大尺寸光掩模基板的重复利用

    公开(公告)号:CN101246312A

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200710169156.2

    申请日:2007-12-10

    CPC classification number: G03F1/68 Y02P20/582

    Abstract: 具有图案化的遮光膜的用过的大尺寸光掩模基板通过以下步骤被重复利用:(i)从用过的基板去除遮光膜以提供光掩模形成玻璃基板原料,(ii)通过喷砂对玻璃基板原料进行表面重修,(iii)对表面重修的玻璃基板原料再抛光以产生再生的玻璃基板原料,(iv)将遮光膜施加到再生的玻璃基板原料上应用以产生再生的光掩模形成毛坯,以及(v)加工该毛坯的遮光膜成与所期望的母玻璃曝光相对应的图案,从而产生再生的光掩模基板。

    大尺寸光掩模基板的重复利用

    公开(公告)号:CN101246312B

    公开(公告)日:2013-04-17

    申请号:CN200710169156.2

    申请日:2007-12-10

    CPC classification number: G03F1/68 Y02P20/582

    Abstract: 具有图案化的遮光膜的用过的大尺寸光掩模基板通过以下步骤被重复利用:(i)从用过的基板去除遮光膜以提供光掩模形成玻璃基板原料,(ii)通过喷砂对玻璃基板原料进行表面重修,(iii)对表面重修的玻璃基板原料再抛光以产生再生的玻璃基板原料,(iv)将遮光膜施加到再生的玻璃基板原料上应用以产生再生的光掩模形成毛坯,以及(v)加工该毛坯的遮光膜成与所期望的母玻璃曝光相对应的图案,从而产生再生的光掩模基板。

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