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公开(公告)号：CN107793337B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201710771096.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D339/08 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。对于改善对比度有效的、含有酸消除性取代基的锍盐，其高度可溶，可均匀分散。包含锍盐作为光致产酸剂的抗蚀剂组合物形成具有高的分辨率、矩形性和降低的LWR的图案。
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公开(公告)号：CN107870519A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710888351.4
申请日：2017-09-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C323/37 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/20 , C07D409/10 , C07J31/006 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/0274 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/70341
Abstract: 本发明为锍盐、抗蚀剂组合物和图案化方法。在使用特定结构的锍盐作为PAG时，抑制了酸扩散。在通过光刻法加工时，包括所述锍盐的抗蚀剂组合物形成具有改进的光刻性质(包括EL、MEF和LWR)的图案。
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公开(公告)号：CN107793337A
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201710771096.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D339/08 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。对于改善对比度有效的、含有酸消除性取代基的锍盐，其高度可溶，可均匀分散。包含锍盐作为光致产酸剂的抗蚀剂组合物形成具有高的分辨率、矩形性和降低的LWR的图案。
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公开(公告)号：CN119805858A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411399215.5
申请日：2024-10-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D333/76 , C07D333/54 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C309/42 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位或β位具有氟原子或三氟甲基的磺酸阴离子结构及与该具有碘原子或溴原子的芳香族基团经由碳数1以上的连接基团进行键结的羧酸阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119689779A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411313908.8
申请日：2024-09-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供无论正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：酸产生剂，包含将具有碘原子或溴原子的2个芳香族基团连接而成的芳香族磺酸的鎓盐。
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公开(公告)号：CN113045465A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202011454985.7
申请日：2020-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07D335/12 , C07D327/08 , C07D339/08 , C07D279/20 , C07C25/18 , C07C39/367 , C07C69/708 , C07C43/225 , C07D347/00 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07D295/00 , C07C69/76 , C07C69/84 , C07C205/58 , C07C233/54 , C07C69/92 , C07C69/86 , C07C69/94 , C07D307/54 , C07D307/33 , C07C59/135 , C07C69/753 , C07C69/40 , C07C69/732 , C07C69/36 , C07C69/96 , C07C59/56 , C07C69/07 , C07C69/63 , C07C59/64 , C07D307/80 , C07C69/78 , C07C69/767 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN111522198A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN202010078997.8
申请日：2020-02-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极端紫外线等高能射线作为光源的光刻中，光透射性、酸扩散抑制能力优异，DOF、LWR、MEF等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含(A)由下列式(1)表示的锍盐构成的光酸产生剂、(B)对显影液的溶解性会因酸的作用而变化的基础聚合物、及(C)有机溶剂。
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