统(51)使由DMD(80)进行空间光调制的2维图案成像时的成像倍率。然后用DMD(80)将从光源部件(60)发出，并通过DMD照射光学系统(70)入射的光进行空间光调制，由DMD(80)进行过空间光调制的2维图案通过第一成像光学系统(51)、倍率调节光学系统(53)、微透镜阵列(55)、孔径阵列(59)、以及第二成像光学系统(52)，投影到感光材料(150)上，对该感光材料(150)曝光。在投影曝光装置中，提高对感光材料投影的2维图案的消光比。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1977221A
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200580021957.3
申请日：2005-05-31
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G02B5/20 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，可以高精细地形成微细图案，可以提高图案形成的生产性，并且可以用高析像度在感光性组合物中形成规定图案。为此，包括：使用含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂的感光性组合物，在基材的表面形成感光层的感光层形成工序；在至少利用具有n个(其中，n表示2以上的自然数)接受来自光照射机构的光并射出的描画部的光调制机构，将来自所述光照射机构的光调制后，利用穿过排列了具有可以修正由所述描画部的出射面的变形造成的像差的非球面的微透镜的微透镜阵列的光，或利用穿过排列了具有不使来自所述描画部的周边部的光射入的透镜开口形状的微透镜的微透镜阵列的光，在贫氧气氛下，将利用所述感光层形成工序形成的感光层曝光的曝光工序；将利用该曝光工序曝光了的感光层显影的显影工序。
-
公开(公告)号：CN1918696A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200580004597.6
申请日：2005-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/004 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7005 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70808
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，该方法可以形成具有良好细度和高精确性以及具有因抑制在图案形成材料上所形成的图像变形而产生的充足效率的永久图案，比如布线图案。为了实现该目的，提供了包括如下的图案形成方法：调制从激光源辐发射的激光束，补偿调制的激光束，以及由调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在载体上以形成图案形成材料，所述调制是由包括多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分都能够接收激光束和输出调制的激光束，以及所述补偿是通过使调制的激光束经过多个微透镜传输进行的，每个微透镜都具有能够补偿因成像部分的输出表面变形所导致的像差的非球形表面，并且将所述多个微透镜排列成为微透镜阵列。
-
公开(公告)号：CN1251878C
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN200310116949.X
申请日：2003-12-02
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B41J2/5056 , B41J2/46 , B41J2/465 , B41J25/003 , G06K15/1238
Abstract: 本发明提供一种不会导致成本提高，可以得到高分辨率并且无斑点的图像的图像记录头及图像记录装置。在曝光范围的实际的倾斜角θ’偏离理想的倾斜角的情况下，列方向的使用像素数对应实际的倾斜角θ’变更并进行图像记录，从而在将间距的偏离控制在一定范围内。
-
公开(公告)号：CN1550875A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410043359.3
申请日：2004-05-08
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03B27/54 , G03F7/70258 , G03F7/70308
Abstract: 在感光材料(150)和像一侧远心的第二成像光学系统(52)之间，配置具有调节通过第二成像光学系统(52)在感光材料(151)上成像的像的焦点的楔形棱镜对(540)的空气间隔调节部(54)。用DMD80将从光源部件(60)发出，通过DMD照射光学系统(70)传播的光进行空间光调制，形成光的2维图案，使空间光调制的2维图案通过光学系统(50)和所述空气间隔调节部(54)，在感光材料(150)上成像，将该2维图案投影到感光材料(150)上，进行曝光。在投影曝光装置中，更容易并且以更短时间进行将空间调制的2维图案投影到感光材料上时的对焦。
-
公开(公告)号：CN1467532A
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN03141106.1
申请日：2003-06-06
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/7005 , G02B26/0841 , G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 本发明提供一种曝光头和曝光装置。在不出现迷光的产生以及光效率的降低的情况下可以将对曝光面进行曝光的光束点调整到所希望的光束点直径上。在曝光头中，在DMD的微反射镜的像位置上配置第1微透镜，将这些微透镜进行2维的排列配置，使其与DMD中的各微反射镜相对应。在这些第1微透镜的后方焦点位置上分别配置第2微透镜。在曝光头中，由第2微透镜成像的微小尺寸的微反射镜的实像作为光束点对曝光面进行曝光。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
32
records
(took 0.031 seconds)
